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公开(公告)号：CN100474400C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200410031311.0
申请日：2004-03-26
申请人： TDK股份有限公司
CPC分类号： B82Y10/00 , G11B5/584 , G11B5/59633 , G11B5/74 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/855 , Y10T428/12465
摘要： 本发明提供一种可高效率地记录伺服信息、并且得到充分的输出变化量、伺服信息的读取精度良好的磁记录媒体。该磁记录媒体是将磁性层(12)，在伺服区域(28)中分离为形成规定的伺服图案的多个伺服图案单位部(30)和伺服图案单位部(30)周围的伺服图案周围部(32)，并且伺服图案单位部(30)和伺服图案周围部(32)形成为不同大小，使得具有不同磁特性。
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公开(公告)号：CN100395823C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200510099494.4
申请日：2005-09-06
申请人： TDK股份有限公司
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 提供记录层以规定的凹凸图形形成，记录要素作为凹凸图形的凸部形成且使面记录密度高和磁头的碰撞不容易发生而可靠性高的磁记录介质、和装备这样的磁记录介质的磁记录再生装置。磁记录介质(12)包括：作为在基板(22)上以规定的凹凸图形形成的记录层(24)的凸部形成的记录要素(24A)的记录层(24)、和充填在记录要素(24)之间的凹部(26)上的充填要素(28)；在上述记录要素(24A)的上表面(32)上形成有与其下方的记录要素(24)的宽度方向的中央部相当的部分在基板(22)侧凹下得最深，且使宽度在离开基板(22)的方向上单调增加的剖面形状的表面凹部(30)。
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公开(公告)号：CN100347757C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200510078649.6
申请日：2005-06-21
申请人： TDK股份有限公司
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/66 , H01L21/3065
摘要： 本发明提供一种可将被蚀刻层高精度地加工成所需的凹凸图形的形状的干式蚀刻方法，采用该方法的磁记录介质的制造方法，以及记录层由凹凸图形形成的、可确实获得良好的磁特性的磁记录介质。在基板上按顺序形成记录层(被蚀刻层)、主掩模层、副掩模层，将副掩模层加工成规定的凹凸图形(S106)，接着通过以氧或臭氧为反应气体的反应性离子蚀刻，去除凹部的主掩模层(S108)，此外，通过干式蚀刻，去除凹部的记录层，加工成上述凹凸图形的形状(S110)。主掩模层的材料的主要成分为碳，并且副掩模层的材料采用相对于主掩模层加工工序(S108)的反应性离子蚀刻的蚀刻率比碳低的材料。
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公开(公告)号：CN1873531A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200610088681.7
申请日：2006-06-02
申请人： TDK股份有限公司
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027 , G11B5/62
摘要： 本发明提供一种能够以高精度形成相当于伺服信息的、微细且复杂的凹凸图案的凹凸图案形成方法以及利用该方法的磁记录介质的制造方法。在该凹凸图案形成方法中，将形成在树脂层支承材料上的树脂层(52)加工成不正规凹凸图案，并基于该树脂层(52)而对记录层(树脂层支承材料)进行蚀刻，从而将该记录层加工成使上述不正规凹凸图案接近上述基本凹凸图案的凹凸图案，其中，上述不正规凹凸图案是，相对规定的基本凹凸图案，在该基本凹凸图案的部分凹部上形成分割用凸部(52A)，而使该基本凹凸图案的至少一部分凹部分割了的凹凸图案。
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公开(公告)号：CN1815570A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200510131432.7
申请日：2005-12-12
申请人： TDK股份有限公司
摘要： 一种磁记录介质的制造方法，能够制造具有凹凸图案的记录层且表面充分平坦的磁记录介质。制作具有在基板(12)上以规定的凹凸图案形成的记录层(32)及在该记录层(32)的至少记录要素(32A)(凸部)上形成的第一掩模层(暂定基底材料)(22)的被加工体(10)，并在被加工体(10)上成膜与第一掩模层(22)不同的填充物(36)而填充凹部(34)，而且，通过干式蚀刻法除去填充物(36)多余部分中的至少一部分，以使第一掩模层(22)的至少一侧面露出，并通过对第一掩模层(22)的蚀刻速率高于对填充物(36)的蚀刻速率的蚀刻法，除去第一掩模层(22)而使表面平坦化。
