三维储存元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN109786390A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201711114898.5

    申请日:2017-11-13

    发明人: 刘福洲

    IPC分类号: H01L27/11585 H01L27/11597

    摘要: 本发明公开一种三维储存元件及其制造方法。三维储存元件包括多条底部源极线、叠层体、多条位线以及多个柱状结构。多条底部源极线沿着第一水平方向延伸。叠层体设置于多条底部源极线,其中,叠层体包括相互隔离且位于不同阶层的复合结构,且每一复合结构包括一栅导电层以及包覆栅导电层的铁电层。多条位线设置于叠层体上,并沿着一第二水平方向延伸。多条位线与多条底部源极线彼此交错。多个柱状结构贯穿叠层体。每一柱状结构连接于相对应的位线与相对应的底部源极线之间,且每一复合结构和相对应的柱状结构形成记忆胞。每一柱状结构包括阻隔层、栅绝缘层以及通道层,且铁电层与栅绝缘层通过阻隔层的阻隔而相互隔离。