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公开(公告)号:CN105209156B
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201480027798.7
申请日:2014-03-14
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: H01J37/32449 , B01D53/323 , B01D53/76 , B01D2257/2064 , H01J37/32339 , H01J37/32357 , H01J37/32458 , H01J37/32651 , H01J37/32669 , H01J37/32844 , H01J37/32935 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2245/121 , Y02C20/30
Abstract: 提供用于减少气体的设备。该设备包含环形等离子体腔室,其具有多个进口和一个出口,和至少一个腔室壁。一个或多个磁芯相对于环形等离子体腔室设置。等离子体腔室限定环形等离子体。第二气体进口设置在环形等离子体腔室上,且设置在第一气体进口和气体出口之间并与该气体出口相距距离d,从而第一气体进口和第二气体进口之间的环形等离子体通道体积基本上由惰性气体填充,该距离d基于所需的要减少的气体的停留时间。
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公开(公告)号:CN103975413A
公开(公告)日:2014-08-06
申请号:CN201280060167.6
申请日:2012-12-04
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01J37/32 , C23C16/455
CPC classification number: H01J37/32449 , C23C16/452 , H01J37/32495
Abstract: 本发明提供一种结合反应性气体源使用的等离子体腔室,其包括:第一管道,第一管道包括壁、入口、出口、内表面和外表面以及穿过壁的多个开口,入口接收第一气体以与形成于第一管道中的等离子体在第一管道中生成反应性气体。该等离子体腔室还包括第二管道,第二管道包括壁、入口和内表面。第一管道安置于第二管道中,在第一管道的外表面与第二管道的内表面之间限定通道。向第二管道的入口供应的第二气体沿着该通道流动并且通过第一管道的壁的多个开口到第一管道内以包围第一管道中的反应性气体和等离子体。
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公开(公告)号:CN105209156A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201480027798.7
申请日:2014-03-14
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: H01J37/32449 , B01D53/323 , B01D53/76 , B01D2257/2064 , H01J37/32339 , H01J37/32357 , H01J37/32458 , H01J37/32651 , H01J37/32669 , H01J37/32844 , H01J37/32935 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2245/121 , Y02C20/30
Abstract: 提供用于减少气体的设备。该设备包含环形等离子体腔室,其具有多个进口和一个出口,和至少一个腔室壁。一个或多个磁芯相对于环形等离子体腔室设置。等离子体腔室限定环形等离子体。第二气体进口设置在环形等离子体腔室上,且设置在第一气体进口和气体出口之间并与该气体出口相距距离d,从而第一气体进口和第二气体进口之间的环形等离子体通道体积基本上由惰性气体填充,该距离d基于所需的要减少的气体的停留时间。
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