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公开(公告)号：CN105549260A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610131346.4
申请日：2016-03-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 周晓东
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/133528 , G02F1/13378 , G02F2001/133792
摘要： 本发明公开了一种量子棒结构及其制作方法，用以使量子棒具有特定的排布方向，从而提高量子棒的偏振特性。所述量子棒结构依次包括基板、取向膜层和量子棒膜层，其中，所述取向膜层是具有特定方向的晶格结构的膜层。
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公开(公告)号：CN106990616A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710348821.8
申请日：2017-05-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/13378 , G02F2001/133792
摘要： 本发明公开了制备配向膜的系统与方法、基板以及显示面板，该系统包括：刻蚀装置，所述刻蚀装置中限定出样品容纳空间；模板装置，所述模板装置包括刻蚀模板，所述刻蚀模板与所述刻蚀装置相对设置；以及等离子体装置，所述等离子体装置设置在所述模板装置远离所述刻蚀装置的一侧，所述等离子体装置被设置为能够产生等离子体，且所述等离子体能够通过所述刻蚀模板，作用于所述样品容纳空间中的待刻蚀样品。由此，可以利用等离子体刻蚀制备配向膜，使配向膜边缘整齐，有利于LCD的窄边框化，并缓解配向膜边缘扩散区域厚度不均的问题。
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公开(公告)号：CN104880863A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510374874.8
申请日：2015-06-30
申请人： 厦门天马微电子有限公司 , 天马微电子股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133528 , B82Y20/00 , G02B1/04 , G02B5/3016 , G02F1/133707 , G02F2001/133538 , G02F2202/36 , G02F1/133753 , G02F1/13378 , G02F2001/133757 , G02F2001/133792
摘要： 本发明公开了一种区域化偏光结构及其制作方法、液晶显示面板，该区域化偏光结构包括：基底，位于基底第一侧的至少一个第一碳纳米管区块，位于基底第二侧的至少一个第二碳纳米管区块，第一碳纳米管区块包括多个沿第一方向延伸的碳纳米管，第二碳纳米管区块包括多个沿第二方向延伸的碳纳米管，且第一方向和第二方向不同，从而使得所述区域化偏光结构中，不同区域的配向不同，进而使得包括该区域化偏光结构的液晶显示面板中，不同区域的配向不同，以满足液晶显示面板中不同位置的不同配向要求，解决了由于目前液晶显示面板的配向层中各处的配向方向均相同，而限制液晶显示面板显示质量的提高的问题。
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公开(公告)号：CN1591136A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410075178.9
申请日：2004-09-02
申请人： 精工爱普生株式会社
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/133 , G03B21/00
CPC分类号： G02F1/13378 , G02F1/133723 , G02F2001/133776 , G02F2001/133792 , Y10T428/1009
摘要： 一种无机取向膜、具有这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子仪器、以及这种无机取向膜的形成方法，本发明的无机取向膜的形成方法，是在基材上形成无机取向膜的方法，其特征在于，包括：第一研磨工序，对基材的形成了无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θa的方向照射离子束；成膜工序，在照射了离子束的基材上形成主要由无机材料构成的膜；第二研磨工序，从相对该表面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θb的方向向所述膜的表面照射离子束。根据本发明提供耐光性好、且可产生预倾角的无机取向膜。
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公开(公告)号：CN104280958A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410505653.5
申请日：2014-09-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133784 , G02F1/133345 , G02F1/133514 , G02F1/134309 , G02F1/136286 , G02F2001/133792 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/50 , G02F1/13378
摘要： 本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决在Cell工艺中，产生的白Mura不良的问题。上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括：通过构图工艺，在显示区域形成取向膜的图案，并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案。然后，通过摩擦压印工艺，在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列；其中，上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。
