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公开(公告)号：CN109313404A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780035989.1
申请日：2017-06-01
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。
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公开(公告)号：CN112925176B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202110127933.7
申请日：2017-06-01
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。
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公开(公告)号：CN112925176A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202110127933.7
申请日：2017-06-01
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。
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公开(公告)号：CN113227906A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980086222.0
申请日：2019-12-11
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·J·A·贝克曼 , 亚历山德罗·波洛 , H·P·M·派勒曼斯 , N·库马尔
摘要： 公开了一种量测设备，包括：光学元件，被配置为在所述量测设备的光瞳平面处或附近接收至少：包括第一较高衍射阶的第一辐射，和第二辐射，其包括用辐射照射量测目标而产生的零阶；并且在第一方向上一起引导所述第一辐射和第二辐射。所述量测设备还被配置为至少形成第一干涉图案的第一图像，所述第一干涉图案是由所述第一辐射和第二辐射在像平面处的干涉产生的。
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公开(公告)号：CN109313404B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201780035989.1
申请日：2017-06-01
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于对准标记测量系统的超连续谱辐射源包括：辐射源；照射光学器件；多个波导；和收集光学器件。辐射源能够操作以产生脉冲辐射束。照射光学器件布置成接收脉冲泵浦辐射束并形成多个脉冲子束，每个脉冲子束包括脉冲辐射束的一部分。多个波导中的每一个被布置成接收多个脉冲子束中的至少一个，并且加宽该脉冲子束的光谱，以便产生超连续谱子束。收集光学器件布置成从多个波导中的每一个接收超连续谱子束并将它们组合以便形成超连续谱辐射束。
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公开(公告)号：CN111670412A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201980011024.8
申请日：2019-01-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·库马尔 , 理查德·金塔尼利亚 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , 康斯坦丁·特斯古特金 , W·M·J·M·考恩
摘要： 公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测，第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法，该方法包括使用第一检测辐射来进行粗略检测(310)，第一检测辐射具有在第一波长范围内的一个或多个第一波长；以及使用第二检测辐射来执行精细检测(320)，第二检测辐射具有在第二波长范围内的一个或多个第二波长，所述第二波长范围包括比所述第一波长范围的波长短的波长。
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公开(公告)号：CN111670412B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN201980011024.8
申请日：2019-01-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·库马尔 , 理查德·金塔尼利亚 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , 康斯坦丁·特斯古特金 , W·M·J·M·考恩
摘要： 公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测，第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法，该方法包括使用第一检测辐射来进行粗略检测(310)，第一检测辐射具有在第一波长范围内的一个或多个第一波长；以及使用第二检测辐射来执行精细检测(320)，第二检测辐射具有在第二波长范围内的一个或多个第二波长，所述第二波长范围包括比所述第一波长范围的波长短的波长。
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公开(公告)号：CN115769151A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180048008.3
申请日：2021-06-10
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 披露了一种用于对宽带照射束进行光谱成形以获得经光谱成形的照射束的照射装置。所述照射装置包括：束分散元件，所述束分散元件用于分散所述宽带照射束；和空间光调制器，所述空间光调制器用于在所述宽带照射束被分散之后在空间上调制所述宽带照射束。所述照射装置还包括以下各项中的至少一个：束扩展元件，所述束扩展元件用于在至少一个方向上扩展所述宽带照射束，所述束扩展元件位于所述照射装置的输入与所述空间光调制器之间；和透镜阵列，其中每个透镜用于在所述宽带照射束被分散至所述空间光调制器的相应的区上之后引导所述宽带照射束的相应的波长带。
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公开(公告)号：CN117434088A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311501367.7
申请日：2019-01-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·库马尔 , 理查德·金塔尼利亚 , M·G·M·M·范卡拉埃吉 , 康斯坦丁·特斯古特金 , W·M·J·M·考恩
摘要： 公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测，第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法，该方法包括使用第一检测辐射来进行粗略检测(310)，第一检测辐射具有在第一波长范围内的一个或多个第一波长；以及使用第二检测辐射来执行精细检测(320)，第二检测辐射具有在第二波长范围内的一个或多个第二波长，所述第二波长范围包括比所述第一波长范围的波长短的波长。
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公开(公告)号：CN109690410B
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201780055481.8
申请日：2017-08-21
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 光学系统传送照射辐射并收集在与衬底上的目标结构的相互作用之后的辐射。测量强度轮廓被用来计算结构的性质的测量。光学系统可以包括固体浸没透镜。在校准方法中，控制光学系统以使用第一照射轮廓来获得第一强度轮廓，并使用第二照射轮廓来获得第二强度轮廓。轮廓被用来导出用于减轻重影反射影响的校正。使用例如不同取向的半月形照射轮廓，该方法甚至在SIL将引起全内反射的情况下也可以测量重影反射。光学系统可以包括污染物检测系统，以基于所接收的散射检测辐射来控制移动。光学系统可以包括具有介电涂层的光学组件，以增强渐逝波相互作用。
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