摘要:
The invention relates to an optoelectronic device (10) comprising a carrier (14) comprising a face (18) comprising flat butt-jointed facets inclined in relation to each other; seeds (26), mainly consisting of a first compound selected from the group comprising the compounds III-V, the compounds II-VI and the compounds IV, in contact with the carrier in the region of at least some of the joints (22) between the facets; and conical or frustoconical, wire-like three-dimensional semiconductor elements (28) of a nanometric or micrometric size, mainly consisting of said first compound, on the seeds.
摘要:
L'invention porte sur un dispositif optoélectronique (1) comportant des diodes électroluminescentes réalisées en un matériau comportant majoritairement un même composé semiconducteur et agencées de sorte que : - une pluralité de N diodes électroluminescentes (40), N>2, sont connectées en série et aptes à être polarisées en direct ; - au moins une diode électroluminescente (50) est connectée en parallèle à la pluralité des N diodes électroluminescentes (40), et apte à être polarisée en inverse formant ainsi une diode Zener ; - le nombre N desdites diodes électroluminescentes (40) connectées en série étant adapté de sorte que la somme des N tensions de seuil (Vs) soit inférieure à la tension de claquage (Vc) de la diode Zener.
摘要:
Procédé de réalisation d'un dispositif d'affichage (1000), comportant au moins la mise en oeuvre des étapes suivantes : - réalisation d'une matrice de LEDs (100) comportant chacune des électrodes accessibles depuis une face arrière de la matrice de LEDs et des surfaces d'émission lumineuse depuis une face avant de la matrice de LEDs ; - solidarisation, sur la face arrière de la matrice de LEDs, d'un empilement de couches comprenant au moins une couche de semi-conducteur, une couche de diélectrique de grille et une couche de matériau conducteur de grille ; - réalisation, à partir de l'empilement de couches, d'un circuit électronique de commande couplé électriquement aux électrodes des LEDs, comprenant la réalisation de transistors FET dont des zones actives (216) sont formées dans la couche de semi-conducteur et dont les grilles (224) sont formées dans les couches de diélectrique de grille et de matériau conducteur de grille.
摘要:
The invention relates to a light-emitting device comprising a light-emitting diode (100) having a layer of n-doped InGaN (102) and a layer of p-doped GaN (104), and an active zone (110) comprising a number m of InGaN-emitting layers (112), each disposed between two InGaN barrier layers (114), in which the indium compositions of the emitting layers are different and greater on the side of the n-doped InGaN layer than on the side of the p-doped GaN layer, and the indium compositions of the barrier layers are different and greater on the side of the n-doped InGaN layer than on the side of the p-doped GaN layer, as well as comprising: an electric power supply for supplying the diode with a periodic signal; and a device for controlling the power supply, which can alter the peak value of the periodic signal according to a spectrum of the emitted light.
摘要:
A method for producing at least one semi-conductive structure (130) on the surface (105) of a support (100) of which the surface comprises silicon. The method comprises the steps consisting of providing the support (100), forming, in contact with an area (101) of the surface (105), called the formation area, a layer (120) of a first material, the remainder (102) of the surface (105), called the free area, remaining free of the first material, the dimensions of the formation area (101) and the first material being suitable for forming the structure (130), the first material comprising gallium, the formation of said layer (120) taking place at a temperature lower than 600°C, and of forming the structure (130) in contact with the layer (120).