摘要:
L'invention concerne un capteur d'image formé dans et sur un substrat semiconducteur (201), ayant une pluralité de pixels (200) comportant chacun : une zone photosensible (205), une zone de lecture, et une zone de stockage (207) s'étendant entre la zone photosensible (205) et la zone de lecture (211); au moins une première électrode verticale isolée (203) s'étendant dans le substrat entre la zone photosensible (205) et la zone de stockage (207) ; et au moins une deuxième électrode verticale isolée (209) s'étendant dans le substrat entre la zone de stockage (207) et la zone de lecture.
摘要:
L'invention porte sur un procédé de gravure d'un motif dans une couche de matériau diélectrique poreux (140), comprenant : la définition du motif dans un masque (120, 130) surmontant la couche de matériau diélectrique poreux (140), au moins une gravure de la couche de matériau diélectrique poreux (140) à travers le masque (120, 130).
La gravure est réalisée dans un plasma formé par un mélange comprenant un gaz à base de silicium, en présence d'azote (N 2 ) ou d'oxygène (O 2 ) de manière à faire croître tout au long de la gravure une couche de passivation (112), au moins sur les flancs de la couche de matériau diélectrique poreux (140). L'invention s'applique de manière particulièrement avantageuse à la formation de tranchées pour former des lignes d'interconnexion électrique.
摘要:
Le procédé d'obtention d'au moins un nanoélément (4) à base de silicium, notamment un nanofil, comporte les étapes suivantes : fournir un substrat comprenant en surface une première couche (1) comprenant du silicium électriquement dopé ; former, sur la première couche (1), une deuxième couche (2) à base d'oxyde de silicium avec des atomes de carbone (3) dispersés dans ladite deuxième couche (2) ; et exposer les première et deuxième couches (1, 2) à une atmosphère oxydante de sorte à oxyder au moins une première tranche (1a) de la première couche (1) à l'interface de ladite première couche (1) avec la deuxième couche (2) et à former ledit au moins un nanoélément (4) au niveau de ladite première tranche (1 a).
摘要:
La présente invention concerne un procédé de dosage d'un élément présent en tout ou partie sous la forme de particules en suspension dans un liquide, comprenant au moins les étapes consistant en : (i) disposer d'un échantillon de ladite suspension à analyser, supplémenté avec au moins un agent anti-radicaux libres hydrocarboné ; (ii) soumettre ledit échantillon (i) à une sonication, réalisée à une température contrôlée pour prévenir tout échauffement de l'échantillon susceptible d'activer des réactions impliquant les particules dudit élément à doser, ces réactions pouvant résultées dans la dégradation des particules sous l'effet de radicaux libres générés par la sonication; (iii) doser ledit élément par analyse spectrométrique, telle que la spectrométrie de masse, de l'échantillon (ii) ;
l'étape (iii) étant réalisée consécutivement ou simultanément à l'étape (ii) de sonication.
摘要:
Le dispositif de maintien et de réglage d'aimants permanents élémentaires (30) inclus dans un système de spectroscopie ou d'imagerie par résonance magnétique, comprend pour chaque aimant permanent élémentaire (30) une première fourche (10) rigide en matériau amagnétique qui pince latéralement de manière fixe l'aimant permanent élémentaire (30) et une deuxième fourche (20) rigide en matériau amagnétique qui est en prise avec la première fourche (10) par un système de glissière (15, 16, 21, 22) et qui est munie de moyens de réglage radial (23) de la première fourche (10) par rapport à un support fixe (40) auquel est rattachée la deuxième fourche (20). Le dispositif permet des réglages fins après l'assemblage d'une structure aimantée constituée de couronnes d'aimants élémentaires.
摘要:
Un étalon métrologique bidimensionnel comporte une pluralité de trois cylindres étalon 12A, 12B et 12C ayant chacun un diamètre connu et une pluralité d'un même nombre de cales étalon 13A, 13B et 13C ayant chacun une longueur connue, chaque cale étalon étant intercalé entre deux des cylindres étalon en sorte que ses faces extrêmes sont en contact avec les parois desdits deux cylindres étalon, l'ensemble des cylindres étalon et des cales étalon étant fixé à une platine plane 11 en formant conjointement un triangle. Des règles d'appui et d'alignement 14A, 14B et 14C assurent, par contact avec les cales étalon et/ou les cylindres étalon, un alignement des cales étalon entre les cylindres étalon, tout en étant fixées à la platine.
摘要:
La présente invention a pour objet une nouvelle famille de composés du type 2,3-dihydroquinazolin-4(1 H )-one de formule générale (I)
et leur utilisation en tant qu'inhibiteurs des effets toxiques des toxines à activité intracellulaire, comme par exemple la ricine, utilisant le transport rétrograde pour intoxiquer les cellules.
摘要:
An electronic device may include a substrate, a buried oxide (BOX) layer overlying the substrate, at least one semiconductor device overflying the BOX layer, and at least one shallow trench isolation (STI) region in the substrate and adjacent the at least one semiconductor device. The at least one STI region defines a sidewall surface with the substrate and may include an oxide layer lining a bottom portion af the sidewall surface, a nitride layer lining a top portion of the sidewall surface above the bottom portion, and an insulating material within the nitride and oxide layers.
摘要:
Procédé de fabrication d'un micro-imageur opto-microélectronique (100), comprenant : une étape de formation d'une première partie fonctionnelle (12) sur la base d'un premier substrat (10) qui comprend une couche superficielle (120) de semi-conducteur monocristallin et une couche de base (15) de matériau isolant, dans laquelle on réalise au moins un transistor (MOSFET), et au moins une première plage de connexion électrique (148) configurée pour participer à une liaison électrique d'une électrode du transistor à une électrode (34) de pixel, une étape de transfert de la première partie fonctionnelle (12) sur un deuxième substrat (20), une étape d'amincissement du premier substrat (10) jusqu'à la couche de base (15); une étape de formation, sur la couche de base (15), d'une deuxième partie fonctionnelle (30), comprenant l'électrode (34) de pixel et dotée d'au moins une deuxième plage de connexion électrique (38). Il comprend, avant l'étape de transfert, une étape de formation d' un via (36), connecté à la première plage de connexion électrique (148) et traversant la première partie fonctionnelle (12), et l'étape de formation de la deuxième partie fonctionnelle (30) comporte le raccordement du via (36) à la deuxième plage de connexion électrique (38)