基于激光刻蚀空气柱二维光子晶体的制备方法

    公开(公告)号:CN105891949A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201610338171.4

    申请日:2016-05-20

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: G02B6/122

    CPC分类号: G02B6/1225 G02B2006/12176

    摘要: 本发明公开了一种基于激光刻蚀空气柱二维光子晶体的制备方法,属制备光子晶体技术领域。本发明主要通过控制膜的厚度、孔径大小和孔间隙,来调节反射的颜色的不同。本发明是通过磁控溅射的方法在硅(Si)衬底上沉积铬(Cr)层和氧化硅(SiOx)层,然后在氧化硅(SiOx)层通过激光刻蚀的方法刻蚀空气柱来制备二维光子晶体。通过激光能量来调节孔径大小和孔间隙。本发明的二维光子晶体可以应用于光学防伪方面。

    多模干涉光波导装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100362380C

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN03807403.6

    申请日:2003-01-29

    IPC分类号: G02B6/28 G02B6/136

    CPC分类号: G02B6/2813 G02B2006/12176

    摘要: 说明一种多模干涉(MMI)装置(90),包括空芯多模波导部分(32),该部分耦合于至少一个空芯输入波导部分(30;34;36),在该多模干涉装置中,空芯多模波导部分的内表面上涂有反射层(92)。该反射层的材料在工作波长具有低的折射率,例如为金属或者多层的介电叠层。还说明采用这种MMI装置的共振器(150)和光学放大器(110)。