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公开(公告)号：CN1595263A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410068347.6
申请日：2004-08-31
申请人： 精工爱普生株式会社
IPC分类号： G02F1/1337 , G02F1/13 , G03B21/00 , G02B27/18
CPC分类号： C23C14/10 , C23C14/5833 , G02F1/133734 , G02F1/13378 , G02F2001/133792 , G02F2202/09 , Y10T428/1009
摘要： 提供一种耐光性优良而且能够使之产生预倾角的无机取向膜，具备这种无机取向膜的电子器件用基板，液晶面板和电子仪器。而且提供一种该无机取向膜的形成方法。本发明的无机取向膜的形成方法，是在基体材料上形成无机取向膜的方法，其特征在于，其中具有在基体材料上形成主要由无机材料构成膜的成膜工序，和从相对于所述膜的表面垂直方向仅以所定角度θb倾斜的方向，对所述膜表面照射离子束的研磨工序。在研磨工序中对所述膜照射所述离子束，使所述膜上形成具有所定方向性的凹部。在研磨工序中所定的角度θb为2°以上。
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公开(公告)号：CN1114125C
公开(公告)日：2003-07-09
申请号：CN98804506.0
申请日：1998-04-28
申请人： 日产化学工业株式会社
IPC分类号： G02F1/1337 , C08G69/26 , C08G73/10
CPC分类号： G02F1/133711 , G02F1/133723 , G02F1/133788 , G02F2001/133765 , G02F2001/133792 , Y10T428/1005 , Y10T428/1018 , Y10T428/1023 , Y10T428/31721 , Y10T428/31725
摘要： 本发明涉及一种液晶定向处理剂，可用于以一定方向对形成于基板上的高分子薄膜表面照射偏振光紫外线或电子射线，使用该基板，不进行摩擦处理使液晶定向的方法，其特征是，包含高分子主链中具有光化学反应性基团，且玻璃化温度至少在200℃以上的高分子化合物。
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公开(公告)号：CN104280958B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201410505653.5
申请日：2014-09-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133784 , G02F1/133345 , G02F1/133514 , G02F1/134309 , G02F1/136286 , G02F2001/133792 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/50
摘要： 本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决在Cell工艺中，产生的白Mura不良的问题。上述制作方法包括形成显示区域和非显示区域的方法。还包括：通过构图工艺，在显示区域形成取向膜的图案，并至少在非显示区域中除电路绑定区域以外的部分，形成透明保护层的图案。然后，通过摩擦压印工艺，在取向膜的表面形成多条具有一致排列方向的纹路图案，用于对液晶层中的液晶分子进行有序排列；其中，上述透明保护层的表面高度小于等于取向膜的表面高度。
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公开(公告)号：CN104503155A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410654606.7
申请日：2014-11-17
申请人： 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC分类号： G02F1/134309 , G02F1/133345 , G02F1/1337 , G02F1/13378 , G02F1/13439 , G02F1/1368 , G02F2001/133397 , G02F2001/133792 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/40 , G02F1/136 , G02F1/1333 , G02F2001/136295
摘要： 本发明提供一种液晶显示像素结构及其制作方法。该液晶显示像素结构包括：下基板(1)、设于下基板(1)上表面的钝化层(2)、设于钝化层(2)上的像素电极(3)、上基板(4)、及设于上基板(4)下表面的公共电极(5)；每一像素设置多畴；一个像素内，所述钝化层(2)包括至少两种不同深度的沟槽结构，所述像素电极(3)连续不间断的覆盖于所述沟槽结构上，所述不同深度的沟槽结构将一个像素划分成不同区域，实现在同一驱动电压下，一个像素内不同区域的液晶产生不同的偏转角。本发明的液晶显示像素结构，能够显著改善大视角下的色偏现象，并使驱动控制电路简单，像素开口率高。
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公开(公告)号：CN101738797A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200810225910.4
申请日：2008-11-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1343 , H01L21/84 , H01L27/12
CPC分类号： G02F1/133753 , G02F1/133707 , G02F1/13439 , G02F2001/133792 , H01L27/12 , H01L27/1214 , H01L27/1288
摘要： 本发明涉及一种宽视角液晶显示器阵列基板及其制造方法。阵列基板包括形成在基板上的栅线和数据线，栅线和数据线限定的像素区域内形成有薄膜晶体管和像素电极，像素电极上还形成有至少一个诱导液晶形成多畴结构的竖井。制造方法包括：在基板上形成包括栅线、栅电极、数据线、源电极、漏电极和TFT沟道区域的图形；沉积钝化层，在所述钝化层上开设用于漏电极与像素电极连接的第一过孔和用于形成竖井的第二过孔；沉积透明导电薄膜，在像素区域内形成包括像素电极的图形，并在第二过孔位置形成诱导液晶形成多畴结构的竖井。本发明通过使用竖井结构诱导液晶形成多畴结构，不仅实现了视角对称的宽视角，而且简化了阵列基板的结构和制造工艺。
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