支柱形成用导电糊剂
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112272863A

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN201980039134.5

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 在作为现有方法的电镀法中,存在难以不受底切的影响而形成微细的支柱这样的问题。另外,在化学镀法中,存在难以没有空隙地形成相同形状的支柱这样的问题。因此,本发明的目的在于,使用本发明的支柱形成用导电糊剂,通过埋入法制作支柱,由此能够防止底切,并且再现性良好地提供相同形状的金属柱。发现了以微细的金属微粒且特定的微粒含有率为特征的导电糊剂在支柱的形成中特别有效。

    导电性材料及其制造方法

    公开(公告)号:CN104662198A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201380049266.9

    申请日:2013-09-11

    Abstract: 本发明提供不需要借助粘接剂来接合、不使用真空设备的具有适当厚度的导电层的导电性材料的制造方法。本发明的导电性材料的制造方法具有如下的工序:在绝缘性基材(1)上涂布分散液,形成非导电性层(3)的工序,所述分散液含有0.5质量%以上的被具有氮原子、硫原子、磷原子或氧原子的化合物保护的选自由金、银、铜及铂组成的组中的1种以上的金属微粒(2);对具有该非导电性层(3)的基材(1)进行化学镀,形成导电层的工序。

    导电性材料及其制造方法

    公开(公告)号:CN104662198B

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201380049266.9

    申请日:2013-09-11

    Abstract: 本发明提供不需要借助粘接剂来接合、不使用真空设备的具有适当厚度的导电层的导电性材料的制造方法。本发明的导电性材料的制造方法具有如下的工序:在绝缘性基材(1)上涂布分散液,形成非导电性层(3)的工序,所述分散液含有0.5质量%以上的被具有氮原子、硫原子、磷原子或氧原子的化合物保护的选自由金、银、铜及铂组成的组中的1种以上的金属微粒(2);对具有该非导电性层(3)的基材(1)进行化学镀,形成导电层的工序。

Patent Agency Ranking