PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GUIDE À ONDE LENTE EN GERMANIUM ET PHOTODIODE INCORPORANT CE GUIDE À ONDE LENTE
    3.
    发明公开
    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GUIDE À ONDE LENTE EN GERMANIUM ET PHOTODIODE INCORPORANT CE GUIDE À ONDE LENTE 有权
    制造这种慢波导的锗慢波导和光电二极管的制造方法

    公开(公告)号:EP3276385A1

    公开(公告)日:2018-01-31

    申请号:EP17180850.4

    申请日:2017-07-12

    摘要: Ce procédé de fabrication d'une guide (26) à onde lente en germanium comporte :
    - la réalisation dans une dalle (14) en silicium d'une cavité dont la section, parallèle au plan de la dalle, est identique à la section horizontale du guide à onde lente et dont le fond est situé à l'intérieur de la dalle en silicium, puis
    - l'exécution d'une opération de croissance épitaxiale en phase vapeur du germanium sur le fond de la cavité jusqu'à remplir complètement cette cavité de germanium, et
    - avant la mise en oeuvre de ladite opération de croissance épitaxiale, le dépôt d'une couche de protection sur une face supérieure de la dalle en silicium, ou, après la mise en oeuvre de ladite opération de croissance épitaxiale, le retrait du germanium qui a crû sur cette face supérieure.

    摘要翻译: 用于制造的导向件(26),以减缓波锗的方法,包括: - 在其横截面平行于板坯的平面的空腔的硅的板坯(14)进行相同的水平截面 的慢波导,其底部位于硅晶片内,然后 - 在腔底部执行外延锗气相生长操作,以完全填充 锗腔,以及 - 在实施所述外延生长操作之前,在硅平板的上表面上沉积保护层,或者在实施所述外延生长操作之后, 在该上表面上生长的锗的取出。

    SCANNER OPTIQUE
    9.
    发明公开
    SCANNER OPTIQUE 审中-公开

    公开(公告)号:EP3933483A1

    公开(公告)日:2022-01-05

    申请号:EP21179932.5

    申请日:2021-06-17

    IPC分类号: G02B26/06 G02B26/10 G02B27/00

    摘要: La présente invention concerne un scanner pourvu d'une pluralité de scanners élémentaires chacun susceptible de balayer une surface différente au moyen d'un faisceau lumineux.
    A cet égard, chaque scanner élémentaire comprend une poutre, par exemple une poutre vibrante, sur ou dans laquelle est formé un réseau à commande de phase destiné à extraire au niveau d'une face de la poutre un faisceau lumineux susceptible d'être émis par une source lumineuse. Selon la présente invention, au moins une poutre d'un des scanners élémentaires, dit premier scanner, présente, au repos, une flèche différente de celle des poutres des autres scanners élémentaires. Cet agencement permet au premier scanner de balayer une surface, dit première surface, différente de celle balayée par les autres scanners élémentaires.
    En d'autres termes, le scanner optique selon la présente invention permet de couvrir une surface relativement importante tout en conservant une compacité appréciable.

    CIRCUIT PHOTONIQUE ATTÉNUATEUR À STRUCTURE INTERFÉROMÉTRIQUE VERTICALE

    公开(公告)号:EP3835838A1

    公开(公告)日:2021-06-16

    申请号:EP20210216.6

    申请日:2020-11-27

    摘要: L'invention concerne un circuit photonique d'atténuation d'amplitude d'un signal optique, comprenant un interféromètre de Mach-Zehnder destiné à coupler un guide d'onde d'entrée (14) et un guide d'onde de sortie (15), ledit interféromètre comprenant une section de modulation (SM1) qui comporte un premier guide d'onde (11), un deuxième guide d'onde (12) et un déphaseur (13) configuré pour introduire une différence de phase entre un premier signal optique circulant sur le premier guide d'onde et un deuxième signal optique circulant sur le deuxième guide d'onde.
    Le premier et le deuxième guide d'onde sont agencés dans deux couches parallèles distinctes et le déphaseur est un déphaseur thermo-optique agencé de manière à agir préférentiellement sur l'un des premier et deuxième guides d'onde.