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    Neue Sulfoniumsalze und deren Verwendung
    31.
    发明公开
    Neue Sulfoniumsalze und deren Verwendung 失效
    Neue Sulfoniumsalze und deren Verwendung。

    公开(公告)号：EP0410250A1

    公开(公告)日：1991-01-30

    申请号：EP90113552.5

    申请日：1990-07-16

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Boettcher, Andreas, Dr.

    IPC分类号： C07C381/12 ,  C08F2/50 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/029 ,  C07C381/12

    摘要： Die Erfindung betrifft neue Sulfoniumsalze der allgemeinen Formel (I)
    worin

    Ae = nichtnucleophiles Gegenion,
    x = 1, 2 oder 3,
    R = Kohlenwasserstoffrest,
    R = Arylen, substituiertes Arylen,
    R" =
    worin R 1 , R 2 und R 3 für Alkyl, für ein- oder mehrfach halogensubstituiertes Alkyl oder
    R 1 und R 2 für Wasserstoff oder Alkyl stehen, und R 3 für Phenyl, Alkenyl oder Cycloalkenyl steht, oder
    R 1 für Wasserstoff steht, und R 2 und R 3 zu einem ethylenisch ungesättigten Ring geschlossen sind, oder
    R 1 und R 2 für Wasserstoff, Alkyl, Cycloalkyl oder Aryl stehen, und R 3 für Alkoxy steht oder
    R 1 für Wasserstoff oder Alkyl steht, R 2 und R 3 für Alkoxy, Aryloxy oder substituiertes Aryloxy stehen.

    Diese Sulfoniumsalze eignen sich als Photoinitiatoren für die kationische Polymerisation und zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern.

    摘要翻译： 本发明涉及通式（I）的新型锍盐，其中A（ - ）是非亲核抗衡离子，x是1,2或3，R是烃基，R'是亚芳基或被取代的 亚芳基，其中R 1，R 2和R 3是被卤素单取代或多取代的烷基或烷基，或R 1和R 2是氢或烷基，R 3 >是苯基，烯基或环烯基，或R 1是氢，并且R 2和R 3被环化以得到烯属不饱和环，或R 1和R 2是氢，烷基，环烷基 或芳基，R 3是烷氧基，或R 1是氢或烷基，R 2和R 3是烷氧基，芳氧基或取代的芳氧基。 这些锍盐适合作为阳离子聚合的光引发剂和用于制备浮雕图案和浮雕图像。

    Verfahren zur Entwicklung positiv arbeitender Photoresists
    34.
    发明公开
    Verfahren zur Entwicklung positiv arbeitender Photoresists 失效
    积极发展光源解决方案

    公开(公告)号：EP0355015A3

    公开(公告)日：1990-05-30

    申请号：EP89114813.2

    申请日：1989-08-10

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst

    IPC分类号： G03F7/32

    CPC分类号： G03F7/322

    摘要： Die Erfindung betrifft eine wäßrige Entwicklerlösung für positiv arbeitende Photoresists sowie ein Verfahren zum Entwickeln. Die Entwicklerlösung enthält als wasserlösliche basische Verbindung eine Verbindung der allgemeinen Formel (I),
    worin R¹ bis R⁵ untereinander gleich oder verschieden sind und für H, OH, Hydroxyalkyl, Alkoxi oder Alkyl stehen. Sie eignen sich zur Entwicklung positiv arbeitender Photoresists.

    Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern
    35.
    发明公开
    Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern 失效
    正和负性工作辐射敏感混合物以及用于制造浮雕图案的方法。

    公开(公告)号：EP0342498A2

    公开(公告)日：1989-11-23

    申请号：EP89108375.0

    申请日：1989-05-10

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Binder, Horst

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045

    摘要： Die Erfindung betrifft positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern.
    Diese strahlungsempfindlichen Gemische enthalten ein polymeres Bindemittel und eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung enthält, sowie eine zusätzliche Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, wobei als polymere Bindemittel Umsetzungsprodukte aus phenolische Hydroxylgruppen enthaltenden Polymeren mit Dihydropyran oder Alkylvinylethern eingesetzt werden.
    Diese strahlungsempfindlichen Gemische eignen sich insbesondere zur Herstellung von Reliefmustern.

    摘要翻译： 本发明涉及正性和负性工作辐射敏感混合物，并为的凹凸图案的形成方法。 ... 的辐射敏感混合物包含聚合物粘合剂和有机化合物在wässrige碱性显影剂通过酸的作用增加，且其含有至少一个分组通过酸可分解的，和一个额外的分组，其形成在谁的溶解度 辐射的作用下强酸，所述聚合物粘合剂是所用聚合物的反应产物含有酚羟基基团与二氢吡喃或烷基乙烯基醚。 ... 这些辐射敏感混合物是特别适合的凹凸图案的形成。

    Sulfoniumsalze mit säurelabilen Gruppierungen
    36.
    发明公开
    Sulfoniumsalze mit säurelabilen Gruppierungen 失效
    锍mit mit en。。。。。。。。。

    公开(公告)号：EP0297442A1

    公开(公告)日：1989-01-04

    申请号：EP88110061.4

    申请日：1988-06-24

    申请人： BASF Aktiengesellschaft

    发明人： Schwalm, Reinhold, Dr. ,  Boettcher, Andreas, Dr.

    IPC分类号： C07C381/12 ,  C07F7/08 ,  C08F4/00 ,  G03F7/26

    CPC分类号： C07C381/12 ,  C07F7/1856 ,  G03F7/029

    摘要： Die Erfindung betrifft Sulfoniumsalze der allgemeinen Formel
    worin R¹, R² und R³ untereinander gleich oder verschieden sind und für aliphatische und/oder aromatische Reste, die gegebenenfalls Heteroatome enthalten, stehen oder zwei der Reste R¹ bis R³ miteinander zu einem Ring verknüpft sind, mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R¹ bis R³ mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung enthält oder einer der Reste R¹ bis R³ mit einem oder mehreren weiteren Sulfoniumsalzresten, gegebenenfalls über durch Säure spaltbare Gruppierungen, verknüpft ist und X ⊖ ein nichtnukleophiles Gegenion bedeutet.
    Sie eignen sich als Photoinitiatoren für die Kationische Polymerisation.

    摘要翻译： 其中R 1，R 2和R 3彼此相同或不同，并且表示可以含有杂原子的脂族和/或芳族基团，或两个 基团R 1至R 3彼此连接以形成环，条件是基团R 1至R 3中的至少一个含有至少一个可被酸或一个或多个 的基团R 1至R 3与一个或多个其它锍盐基团连接，如果需要，可通过可被酸切割的基团，并且X（ - ）表示非亲核抗衡离子，适合作为光引发剂 阳离子聚合。