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公开(公告)号:CN104749878A
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:CN201510091703.4
申请日:2006-12-20
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC分类号: G03F7/00
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器,所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号:CN109154772B
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN201780030963.8
申请日:2017-04-21
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: W-P·福尔蒂森 , 玛丽亚-克莱尔·范拉尔 , S·F·伍伊斯特
IPC分类号: G03F7/004
摘要: 一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含:a)含金属的纳米颗粒和/或纳米簇,和b)配体和/或有机连接体,其中a)或b)中的一种或两者是多价的。一种抗蚀剂组合物,其中:i)所述抗蚀剂组合物是负性抗蚀剂,并且所述纳米颗粒和/或纳米簇在暴露于电磁辐射或电子束后所述配体和/或有机连接体交联时成簇;或ii)所述抗蚀剂组合物是负性抗蚀剂,并且所述配体和/或有机连接体是交联的,并且交联键在暴露于电磁辐射或电子束时断裂,使所述纳米颗粒和/或纳米簇成簇到一起;或所述抗蚀剂组合物是正性抗蚀剂,并且所述配体和/或有机连接体是交联的,并且交联键在暴露于电磁辐射或电子束时断裂。
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公开(公告)号:CN102566263B
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:CN201210061782.0
申请日:2006-12-20
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器,所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号:CN107111227B
公开(公告)日:2021-03-23
申请号:CN201580070512.8
申请日:2015-12-01
申请人: ASML荷兰有限公司
摘要: 公开了一种抗蚀剂组合物,其包括具有有着选自ABX3、A2BX4或ABX4的化学式的结构的钙钛矿材料,其中A是包含NH3基团的化合物,B是金属并且X是卤化物组分。钙钛矿材料可以包括以下成分中的一种或多种:混合卤素的钙钛矿材料;混合金属的钙钛矿材料,和混合有机配体的钙钛矿材料。
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公开(公告)号:CN107111227A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580070512.8
申请日:2015-12-01
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/0045 , G03F7/0002 , G03F7/0043 , G03F7/0047 , G03F7/039 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/30
摘要: 公开了一种抗蚀剂组合物,其包括具有有着选自ABX3、A2BX4或ABX4的化学式的结构的钙钛矿材料,其中A是包含NH3基团的化合物,B是金属并且X是卤化物组分。钙钛矿材料可以包括以下成分中的一种或多种:混合卤素的钙钛矿材料;混合金属的钙钛矿材料,和混合有机配体的钙钛矿材料。
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公开(公告)号:CN103543602A
公开(公告)日:2014-01-29
申请号:CN201310495547.9
申请日:2006-12-20
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC分类号: G03F7/00
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器,所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号:CN102566263A
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201210061782.0
申请日:2006-12-20
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器,所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号:CN1987645B
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200610064156.1
申请日:2006-12-20
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器,所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号:CN1987645A
公开(公告)日:2007-06-27
申请号:CN200610064156.1
申请日:2006-12-20
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC分类号: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
摘要: 本发明公开了一种光刻设备,其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器,所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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