摘要:
Dispositif semi-conducteur de type transistor, comportant : - un substrat (1), - une couche isolante comportant des parois latérales formées de part et d'autre de la source (100) et du drain (102), - des zones de drain (100), de canal (2a), et de source (102), la zone de canal étant formée sur la couche isolante et étant contrainte par les zones de drain et de source, comprises entre les parties latérales, - une grille (4), séparée du canal par un isolant de grille.
摘要:
Dispositif semi-conducteur de type transistor, comportant : - un substrat (1), - une couche isolante comportant des parois latérales formées de part et d'autre de la source (100) et du drain (102), - des zones de drain (100), de canal (2a), et de source (102), la zone de canal étant formée sur la couche isolante et étant contrainte par les zones de drain et de source, comprises entre les parties latérales, - une grille (4), séparée du canal par un isolant de grille.
摘要:
Réalisation d'un dispositif microélectronique sur un substrat de type semi-conducteur sur isolant, le dispositif étant doté d'un transistor d'un type donné dont la structure de canal est formée de barreau(x) semi-conducteur(s), une zone diélectrique différente de la couche isolante du substrat étant prévue, en remplacement de la couche isolante, en regard de la structure de canal du transistor, spécifiquement pour ce type donné de transistor.