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公开(公告)号：CN107848868A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680044695.0
申请日：2016-07-08
申请人： 恩特格里斯公司
CPC分类号： C03B40/00 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C04B35/522 , C04B41/4529 , C04B41/5061 , C04B41/5133 , C04B41/5041 , C04B41/5045
摘要： 本发明描述精密玻璃模具，其通过用包含钛的涂层涂布由高纯度、细粒度石墨制成的模具而形成。在各种实施方案中，钛涂层用氧化钇(Y2O3)外涂以提供具有优异性能特性的高度精密玻璃模具。所得玻璃模具可用于形成具有高度光滑光洁度的玻璃制品，以用于例如消费型电子装置应用、医疗器械及光学装置的高度精密应用。高纯度、细粒度石墨的使用允许以低成本加工模具，借此消除对制造必须涂布有包含金属扩散阻挡层的多个层以满足此类精密应用的操作要求的金属模具的需要。
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公开(公告)号：CN105073312A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480018940.1
申请日：2014-02-26
申请人： 住友电工硬质合金株式会社
CPC分类号： C23C14/0641 , B23C2226/12 , B23C2228/10 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C14/0664 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42 , C04B35/5831 , C04B41/4529 , C04B41/5063 , C04B41/5068 , C04B41/5062 , C04B41/522 , C04B41/5066 , C04B41/5133 , C04B41/5061
摘要： 本发明提供了一种表面被覆氮化硼烧结体工具，其中至少切削刃部分包括立方氮化硼烧结体和形成在所述立方氮化硼烧结体表面上的覆层(10)。覆层(10)的B层(30)包括交替层叠的至少两种类型的薄膜层(31,32)，其中该薄膜层(31,32)具有不同的组成。薄膜层中的一种类型的B1薄膜层(31)包括交替层叠的至少两种类型的具有不同组成的化合物层(31A,32B)。各化合物层(31A,32B)的厚度为至少0.5nm且小于30nm。薄膜层中不同于B1薄膜层(31)的B2薄膜层(32)的厚度为30nm以上且小于200nm。
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公开(公告)号：CN105073311A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480018897.9
申请日：2014-02-26
申请人： 住友电工硬质合金株式会社
CPC分类号： C23C14/0641 , B23C2226/12 , B23C2228/10 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C14/0664 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42 , C04B35/5831 , C04B41/4529 , C04B41/5062 , C04B41/5063 , C04B41/5066 , C04B41/5068 , C04B41/524 , C04B41/5061
摘要： 本发明涉及一种表面被覆氮化硼烧结体工具，其中至少切削刃部分包括立方氮化硼烧结体和形成在所述立方氮化硼烧结体表面上的覆层(10)。覆层(10)包括B层(30)，所述B层(30)由交替层叠的两种以上具有不同组成的薄膜层(31,32)的一层或多层构成。作为薄膜层的构成层之一的薄膜层B1(31)的厚度为大于30nm且小于200nm。构成薄膜层且不同于薄膜层B1(31)的薄膜层B2(32)由交替层叠的两种以上具有不同组成的化合物层(32A、32B)的一层或多层构成，各种化合物层的层数为1以上，化合物层(32A、32B)各自具有0.5nm以上且小于30nm的厚度。
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公开(公告)号：CN102689027A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201210074897.3
申请日：2012-03-21
申请人： 钴碳化钨硬质合金公司
CPC分类号： C23C16/403 , B23B27/141 , B23C2224/04 , B23C2224/36 , B23C2226/125 , B23C2228/04 , B23C2228/10 , C04B41/009 , C04B41/5031 , C04B41/52 , C04B41/87 , C04B41/89 , C23C30/005 , Y10T428/252 , Y10T428/257 , Y10T428/26 , Y10T428/265 , C04B35/5831 , C04B41/4531 , C04B41/5068 , C04B41/5061
