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公开(公告)号：CN107003447A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580063807.2
申请日：2015-11-10
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种可调整衍射光栅包括：光学元件和变形机构。光学元件具有用于接收输入辐射束的光学表面。光学元件设置有在光学表面下方的多个闭合通道，在每一闭合通道上方，光学表面由材料薄膜形成。变形机构包括一个或多个致动器，所述一个或多个致动器可操作以使在闭合通道上的薄膜变形，以便控制光学表面的形状和在光学表面上形成周期性结构，所述周期性结构用作衍射光栅使得输入辐射束从光学元件衍射以形成多个角分离的子束。
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公开(公告)号：CN107003447B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201580063807.2
申请日：2015-11-10
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种可调整衍射光栅包括：光学元件和变形机构。光学元件具有用于接收输入辐射束的光学表面。光学元件设置有在光学表面下方的多个闭合通道，在每一闭合通道上方，光学表面由材料薄膜形成。变形机构包括一个或多个致动器，所述一个或多个致动器可操作以使在闭合通道上的薄膜变形，以便控制光学表面的形状和在光学表面上形成周期性结构，所述周期性结构用作衍射光栅使得输入辐射束从光学元件衍射以形成多个角分离的子束。
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公开(公告)号：CN101561642B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200910134805.4
申请日：2009-04-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·巴特勒 , M·A·W·苏吉皮尔斯 , C·A·胡根达姆 , R·J·M·德琼 , M·J·M·林肯斯 , M·W·M·范德威吉斯特 , M·W·J·E·威吉克曼斯 , R·L·吐圣恩 , R·P·H·法森 , A·H·考沃埃特斯
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70758 , G03F7/70766
摘要： 本发明公开了一种定位系统、一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述定位系统用以在光刻设备的底架内以定位台，所述定位系统包括：用以施加致动力到所述台上的第一致动器，该第一致动器连接到构造并配置成吸收该第一致动器的反作用力的第一平衡质量块，其中该定位系统还包括控制器和第二致动器，所述控制器和第二致动器构造并配置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第一致动器施加到第一平衡质量块上的致动力引起的扭矩。
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公开(公告)号：CN107003621A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580066792.5
申请日：2015-11-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B7/1815 , G03F7/2008 , G03F7/70266 , G03F7/7095
摘要： 一种反射器(2)，包括由衬底(8)支撑的板(4)，其中所述板具有反射表面(5)，并且通过无粘合剂结合方式被固定在衬底上，并且其中冷却通道阵列(10)被设置在反射器中。冷却通道阵列的通道(16)可以由衬底的表面中的开口通道形成，所述开口通道被所述板封闭以形成通道。
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公开(公告)号：CN101595431A
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200880002419.3
申请日：2008-01-16
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70858
摘要： 一种制造器件的方法包括：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将所述辐射束图案化；和将所述图案化的辐射束通过所述真空腔投影到衬底上的辐射敏感材料层的目标部分上。
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公开(公告)号：CN107003621B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201580066792.5
申请日：2015-11-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种反射器(2)，包括由衬底(8)支撑的板(4)，其中所述板具有反射表面(5)，并且通过无粘合剂结合方式被固定在衬底上，并且其中冷却通道阵列(10)被设置在反射器中。冷却通道阵列的通道(16)可以由衬底的表面中的开口通道形成，所述开口通道被所述板封闭以形成通道。
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公开(公告)号：CN101595431B
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN200880002419.3
申请日：2008-01-16
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70841 , G03F7/70858
摘要： 一种制造器件的方法包括：将光刻投影设备的真空腔内的压力设置到温度稳定的压力范围；将所述真空腔内的所述压力保持在所述温度稳定的压力范围一段时间以便稳定所述真空腔内的温度；将所述真空腔内的所述压力降低到生产压力范围；用辐射系统产生辐射束；将所述辐射束图案化；和将所述图案化的辐射束通过所述真空腔投影到衬底上的辐射敏感材料层的目标部分上。
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公开(公告)号：CN101561642A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200910134805.4
申请日：2009-04-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·巴特勒 , M·A·W·苏吉皮尔斯 , C·A·胡根达姆 , R·J·M·德琼 , M·J·M·林肯斯 , M·W·M·范德威吉斯特 , M·W·J·E·威吉克曼斯 , R·L·吐圣恩 , R·P·H·法森 , A·H·考沃埃特斯
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70758 , G03F7/70766
摘要： 本发明公开了一种定位系统、一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述定位系统用以在光刻设备的底架内以定位台，所述定位系统包括：用以施加致动力到所述台上的第一致动器，该第一致动器连接到构造并配置成吸收该第一致动器的反作用力的第一平衡质量块，其中该定位系统还包括控制器和第二致动器，所述控制器和第二致动器构造并配置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第一致动器施加到第一平衡质量块上的致动力引起的扭矩。
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