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    METHOD FOR COATING A SUBSTRATE AND COATED PRODUCT
    83.
    发明公开
    METHOD FOR COATING A SUBSTRATE AND COATED PRODUCT 无效
    方法用于涂覆基材和涂布产品

    公开(公告)号：EP2104753A2

    公开(公告)日：2009-09-30

    申请号：EP07868426.3

    申请日：2007-10-12

    申请人： H.C. Starck GmbH & Co. KG

    发明人： ZIMMERMANN, Stefan ,  MILLER, Steven A. ,  SHEKHTER, Leonid N.

    IPC分类号： C23C24/08

    CPC分类号： C23C24/04 ,  B22F7/08 ,  Y10T428/12493 ,  Y10T428/31678

    摘要： Disclosed is a method of applying coatings to surfaces, wherein a gas flow forms a gas-powder mixture with a powder of a material selected from the group consisting of niobium, tantalum, tungsten, molybdenum, titanium, zirconium, nickel, cobalt, iron, chromium, aluminium, silver, copper, mixtures of at least two thereof or their alloys with at least two thereof or with other metals, the powder has a particle size of from 0.5 to 150 μm, an oxygen content of less than 500 ppm oxygen and a hydrogen content of less than 500 ppm, wherein a supersonic speed is imparted to the gas flow and the jet of supersonic speed is directed onto the surface of an object. The coatings prepared are used, for example, as corrosion protection coatings.

    Verfahren zur Herstellung von Tantalpulver für Ventile
    84.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung von Tantalpulver für Ventile 有权
    Verfahren zur Herstellung von MetallpulverfürVentile

    公开(公告)号：EP2008742A1

    公开(公告)日：2008-12-31

    申请号：EP08166120.9

    申请日：2005-04-09

    申请人： H.C. Starck GmbH & Co. KG ,  H.C. Starck Ltd.

    发明人： Haas, Helmut ,  Bartmann, Ulrich ,  Komeya, Tadashi ,  Sato, Nobuyuki

    IPC分类号： B22F9/22 ,  C22B5/12 ,  C22B34/24 ,  H01G9/042

    CPC分类号： B22F9/22 ,  B22F2203/13 ,  B22F2301/20 ,  C22B5/04 ,  C22B5/12 ,  C22B34/24 ,  H01G9/0525

    摘要： Verfahren zur Herstellung von Ventilmetallpulvern, insbesondere von Niob- und Tantalpulver, durch Reduktion entsprechender Ventilmetalloxidpulver mittels dampfförmiger reduzierender Metalle und/oder deren Hydride, vorzugsweise in Gegenwart eines inerten Trägergases, wobei die Reduktion bei einem Dampfpartialdruck des reduzierenden Metalls/Metallhydrides von 5 bis 110 hPa und einem Gesamtdruck von kleiner 1000 hPa durchgeführt wird, und so erhältliches Tantalpulver mit einer hohen Stabilität der Pulveragglomeratteilchen.

    摘要翻译： 在金属阀粉末，特别是铌和钽的生产中，金属氧化物粉末通过还原金属蒸气和/或其惰性载气中的氢化物而还原。 还原反应为还原金属/氢化物的部分蒸气压为5-110hPa，总压力为1000hPa。 优选的金属氧化物是钛，锆，铪，钒，铌，钽，钼和/或钨，特别是五氧化二钽。 还原金属是镁蒸气。

    Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden
    86.
    发明公开
    Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden 有权

    公开(公告)号：EP1810986A2

    公开(公告)日：2007-07-25

    申请号：EP07000668.9

    申请日：2007-01-15

    申请人： H.C. Starck GmbH & Co. KG

    发明人： Elschner, Andreas ,  Reuter, Knud ,  Loevenich, Peter Wilfried

    IPC分类号： C08G61/12 ,  C08L65/00

    CPC分类号： C08G61/126 ,  C08L65/00 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1092 ,  H01L51/0037 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/5088 ,  H05B33/14 ,  Y02E10/549

    摘要： Die Erfindung betrifft Formulierungen enthaltend Polythiophene A) enthaltend wenigstens ein Polythiophen enthaltend wiederkehrende Einheiten der allgemeinen Formel (I-a) und/oder (I-b),

    und wenigstens zwei weitere Polymere, deren Verwendung und elektrolumineszierende Anordnungen enthaltend lochinjizierende Schichten enthaltend diese Formulierungen.