摘要： 本发明涉及CVD涂覆的多晶立方氮化硼切削刀具。在一个方面中，本发明提供了包括一个PcBN基体的涂覆的切削刀具，其中一个单相α-氧化铝层通过化学气相沉积而被直接沉积在该基体的一个或多个表面上。
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公开(公告)号：CN102066617A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980122939.2
申请日：2009-04-17
申请人： 山特维克知识产权股份有限公司
发明人： 马茨·阿尔格伦
CPC分类号： C04B41/5068 , C04B41/009 , C04B41/87 , C04B2111/00405 , C23C14/0021 , C23C14/024 , C23C14/0664 , C23C14/325 , C23C30/005 , Y10T407/1904 , Y10T407/27 , Y10T408/78 , C04B41/4529 , C04B41/455 , C04B41/5059 , C04B41/5061 , C04B41/5066 , C04B35/00 , C04B35/52 , C04B35/5831
摘要： 本发明涉及一种具有改善耐磨性的用于金属加工的切削工具，其包括硬质合金、金属陶瓷、陶瓷或超硬材料的切削工具基材(a)和耐磨涂层。所述耐磨涂层包括具有组成梯度的PVD Ti-Si-C-N层(b)。本发明还涉及利用一个或更多个Ti靶和包括三甲基硅烷气体流的反应性气体气氛，通过使用电弧蒸镀制造所述切削工具的方法。所述三甲基硅烷气体流在沉积方法期间以连续或逐渐变化的方式改变。
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公开(公告)号：CN101804467A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN201010129023.4
申请日：2005-02-28
申请人： 住友电工硬质合金株式会社
CPC分类号： B23B27/141 , B23B2200/283 , B23B2224/32 , B23B2224/36 , B23B2228/10 , B23P15/28 , C04B41/009 , C04B41/5063 , C04B41/5068 , C04B41/87 , Y10T407/27 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372 , Y10T428/24777 , C04B35/5831 , C04B41/4529 , C04B41/5061 , C04B41/5066 , C04B41/5057 , C04B41/5062
摘要： 本发明提供表面被覆立方晶氮化硼烧结体工具及其制造方法。一种表面被覆CBN烧结体工具(1)包括用立方晶氮化硼(CBN)烧结体形成的基材(2)和被覆基材(2)表面的表面被覆膜(3)，并且具有在其至少一部分中露出所述CBN烧结体的反齿刃(4)和具有形成于其上的表面被覆膜(3)的侧面(5)。以此，可提供耐缺陷性和耐磨性高的表面被覆CBN烧结体工具(1)。所述表面被覆膜(3)优选包括含至少一种选自由Ti、Cr、Zr、和V组成的组的元素和至少一种选自由Al、Si和B组成的组的元素的化合物的氮化物或碳氮化物，或Ti的氮化物或碳氮化物。
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公开(公告)号：CN100509701C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200680000638.9
申请日：2006-05-30
申请人： 住友电工硬质合金株式会社
IPC分类号： C04B35/583 , B23B27/14 , B23B27/18 , B23B27/20 , C04B41/87
CPC分类号： C04B41/87 , B23B27/141 , B23B27/145 , B23B2200/242 , B23B2224/04 , B23B2224/24 , B23B2224/32 , B23B2224/36 , B23B2226/125 , B23B2226/18 , B23B2228/10 , C04B35/58007 , C04B35/58014 , C04B35/58021 , C04B35/58028 , C04B35/581 , C04B35/5831 , C04B35/6348 , C04B35/645 , C04B37/005 , C04B37/006 , C04B37/026 , C04B41/009 , C04B41/4529 , C04B41/5062 , C04B2235/3217 , C04B2235/3804 , C04B2235/3813 , C04B2235/3839 , C04B2235/3843 , C04B2235/3852 , C04B2235/386 , C04B2235/3865 , C04B2235/3873 , C04B2235/3886 , C04B2235/3895 , C04B2235/402 , C04B2235/5436 , C04B2235/656 , C04B2235/661 , C04B2235/72 , C04B2235/721 , C04B2235/723 , C04B2235/786 , C04B2235/79 , C04B2235/80 , C04B2235/9607 , C04B2237/124 , C04B2237/125 , C04B2237/36 , C04B2237/361 , C04B2237/368 , Y10T428/265 , C04B41/5057 , C04B41/5063 , C04B41/5068 , C04B41/5061 , C04B35/117 , C04B35/583
