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    半导体器件紫外负性光刻胶的生产装置
    1.
    实用新型
    半导体器件紫外负性光刻胶的生产装置 失效

    公开(公告)号：CN207529106U

    公开(公告)日：2018-06-22

    申请号：CN201721746704.9

    申请日：2017-12-14

    申请人： 成都斯伯里科技有限公司

    发明人： 廖如佴

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/008

    摘要： 半导体器件紫外负性光刻胶的生产装置，主要包括：溶胶釜(D101)、环化釜(D102)、冷冻室(L101)、调胶釜(D103)、过滤机(L102)、百级超净间(L103)，其中，环化釜(D102)分别与溶胶釜(D101)、冷冻室(L101)相连接，过滤机(L102)分别与调胶釜(D103)、百级超净间(L103)相连接，其中，溶胶釜(D101)公称容积420-450L。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    固化性树脂组合物、干膜、固化物和印刷电路板
    5.
    发明授权
    固化性树脂组合物、干膜、固化物和印刷电路板 有权 转让

    公开(公告)号：CN111913354B

    公开(公告)日：2024-09-03

    申请号：CN202010824248.5

    申请日：2015-12-25

    申请人： 太阳控股株式会社

    发明人： 加藤贤治 ,  中岛孝典 ,  嶋宫步

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H05K3/28

    摘要： 本发明涉及固化性树脂组合物、干膜、固化物和印刷电路板。提供可以得到难以使镀银层变色、且由紫外线照射导致的反射率降低少的固化物的固化性树脂组合物、具有由该组合物得到的树脂层的干膜、该固化物以及具有该固化物的印刷电路板。一种固化性树脂组合物等，其包含(A)固化性树脂和(B)氧化钛，前述固化性树脂组合物的硫浓度为100ppm以下。另外，一种固化性树脂组合物等，其包含(A)固化性树脂和(B)氧化钛，前述固化性树脂组合物的固体成分的硫浓度为130ppm以下。

    固化性树脂组合物、干膜、固化物和印刷电路板
    6.
    发明授权
    固化性树脂组合物、干膜、固化物和印刷电路板 有权 转让

    公开(公告)号：CN111913353B

    公开(公告)日：2024-09-03

    申请号：CN202010824247.0

    申请日：2015-12-25

    申请人： 太阳控股株式会社

    发明人： 加藤贤治 ,  中岛孝典 ,  嶋宫步

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H05K3/28

    摘要： 本发明涉及固化性树脂组合物、干膜、固化物和印刷电路板。提供可以得到难以使镀银层变色、且由紫外线照射导致的反射率降低少的固化物的固化性树脂组合物、具有由该组合物得到的树脂层的干膜、该固化物以及具有该固化物的印刷电路板。一种固化性树脂组合物等，其包含(A)固化性树脂和(B)氧化钛，前述固化性树脂组合物的硫浓度为100ppm以下。另外，一种固化性树脂组合物等，其包含(A)固化性树脂和(B)氧化钛，前述固化性树脂组合物的固体成分的硫浓度为130ppm以下。

    一种改性光引发剂及其制备方法和用途
    7.
    发明授权
    一种改性光引发剂及其制备方法和用途 有权

    公开(公告)号：CN111324012B

    公开(公告)日：2024-08-13

    申请号：CN201811541558.5

    申请日：2018-12-17

    申请人： 固安鼎材科技有限公司

    发明人： 王石进 ,  孙涛 ,  刘永祥 ,  桑伟 ,  任雪艳

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08G77/388 ,  C08G77/385 ,  C07F7/08

    摘要： 本发明提供了一种改性光引发剂及其制备方法和用途，所述改性光引发剂由二苯甲酮主体基团与含氢硅油取代基团连接而成，所述改性光引发剂的制备方法包括：(1)将含氢硅油进行卤代化反应，得到中间产物；(2)将所述中间产物与所述二苯甲酮类化合物进行取代反应，得到所述改性光引发剂。所述改性光引发剂用于光刻胶。本发明所提供的改性光引发剂具有表面富集的特性，能够在液体的表面具有较高的浓度，可以有效的解决感光树脂组合物在显影工艺中形成的倒梯形三角区域固化程度不高而被显影液冲断的问题，最终得到表面平整、角度适宜的坡角。

    抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法
    8.
    发明公开
    抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN118451370A

    公开(公告)日：2024-08-06

    申请号：CN202280085974.7

    申请日：2022-12-22

    申请人： 东京应化工业株式会社

    发明人： 平野智之 ,  砂道智成 ,  桥本阳奈 ,  中川裕介

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

    摘要： 一种抗蚀剂组合物，具有碱可溶性树脂、化合物(B0)、以及交联剂，碱可溶性树脂具有以通式(a10‑1)表示的结构单元及以通式(a20‑1)表示的结构单元，LogP为2.8以下，化合物(B0)的波长248nm的摩尔吸光系数为10000mol‑1·L·cm‑1以下，该抗蚀剂组合物的固体成分浓度为15质量％以上。式中，Rx1及Rx2为氢原子等。Yax1及Yax2为单键或2价连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。Rax2为烃基。#imgabs0#

    光阻液及其制造方法
    9.
    发明公开
    光阻液及其制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN118444527A

    公开(公告)日：2024-08-06

    申请号：CN202310146423.3

    申请日：2023-02-21

    申请人： 南亚塑胶工业股份有限公司

    发明人： 廖德超 ,  赵成礼 ,  蔡佳龙

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038

    摘要： 本发明公开一种光阻液及其制造方法。所述光阻液包含一非反应型压克力树脂、一反应型压克力树脂、一反应性单体及一光起始剂。基于所述光阻剂的总重为100wt％，所述非反应型压克力树脂的含量是介于45wt％至55wt％之间，所述反应型压克力树脂的含量是介于18wt％至30wt％之间，所述反应性单体的含量是介于8wt％至18wt％之间，并且所述光起始剂的含量是介于1wt％至5wt％之间。所述非反应型压克力树脂是由一第一原料成分与一起始剂反应形成，所述反应型压克力树脂是由一第二原料成分、所述起始剂及甲基丙烯酸缩水甘油酯反应形成。