    摘要翻译： 制剂包含至少一种含噻吩并呋喃化合物（Ia）和/或噻吩化合物（Ib）的重复单元的聚噻吩化合物; 至少一种含金属 - 三氧化硫离子（SO 3 - > M +）的聚合物; 和含有至少一种金属三氧化硫离子（SO 3→M +）或金属 - 羰基离子（COO→M +））的部分氟化或全氟化聚合物。 制剂至少包含含有重复单元的聚噻吩化合物，例如式（Ia）的噻吩并呋喃化合物和/或式（Ib）的噻吩化合物; 含有至少一种金属 - 三氧化硫离子（SO 3 - > M +）的聚合物（A）; 和至少含有金属三氧化硫离子（SO 3→M +）或金属羰基离子（COO→M +））的部分氟化或全氟化聚合物（B）。 任选取代的1-5C亚烷基，例如乙烯（优选）或丙烯; Y 1> O或S; R：1-18C-烷基，5-12C-环烷基，6-14C-芳基，7-18C-芳基烷基，1-4C-羟基烷基或OH; x：0-8，优选0; 和M + H +，Na +，K +（全部优选），Rb +，Cs +，Li +或NH 4 +。 。 条件是：R与A键合; 当Y 1>为O时，重复单元为（Ia），当Y 1>为S时，重复单元为（Ib）。 独立权利要求包括：（1）制备（I）的方法，包括任选在溶液或分散体形式的稀释剂存在下将聚噻吩和（A）与（B）混合; 和（2）电致发光器件，优选地包括至少两个电极的光二极管，其中在电极之间可选地，至少一个电极施加在透明衬底上，至少一个发射极层和含有该制剂的空穴注入层。 [图片]。

    Verfahren zur Herstellung hochreiner Zirkonium-, Hafnium-, Tantal- und Niobalkoxide
    88.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung hochreiner Zirkonium-, Hafnium-, Tantal- und Niobalkoxide 有权
    维他命Zur Herstellung hochreiner Zirkonium-，Hafnium-，Tantal-和Niobalkoxide

    公开(公告)号：EP1764354A1

    公开(公告)日：2007-03-21

    申请号：EP06017017.2

    申请日：2006-08-16

    申请人： H.C. Starck GmbH & Co. KG

    发明人： Reuter, Knud ,  Zell, Friedrich ,  Ebner, Martina

    IPC分类号： C07C31/28 ,  C07C29/94 ,  C07C29/80 ,  C07C29/88 ,  C07F9/00 ,  C23C16/40

    CPC分类号： C07C29/88 ,  C07C29/80 ,  C07C29/94 ,  C07F7/006 ,  C07F9/005 ,  C07C31/28

    摘要： Es wird ein neues Verfahren zur Herstellung hochreiner Zirkonium-, Hafnium-, Tantal- und Niobalkoxide (-alkoholate) sowie neue Tantal- und Niobverbindungen und ein Verfahren zu deren Herstellung beschrieben.

    摘要翻译： 高纯度金属醇盐（I）的制备包括将金属醇盐与卤素含量大于200ppm的杂质（0.05，优选0.1-10重量％）卤化烷氧化物混合，原料醇盐（30，优选4-12 重量％）和醇（a），随后加入含有卤素（0.1-5重量％）的金属氧化物，生的醇盐和氨。 制备式（M（OR）x）的高纯度金属醇盐（I）包括将金属醇盐与卤素作为杂质的卤代烷氧化物（0.05，优选0.1-10重量％）混合，卤素含量大于200ppm， 原料醇盐（30，优选4-12重量％）和式（R-OH）的醇（a），随后加入含有卤素（0.1-5重量％）的金属氧化物，生醇和氨。 M：Nb，Ta，Zr或Hf; R：1-12C-烷基; 和x：5（当M为Nb或Ta时）或4（当M为Zr或Hf时）。 还包括独立权利要求：（1）式（M 2（OR）9 Hal）的金属化合物（A）; 和（2）包含（A）（0.05重量％）和M（OR）5的混合物。M：Ta或Nb; 和hal：F，Cl（优选），Br或I.

