一种埋入电容的实现方法及电路板

    公开(公告)号:CN104582265A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201310479185.4

    申请日:2013-10-14

    发明人: 黄勇 吴会兰

    IPC分类号: H05K1/16 H05K3/42

    CPC分类号: H05K1/167

    摘要: 本发明公开了电路板制造领域中的一种埋入电容的实现方法及电路板。本发明在导电图形层的至少一面设置用作埋入电容的一个电极的导电膜层,并在导电膜层上形成第一绝缘层,第一绝缘层包含露出导电膜层的窗体;向所述窗体填充电容膏;对所述电容膏进行预固化操作;在所述电容膏上压合第一导电层;对所述第一导电层进行图形化操作,用作所述埋入电容的另一电极。本发明能够保证第一绝缘层和导电图形层的紧密粘合;能够使得电容膏和第一导电层的接触面平整,并填充电容膏和第一绝缘层可能存在的空隙,还能使得第一绝缘层和电容膏固化,进而保证了最终得到的电路板的刚性高,热膨胀系数小,不易开裂。

    一种埋入电容的实现方法及电路板

    公开(公告)号:CN104582265B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201310479185.4

    申请日:2013-10-14

    发明人: 黄勇 吴会兰

    IPC分类号: H05K1/16 H05K3/42

    摘要: 本发明公开了电路板制造领域中的一种埋入电容的实现方法及电路板。本发明在导电图形层的至少一面设置用作埋入电容的一个电极的导电膜层,并在导电膜层上形成第一绝缘层,第一绝缘层包含露出导电膜层的窗体;向所述窗体填充电容膏;对所述电容膏进行预固化操作;在所述电容膏上压合第一导电层;对所述第一导电层进行图形化操作,用作所述埋入电容的另一电极。本发明能够保证第一绝缘层和导电图形层的紧密粘合;能够使得电容膏和第一导电层的接触面平整,并填充电容膏和第一绝缘层可能存在的空隙,还能使得第一绝缘层和电容膏固化,进而保证了最终得到的电路板的刚性高,热膨胀系数小,不易开裂。