PROCÉDÉ DE RÉALISATION D'UNE PHOTODIODE ET PHOTODIODE

    公开(公告)号:EP3570330A1

    公开(公告)日:2019-11-20

    申请号:EP19174270.9

    申请日:2019-05-14

    摘要: L'invention a pour objet un procédé de réalisation d'une photodiode latérale comprenant une couche 12 surmontée par un premier motif comprenant une zone d'absorption A intercalée entre deux zones de contact 1, 2. Après encapsulation du premier motif, une cavité est formée entre les zones de contact par gravure au travers d'ouvertures, puis remplie par un matériau 3 constitutif de la zone d'absorption A par épitaxie latérale de ce matériau 3 à partir des parois latérales de la cavité 42.
    Selon une possibilité, une première épitaxie latérale est réalisée pour former une zone de multiplication M, puis une deuxième épitaxie latérale est réalisée pour former une zone de charge C avant l'épitaxie latérale du matériau 3 constitutif de la zone d'absorption A, de façon à obtenir une photodiode à avalanche latérale présentant un confinement optique amélioré.
    L'invention a également pour objet une photodiode latérale présentant un confinement optique amélioré.