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公开(公告)号：CN101146740B
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200680009004.X
申请日：2006-03-10
申请人： HOYA株式会社
发明人： 德光秀造
CPC分类号： C09K11/70 , C01B25/087 , Y10S977/813 , Y10S977/815 , Y10S977/816 , Y10S977/818 , Y10S977/819 , Y10S977/82 , Y10S977/823 , Y10S977/824 , Y10S977/896
摘要： 公开了本发明提供一种用于以工业上规模，在短时间内，高效且有利地制备纳米级尺寸InP微粒的方法；和一种InP微粒分散体溶液。用于制备InP微粒的方法包括使含有至少两种In化合物的In原料与含有至少一种P化合物的P原料在溶剂中反应来制备InP微粒，其中使用至少一种第一In化合物和至少一种第二In化合物作为所述至少两种In化合物，其中所述第一In化合物具有能够与P化合物上的官能团反应使P化合物上的官能团脱离从而生成In-P键的基团，所述P化合物具有与In原子相邻的P原子，所述第二In化合物其在化合物中的In原子电子密度比在所述第一In化合物中的低，并将路易斯碱溶剂作为所述溶剂；以及通过该方法制得的InP微粒分散体溶液。
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公开(公告)号：CN105940450A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580005892.7
申请日：2015-02-02
申请人： HOYA株式会社
CPC分类号： B24B37/08 , C09K3/1463 , G11B5/8404
摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或‑NH‑R3，R3表示烷基。
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公开(公告)号：CN105940450B
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201580005892.7
申请日：2015-02-02
申请人： HOYA株式会社
CPC分类号： B24B37/08 , C09K3/1463 , G11B5/8404
摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1‑NH‑CO‑R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或‑NH‑R3，R3表示烷基。
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公开(公告)号：CN105074823B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201480017936.3
申请日：2014-03-31
申请人： HOYA株式会社 , HOYA玻璃磁盘越南第二公司
摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。
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公开(公告)号：CN105074823A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480017936.3
申请日：2014-03-31
申请人： HOYA株式会社 , HOYA玻璃磁盘越南第二公司
CPC分类号： G11B5/8404
摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。
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公开(公告)号：CN102054549A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010523367.3
申请日：2010-10-26
申请人： HOYA株式会社
摘要： 本发明提供一种溶剂分散性粒子及其制造方法、以及将这种粒子分散于极性溶剂中而形成的分散液，所述溶剂分散性粒子不拘于显示强磁性，对水等高极性溶剂仍具有高分散性。图1(i)所示的溶剂分散性粒子(1)(本发明的溶剂分散性粒子)包含2种以上的金属成分，且具有原子排列具有有序结构的组成的多成分合金粒子(10)、和包覆该多成分合金粒子(10)表面的表面改性剂(m)。表面改性剂(m)在其1分子中分别具有1个以上的与多成分合金粒子(10)中的金属元素(a)相互作用的官能团(X)、与金属元素(b)相互作用的官能团(Y)、在极性溶剂中具有亲和性的官能团(Z)。溶剂分散性粒子(1)不拘于多成分合金粒子(10)显示强磁性，由于表面改性剂(m)高密度结合，所以即使分散于水等极性溶剂中时也可以可靠地防止粒子的凝集。
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公开(公告)号：CN104508742B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201380038866.5
申请日：2013-09-30
申请人： HOYA株式会社
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/84 , G11B5/8404
摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明使用含有碱性试剂的清洗液，该碱性试剂不包含钠和钾，一边维持清洗液中的钠离子和钾离子的总浓度为4.00×10‑3mol/L以下的条件，一边对两个以上的玻璃基板进行清洗处理，所述两个以上的玻璃基板在玻璃成分中含有钠和钾中的至少一种成分，且主表面进行了镜面研磨。
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公开(公告)号：CN105518780A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201480046423.5
申请日：2014-09-30
申请人： HOYA株式会社
发明人： 德光秀造
CPC分类号： G11B5/8404 , B24B37/044 , C09K3/1409
摘要： 本发明提供一种二氧化硅磨粒，其不会对研磨对象物造成损伤，且不会降低研磨速度。对于所述二氧化硅磨粒，磨粒内部的硅烷醇基(Si-OH)相对于磨粒整体的硅元素(Si)的比值(Si-OH)/Si为0.4以上。
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公开(公告)号：CN105122363A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480021802.9
申请日：2014-04-22
申请人： HOYA株式会社
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/8404
摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法尽可能不使通过精密研磨得到的平滑的表面粗糙度恶化，能够实施高度洁净的清洗。本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法中，在磁盘用玻璃基板的镜面研磨工序后，进行使玻璃基板与清洗液接触的清洗处理，该清洗液对玻璃基板具有蚀刻性并含有胍和咪唑中的至少一种。另外，一边抑制上述清洗液中的钠离子和钾离子的总量小于200ppm，一边进行清洗处理。
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