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公开(公告)号：CN103509383A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310236768.4
申请日：2013-06-14
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： C09D4/02 , C09D171/00 , C09D7/12
摘要： 本发明的目的是提供水分捕获体形成用组合物的成膜性及保存稳定性优异，并且可以形成吸湿性、耐热性及密接性优异的水分捕获体的水分捕获剂。本发明还提供了水分捕获体形成用组合物、水分捕获体及电子元件。本发明是由具有下述式(1)所示的结构的化合物(a)所组成的水分捕获剂。下述式(1)中，R1为：(r1)酰基，(r2)碳数1～30的烃基，或(r3)在这些烃基的碳碳键间具有选自由-O-、-S-、-CO-、-CS-、-NH-、-SO-及-SO2-所组成的组群中的至少1种基团的基团，或(r4)将这些(r1)、(r2)及(r3)所具有的氢原子的一部分使用羟基、卤素原子或氰基取代而成的基团。M1为硼原子、铝原子、镓原子、铟原子或铊原子。X为有机配位体。
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公开(公告)号：CN103189403A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201180053151.8
申请日：2011-10-24
申请人： JSR株式会社
CPC分类号： H01L51/5259 , B01D53/28 , B01D2253/202 , B01J20/223 , C08F220/04 , C08F222/1006
摘要： 本发明的组合物含有下述通式(1)所示的化合物(A)和自由基产生剂(C)。(R1)nM (1)上述式(1)中，R1可以相同也可以不同，但是多个存在的R1之中的至少一个为具有一个以上不饱和键的基团。n为2或3，等于M的化合价。M为从铝、硼、镁以及钙中选出的一种。
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公开(公告)号：CN103059620A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210406207.X
申请日：2012-10-23
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： C09D4/00 , C09D4/02 , C09D171/00 , C09D7/12
摘要： 本发明提供热固性水分捕获体形成用组合物、水分捕获体以及电子设备，所述热固性水分捕获体形成用组合物可以不进行紫外线照射而仅通过基于低温加热的固化来形成水分捕获体，另外在固化时不产生脱气。本发明的热固性水分捕获体形成用组合物含有具有由下述通式(1)表示的结构单元的化合物(A)和固化性单体(B)，-[Al(OR)-O]n- (1)式(1)中，R分别表示取代或非取代的烷基、芳基或者烷基羰基，n表示2~6的整数。
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公开(公告)号：CN101133364A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680006646.4
申请日：2006-02-24
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0752 , G03F7/0751 , G03F7/11 , H01L21/0274 , H01L21/0332 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10T428/31515 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
摘要： 本发明的课题是提供一种抗蚀剂下层膜用组合物，可形成与抗蚀剂膜的密合性优异，提高抗蚀剂图案再现性和对在显影等中使用的碱液及除去抗蚀剂时的氧灰化具有耐受性的抗蚀剂下层膜，并且该组合物保存稳定性优异。本发明涉及的抗蚀剂下层膜用组合物的特征在于含有下述通式(A)表示的硅烷化合物的水解物和/或其缩合物。Rb1Rc2Si(OR3)4－a...(A)[式中，R1表示具有至少一个不饱和键的1价有机基团，R2独立地表示氢原子、卤素原子或1价的有机基团，R3独立地表示1价有机基团，R1为OR3基以外的基团，a表示1～3的整数，b表示1～3的整数，c表示0～2的整数，且a＝b+c]。
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公开(公告)号：CN102639642B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201080053173.X
申请日：2010-10-15
申请人： JSR株式会社
CPC分类号： H05B33/04 , C08G77/12 , C08G77/58 , C08K5/057 , C08K5/5419 , H01L23/296 , H01L51/5246 , H01L2924/0002 , H01L2924/12044 , H01L2924/00
摘要： 本发明的组合物包括下述通式(1)所示的化合物(A)和具有下述通式(2)所示的结构的化合物(B)。(R1)nM？？...(1)
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公开(公告)号：CN101133364B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200680006646.4
申请日：2006-02-24
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0752 , G03F7/0751 , G03F7/11 , H01L21/0274 , H01L21/0332 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10T428/31515 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
摘要： 本发明的课题是提供一种抗蚀剂下层膜用组合物，可形成与抗蚀剂膜的密合性优异，提高抗蚀剂图案再现性和对在显影等中使用的碱液及除去抗蚀剂时的氧灰化具有耐受性的抗蚀剂下层膜，并且该组合物保存稳定性优异。本发明涉及的抗蚀剂下层膜用组合物的特征在于含有下述通式(A)表示的硅烷化合物的水解物和/或其缩合物。R1bR2cSi(OR3)4-a...(A)[式中，R1表示具有至少一个不饱和键的1价有机基团，R2独立地表示氢原子、卤素原子或1价的有机基团，R3独立地表示1价有机基团，R1为OR3基以外的基团，a表示1～3的整数，b表示1～3的整数，c表示0～2的整数，且a＝b+c]。
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公开(公告)号：CN102639642A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201080053173.X
申请日：2010-10-15
申请人： JSR株式会社
CPC分类号： H05B33/04 , C08G77/12 , C08G77/58 , C08K5/057 , C08K5/5419 , H01L23/296 , H01L51/5246 , H01L2924/0002 , H01L2924/12044 , H01L2924/00
摘要： 本发明的组合物包括下述通式(1)所示的化合物(A)和具有下述通式(2)所示的结构的化合物(B)。(R1)nM ...(1)
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