摘要： 在高效率切削高硬度难切削的铁基材料时，与传统的cBN烧结体工具相比，本发明通过控制在被切削工件的加工表面上形成的加工影响层的产生以及通过促进压应力的残留，来提高加工件的疲劳寿命，得到使用时间更长的工具。本发明的cBN烧结体含有不小于60体积%并且不大于95体积%的cBN成分，并且其导热率等于或大于70W/m·K；其最外表面涂有耐热膜，所述耐热膜含有选自在日本使用的元素周期表4a、5a、6a族元素和Al中的至少一种元素以及选自C、N和O中的至少一种元素所形成的化合物。
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公开(公告)号：CN100389224C
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN00800785.3
申请日：2000-05-03
申请人： 桑德维克知识产权有限公司
CPC分类号： C04B41/009 , C04B41/5046 , C04B41/52 , C04B41/87 , C04B41/89 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C28/044 , C23C28/42 , C23C30/005 , C04B41/4529 , C04B41/5061 , C04B41/5068 , C04B35/00 , C04B35/583
摘要： 本发明涉及一种用于金属加工的经涂覆的切削刀具以及制备此类刀具的方法。所说的涂层包括一层或多层难熔的化合物，而且至少一层是用物理气相淀积法(PVD)沉积的、由(Me)xAl2O3+x型铝尖晶石化合物的纳米微晶层构成，其中Me是第二金属，而0＜x≤1。
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公开(公告)号：CN1997766A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580020993.8
申请日：2005-05-05
申请人： TDY工业公司
CPC分类号： C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C8/02 , C23C10/02 , C23C12/02 , C23C30/005 , Y10T407/25 , Y10T407/27 , Y10T428/24975 , Y10T428/265 , C04B41/4531 , C04B41/5063 , C04B41/5068 , C04B41/5061 , C04B41/524 , C04B35/117 , C04B35/119
摘要： 本发明涉及一种陶瓷切削工具，诸如具有扩散粘结增强层和CVD涂层的含氧化锆的氧化铝陶瓷切削工具，其特别适用于机加工现代金属材料。该方法包括与引入的含氮和氯化铝的混合物进行化学反应以在陶瓷基底和CVD涂层之间形成扩散粘结增强层。该形成的扩散粘附增强层强粘附到有氧化锆的氧化铝陶瓷基底上，并明显提高CVD涂层的特性，由此在有氧化锆的锆－基氧化铝陶瓷切削工具的工具寿命方面改进了其机加工性能。
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公开(公告)号：CN105073311B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201480018897.9
申请日：2014-02-26
申请人： 住友电工硬质合金株式会社
CPC分类号： C23C14/0641 , B23C2226/12 , B23C2228/10 , C04B41/009 , C04B41/52 , C04B41/89 , C23C14/0664 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42 , C04B35/5831 , C04B41/4529 , C04B41/5062 , C04B41/5063 , C04B41/5066 , C04B41/5068 , C04B41/524 , C04B41/5061
摘要： 本发明涉及一种表面被覆氮化硼烧结体工具，其中至少切削刃部分包括立方氮化硼烧结体和形成在所述立方氮化硼烧结体表面上的覆层替层叠的两种以上具有不同组成的薄膜层(31,32)的一层或多层构成。作为薄膜层的构成层之一的薄膜层B1(31)的厚度为大于30nm且小于200nm。构成薄膜层且不同于薄膜层B1(31)的薄膜层B2(32)由交替层叠的两种以上具有不同组成的化合物层(32A、32B)的一层或多层构成，各种化合物层的层数为1以上，化合物层(32A、32B)各自具有0.5nm以上且小于30nm的厚度。(10)。覆层(10)包括B层(30)，所述B层(30)由交
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