    Elektrolytkondensatoren mit polymerer Aussenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
    89.
    发明公开
    Elektrolytkondensatoren mit polymerer Aussenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung 有权

    公开(公告)号：EP1746613A1

    公开(公告)日：2007-01-24

    申请号：EP06014379.9

    申请日：2006-07-11

    申请人： H.C. Starck GmbH & Co. KG

    发明人： Merker, Udo, Dr. ,  Wussow, Klaus, Dr.

    IPC分类号： H01G9/15

    CPC分类号： H01G9/0036 ,  H01G9/028 ,  H01G9/042 ,  H01G9/15 ,  H01G11/48 ,  H01G11/56 ,  Y02E60/13 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/417

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren mit niedrigem äquivalenten Serienwiderstand und niedrigem Reststrom, die aus einem Feststoffelektrolyten aus leitfähigen Polymeren und einer äußeren Schicht enthaltend leitfähige Polymere bestehen, nach diesem Verfahren hergestellte Elektrolytkondensatoren sowie die Verwendung solcher Elektrolytkondensatoren.

    摘要翻译： 电解质冷凝器的制备包括在电容器本体（1）上引入电极材料的多孔电极体，电介质和固体电解质; 至少包含具有至少任选取代的聚苯胺和/或聚噻吩的导电聚合物颗粒与噻吩重复单元（I）或（II），粘合剂，分散剂和固体颗粒的分散体; 并通过任选地除去分散剂或使粘合剂硬化来制备导电聚合物外层。 电解质冷凝器的制备包括在冷凝器主体（1）上引入电极材料的多孔电极体，电介质和至少含有导电材料的固体电解质，其部分地或完全地覆盖电介质表面; 至少包含具有至少任选取代的聚苯胺和/或聚噻吩的导电聚合物颗粒的分散体与式（I）或（II）的噻吩重复单元，粘合剂，分散剂和直径为0.7- 20亩; 并通过任选地除去分散剂或使粘合剂硬化来制备导电聚合物外层; 其中直径小于700nm的导电聚合物颗粒的浓度至少为5重量％。 A =任选取代的1-5C亚烷基; R =任选取代的1-18C烷基，5-12C环烷基，6-14C芳基，7-18C芳烷基，1-4C羟烷基或羟基; x = 0-8。 R的基团在A上结合。通过上述方法获得的电解质冷凝器包括独立的权利要求。 [图片]。

    TRÄGERPLATTE FÜR SPUTTERTARGETS
    90.
    发明公开
    TRÄGERPLATTE FÜR SPUTTERTARGETS 审中-公开
    支撑板用于溅射靶材

    公开(公告)号：EP1743047A1

    公开(公告)日：2007-01-17

    申请号：EP05731108.6

    申请日：2005-04-09

    申请人： H.C. Starck GmbH & Co. KG

    发明人： SCHOLL, Roland ,  MEYER, Bernd ,  PASSING, Gerd ,  WÖTTING, Gerhard

    IPC分类号： C23C14/34

    CPC分类号： C23C14/3407 ,  C22C27/00

    摘要： Disclosed is a support plate for sputter targets. Said support plate is made of a composite material containing 5 to 99 percent by weight of at least one refractory metal from the group comprising Mo, W, Re, and Ta as well as 95 to 1 percent by weight of at least one additional metallic component from the group comprising Cu, Ag, and Au. Also disclosed are a method for producing said support plate and a unit encompassing the inventive support plate and a sputter target.