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公开(公告)号：CN1655243A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN200510007945.7
申请日：2005-02-04
申请人： TDK股份有限公司
IPC分类号： G11B5/84
摘要： 本发明提供一种磁记录媒体的制造方法，该制造方法能够高效率地制造具有以凹凸图案形成的记录层、且记录·再现特性良好的磁记录媒体。其构成为：包括非磁性材料填充工序(S104)和平坦化工序，而且平坦化工序包括前段平坦化工序(S106)和用于精加工的后段平坦化工序(S108)；该非磁性材料填充工序(S104)中，在基板上以规定的凹凸图案形成的记录层上形成非磁性材料的膜，而填充凹凸图案的凹部；该平坦化工序中，将记录层上的剩余的非磁性材料用干刻法除去，并平坦化表面。
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公开(公告)号：CN1591587A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410064475.3
申请日：2004-08-27
申请人： TDK股份有限公司
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供一种磁记录媒体的制造方法，其能够有效可靠地制造具有形成了规定的凹凸图案的记录层且表面充分平坦的磁记录媒体，该制造方法，在非磁性材料填充步骤中，将作为每单位时间的成膜厚度的成膜率V、上述偏置功率为0的情况下的上述成膜率Vo、非磁性材料的成膜厚度t、记录元件的宽度L、记录元件之间的凹部的深度d，以满足下述关系式(I)的方式，调节成膜加工条件，并向被加工体(10)成膜·填充非磁性材料，其中该关系式为，0.1≤V/Vo≤－0.003×(L·d/t)+1.2……(I)。
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公开(公告)号：CN100447866C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200610093226.6
申请日：2006-06-23
申请人： TDK股份有限公司
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供一种磁记录介质以及具有这种磁记录介质的磁记录再现装置，所述磁记录介质的记录层以规定的图案形成，记录要素作为凹凸图案的凸部而形成，该磁记录介质的面记录密度高且难以产生磁头的碰撞，可靠性高。磁记录介质(12)包括记录要素(25)，其作为在基板之上以规定的凹凸图案形成的记录层(24)的凸部而形成；填充材料(28)，其填充到记录要素(25)之间的凹部(26)，表面(32)中的填充材料(28)之上的表面粗糙度大于记录要素(25)之上的部分的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN100385507C
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200610005488.2
申请日：2006-01-16
申请人： TDK股份有限公司
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供一种可靠性高的磁记录介质，其具有以凸部形成记录要素的记录层以及被填充在记录要素之间的凹部中的填充物，即使与磁头接触表面也很难受到损伤，从而可以确实的获得良好的记录、再现特性。磁记录介质(12)包括：在基板(22)上以规定的凹凸图案形成并且以该凹凸图案的凸部形成记录要素(24A)的记录层(24)；和被填充在记录要素(24A)之间的凹部(26)中的填充物(28)，填充物(28)实质上是由Si以及O构成的，且O原子数相对于Si原子数的比率大于等于1.5且小于2。
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公开(公告)号：CN101025935A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710005172.8
申请日：2007-02-15
申请人： TDK股份有限公司
摘要： 本发明提供一种磁记录介质的制造方法，能够制造具有凹凸图案的记录层、表面充分平坦、记录/再现特性良好的磁记录介质。在具有形成有记录要素作为凹凸图案的凸部的记录层的被加工体之上，使第一填充材料成膜而覆盖记录要素，并且填充凹部的至少一部分，在第一填充材料之上使被检测材料成膜，在被检测材料之上使第二填充材料成膜，对被加工体的表面照射加工用气体，来除去第一填充材料、被检测材料以及第二填充材料中在记录要素上表面的上侧所成膜的部分中的至少一部分，从而将表面平坦化，在平坦化工序中，检测出从被加工体被除去而飞散的被检测材料的成分，基于该被检测材料的成分的检测结果而停止加工用气体的照射。
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