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公开(公告)号：CN101595431B
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN200880002419.3
申请日：2008-01-16
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70858
摘要： 一种制造器件的方法包括：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将所述辐射束图案化；和将所述图案化的辐射束通过所述真空腔投影到衬底上的辐射敏感材料层的目标部分上。
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公开(公告)号：CN101918898A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200880120635.8
申请日：2008-12-22
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·G·W·布辛克 , A·J·A·布鲁恩斯莫 , H·J·M·梅杰尔
CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7003
摘要： 一种光刻设备，配置成将图案化辐射束投影到衬底上，包括：支撑结构，配置成保持图案化物体；和测量系统，配置成探测存在于所述图案化物体的用户区域上的用户区域结构的取向和/或密度。根据前述权利要求中任一项的所述设备还包括调平信息系统，配置成通过使用所探测的所述用户区域结构的取向和/或密度产生调平信息；和调平系统，配置成基于所述调平信息定位所述图案化物体的水平位置。
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公开(公告)号：CN101681115A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880010265.2
申请日：2008-04-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·B·P·范斯库特 , H·J·M·梅杰尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70808
摘要： 一种照射系统(IL)，包括外壳(2)和位于外壳(2)内的光学系统。光学系统包括至少一个光学元件(4、6)。光学元件被构造和布置以用从中间焦点(IF)发散的辐射束(B)照射图案形成装置(MA)。中间焦点(IF)位于与所述照射系统(IL)的底部(10)大致相同高度的水平的位置处或在所述照射系统(IL)的底部(10)下方的位置处。
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公开(公告)号：CN101918898B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200880120635.8
申请日：2008-12-22
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·G·W·布辛克 , A·J·A·布鲁恩斯莫 , H·J·M·梅杰尔
CPC分类号： G03F9/7034 , G03F9/7003
摘要： 一种光刻设备，配置成将图案化辐射束投影到衬底上，包括：支撑结构，配置成保持图案化物体；和测量系统，配置成探测存在于所述图案化物体的用户区域上的用户区域结构的取向和/或密度。根据前述权利要求中任一项的所述设备还包括调平信息系统，配置成通过使用所探测的所述用户区域结构的取向和/或密度产生调平信息；和调平系统，配置成基于所述调平信息定位所述图案化物体的水平位置。
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公开(公告)号：CN101595431A
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200880002419.3
申请日：2008-01-16
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70858
摘要： 一种制造器件的方法包括：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将所述辐射束图案化；和将所述图案化的辐射束通过所述真空腔投影到衬底上的辐射敏感材料层的目标部分上。
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