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公开(公告)号：CN102308364A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080006400.3
申请日：2010-02-02
IPC分类号： H01L21/027 , G02B26/10 , G02B27/09 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0961 , G03F7/70083 , G03F7/70191 , G03F7/70583
摘要： 本发明提供一种激光曝光装置，其具备：第一蝇眼透镜(2)，其扩大激光的截面形状；第一光程差调整构件(3)，其配置于第一蝇眼透镜(2)的激光的入射侧且使向第一蝇眼透镜(2)的各聚光透镜(2a)分别入射的激光产生相位差；会聚透镜(4)，其将从第一蝇眼透镜(3)射出的激光转变为平行光；第二蝇眼透镜(6)，其将激光带来的光掩模的照明区域内的光强度分布均匀化；第二光程差调整构件(7)，其配置于第二蝇眼透镜(6)的激光的入射侧，使向第二蝇眼透镜(6)的各聚光透镜(6a)分别入射的激光产生相位差。由此，将由蝇眼透镜产生的激光的干涉条纹平均化，同时降低激光的照度不均。
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公开(公告)号：CN100570489C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200510104178.1
申请日：2005-09-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： J·J·M·巴塞曼斯 , A·J·A·布鲁恩斯马 , P·W·H·德贾格 , H·J·P·文克 , J·P·H·本肖普
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70291 , G03F7/70583
摘要： 一种光刻设备，它包括：照射系统，它提供辐射束；折射光栅，它将辐射束分裂成多个子辐射束；单独可控单元阵列，它配置成使多个所述子辐射束射向所述单独可控单元阵列中相关联的单独可控单元，使辐射束图案化；以及投射系统，它将图案化的辐射束投射到衬底的目标部分。所述照射系统提供至少另一个辐射束，把所述辐射束和所述至少另一个辐射束射向所述折射光栅，并且将它们各自分裂成子辐射束，以及把所述辐射束和所述至少另一个辐射束以彼此相关的角度射向所述折射光栅，使得从每一个辐射束导出的子辐射束中至少一个是叠合的。本发明还提供了一种器件制造方法。
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公开(公告)号：CN100524025C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN03152381.1
申请日：2003-07-31
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： 亚历山大·克拉莫 , 斯坦利·W·卓兹克维兹
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/10 , H01S5/00 , H01L21/027
CPC分类号： G02B27/0977 , G02B27/09 , G02B27/0905 , G02B27/102 , G02B27/106 , G02B27/1073 , G02B27/144 , G02B27/145 , G02B27/48 , G03F7/70583
摘要： 一种扩展激光束发射的光，而不改变空间相干性，或不产生散斑的系统和方法。本系统包括激光光源和有多路复用装置的光学投影系统。该多路复用装置把激光光源发射的光，扩展成多束光强大致彼此相等的光束，而不改变空间相干性。该多路复用装置有多个空间上分离的光束分束器，平行于反射镜放置，并在反射镜的同一侧。本系统还包括照明光学系统和投影光学系统，该照明光学系统会聚该多束光束的每一束，该投影光学系统把被照明光学系统输出光照明的掩模的图像，投射在基片上。
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公开(公告)号：CN100483259C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200580029295.4
申请日：2005-08-25
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H04N5/74 , G02B3/14 , G02B26/005 , G02B26/06 , G02B27/48 , G03F7/70583 , H04N9/3129
摘要： 本发明涉及激光投影系统(1)，其具有用于减少所生成的激光束(3)的相干性以减少由该系统生成的图像中烦人的斑点假象的出现的装置。通过使激光束(3)经过包括具有不同折射率的第一(A)和第二(B)不混溶流体的透明单元(6)来减少相干性。这些流体优选地利用电润湿技术在该单元中被位移。该单元(6)因此可以实现为电润湿透镜，其利用伪随机驱动信号来驱动。
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公开(公告)号：CN101013267B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200610064703.6
申请日：2006-12-01
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70583 , G02B27/0905 , G03F7/70075
摘要： 照明系统一种用于基本上均化辐射束并从该辐射束去除至少一些相干性的系统和方法。
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公开(公告)号：CN101581888A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910140598.3
申请日：2009-05-12
申请人： 佳能株式会社
发明人： 古河裕范
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F1/44 , G03F7/70583
摘要： 本发明公开一种测量装置和曝光装置。所述测量装置测量被照明系统照明的照明平面中的空间相干性，包括：测量掩模，其具有至少三个针孔并被布置在照明平面上；检测器，被配置为检测由来自所述至少三个针孔的光形成的干涉图案；和计算器，被配置为基于通过对检测器检测到的干涉图案进行傅立叶变换而获得的傅立叶谱，来计算照明平面中的空间相干性。
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公开(公告)号：CN101164111A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680013040.3
申请日：2006-04-13
申请人： 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC分类号： G11B7/261 , G03F7/70383 , G03F7/70583
摘要： 本发明描述了一种用于把辐射导向层(1)的装置。该装置包括：第一光学元件(L1)，其用于把源自第一辐射源(S1)的第一辐射束(B1)聚焦到所述层上；第二光学元件(L2)，其用于把源自第二辐射源(S2)的第二辐射束(B2)聚焦到所述层上。来自所述第一和所述第二辐射源的辐射波长彼此不同。第一和第二光学元件可以关于所述辐射源联合移动，其中所述两条辐射束的焦点与第一光学元件和第二光学元件关于辐射源的各种移动至少基本上相符。第二光学元件(L2)具有孔径(A2)，其允许没有光学干扰地通过第一辐射束(B1)。这样，实现了L1和L2的紧凑而且重量较轻的配置，并且提高了辐射束质量。此外还公开了一种包括所述装置的设备以及一种使用所述设备的方法。
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公开(公告)号：CN101013267A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200610064703.6
申请日：2006-12-01
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70583 , G02B27/0905 , G03F7/70075
摘要： 一种用于基本上均化辐射束并从该辐射束去除至少一些相干性的系统和方法。
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公开(公告)号：CN1434319A
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：CN02160297.2
申请日：2002-10-18
申请人： ASML美国公司
发明人： 詹姆斯·特萨考耶尼斯 , 沃尔特·奥古斯汀
CPC分类号： G03F7/70583
摘要： 本发明涉及一种激光束扩束用的方法和系统。一种照明系统包括一水平反射的多路复用器和一垂直反射的多路复用器。该水平反射的多路复用器沿着第一尺寸复制该输入光束，从而形成第一多路复用光束。该垂直反射的多路复用器沿第二尺寸复制该第一多路复用光束，从而形成第二多路复用光束。在一个例子中，该水平反射的多路复用器包括一第一分束器、第二分束器和反射镜。该垂直反射的多路复用器包括一分束器和反射镜。
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公开(公告)号：CN107092166A
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201610092322.2
申请日：2016-02-18
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/70025 , G03F7/70075 , G03F7/70141 , G03F7/70516 , G03F7/70583 , G03F7/70716
摘要： 本发明提供了一种曝光系统、曝光装置及曝光方法，其曝光系统包括：激光单元、光斑切换单元以及透镜单元；所述激光单元发射激光束；所述光斑切换单元，根据需曝光的加工工件材质对应的光斑尺寸，使所述激光束在不同光路之间进行切换，获得对应光斑尺寸的激光束；所述透镜单元改变所述激光束的方向；通过光斑切换单元的设置，使得激光束在不同光路之间进行切换，从而对光斑的尺寸范围进行切换，满足了不同线宽工件对光斑尺寸的不同要求，提高了对不同工件的加工适应性，有效的节约了成本。
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