公开(公告)号：EP2926197A1

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：EP13851211.6

申请日：2013-10-15

申请人： North Western University

发明人： MIRKIN, Chad, A. ,  LIAO, Xing ,  BROWN, Keith, A. ,  LIU, Guoliang ,  SCHMUCKER, Abrin, L. ,  HE, Shu ,  SHIM, Wooyoung ,  EICHELSDOERFER, Daniel, J. ,  RASIN, Boris

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/207 ,  G03F9/02

CPC分类号： G03F7/7035 ,  B05D1/26 ,  B05D3/06 ,  B82Y40/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2049 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/7045

摘要： In accordance with an embodiment of the disclosure, a method of patterning can include dividing an image into a set of frame sections; determining a tip pattern for a respective portion of an image to be patterned by each tip of the tip array in each frame section of the set of frame sections; disposing the tip array in a patterning position in a first location of the substrate corresponding to a location of the substrate in which the first frame section in the set of frame sections is to be patterned; projecting a first pattern of radiation onto the tip array to selectively irradiate one or more tips of the tip array and pattern the substrate, wherein the first pattern of radiation corresponds to a tip pattern for the first frame section; disposing the tip array in a patterning position in a second location of the substrate corresponding to a location of the substrate in which the second frame section in the set of frame sections is to be patterned; projecting a second pattern of radiation onto the tip array to selectively irradiate tips of the tip array and pattern the substrate, wherein the second pattern of radiation corresponds to a tip pattern for the second frame section; and repeating the disposing and projecting for each frame section in the set of frame sections to pattern the image.

公开(公告)号：EP1060441B1

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：EP99908054.2

申请日：1999-03-02

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB

发明人： SANDSTRÖM, Torbjörn

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G02B26/06

CPC分类号： G03F7/70725 ,  B23K26/032 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0648 ,  B41J2/465 ,  G02B26/0833 ,  G02B26/0841 ,  G02B27/0043 ,  G02B27/4205 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70475 ,  G09G3/2007 ,  G09G3/346 ,  H04N1/195 ,  H04N5/7458 ,  H04N2201/0414

摘要： The present invention relates to an apparatus for creating a pattern on a workpiece sensitive to radiation, such as a photomask, a display panel or a microoptical device. The apparatus comprises a radiation source and a spatial modulator (SLM) having a multitude of modulating elements (pixels). It further comprises an electronic data processing and delivery system feeding drive signals to the modulator, a precision mechanical system for moving said workpiece and an electronic control system coordinating the movement of the workpiece, the feeding of the signals to the modulator and the intensity of the radiation, so that said pattern is stitched together from the partial images created by the sequence of partial patterns. According to the invention the drive signals can set a modulating element to a number of states larger than two.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在对辐射敏感的工件上形成图案的装置，例如光掩模，显示面板或微光学装置。 所述装置包括用于发射电磁辐射的源（602），适于被所述辐射照射的具有多个调制元件（像素）的空间调制器（601），以及投影系统（604），用于产生调制器的图像 工件。 它还包括电子数据处理和传送系统（607），接收要写入的模式的数字描述，从中提取一部分模式序列，将所述部分模式转换成调制器信号，并将所述信号馈送到调制器， 用于使所述工件和/或投影系统相对于彼此移动的精密机械系统（605）和协调工件运动的电子控制系统，将信号馈送到调制器和辐射的强度，使得所述图案 从由部分图案序列创建的部分图像拼接在一起。 根据本发明，驱动信号可以将调制元件设置为大于2的多个状态。

公开(公告)号：EP1060440B1

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：EP99908042.7

申请日：1999-03-02

申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB

发明人： SANDSTRÖM, Torbjörn

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G02B26/06

CPC分类号： G03F7/70725 ,  B23K26/032 ,  B23K26/064 ,  B23K26/0648 ,  B41J2/465 ,  G02B26/0833 ,  G02B26/0841 ,  G02B27/0043 ,  G02B27/4205 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70475 ,  G09G3/2007 ,  G09G3/346 ,  H04N1/195 ,  H04N5/7458 ,  H04N2201/0414

摘要： The present invention relates to an apparatus for creating a pattern with extremely high resolution on a workpiece, such as a pattern on a semiconductor chip. The apparatus comprises a source for emitting electromagnetic radiation in the EUV wavelength range, a spatial modulator (SLM) having a multitude of pixels, an electronic data processing and delivery system receiving a digital description of the pattern to be written, extracting from it a sequence of partial patterns, converting said partial patterns to modulator signals, and feeding said signals to the modulator, and a precision mechanical system for moving said workpiece and/or projection system relative to each other. It further comprises an electronic control system coordinating the movement of the workpiece, the feeding of the signals to the modulator and the intensity of the radiation, so that said pattern is stitched together from the partial images.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于在对辐射敏感的工件上形成图案的装置，例如光掩模，显示面板或微光学装置。 该装置包括用于发射电磁辐射的源（602），适于被所述辐射照射的具有多个调制元件（像素）的空间调制器（601），以及投影系统（604），用于产生调制器的图像 工件。 它还包括电子数据处理和传送系统（607），接收要写入的模式的数字描述，从中提取一部分模式序列，将所述部分模式转换成调制器信号，并将所述信号馈送到调制器， 用于使所述工件和/或投影系统相对于彼此移动的精密机械系统（605）和协调工件运动的电子控制系统，将信号馈送到调制器和辐射的强度，使得所述图案 从由部分图案序列创建的部分图像拼接在一起。 根据本发明，驱动信号可以将调制元件设置为大于2的多个状态。

公开(公告)号：EP1027630A1

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：EP98914847.3

申请日：1998-04-14

申请人： DICON A/S

发明人： HENNINGSEN, Henning

IPC分类号： G03F7/207

CPC分类号： B41J2/465 ,  B41J2/451 ,  G02B6/0008

摘要： The invention relates to at least one light emitter which is arranged to illuminate at least one illumination face via a microshutter arrangement, said microshutter arrangement comprising at least one microshutter, each microshutter comprising a transillumination hole and an electrically activatable diaphragm device associated with it, at least one of the light emitters being arranged to illuminate at least two microshutters via a first lens arrangement, said lens arrangement comprising at least one microlens arranged with respect to each microshutter so that the light emitted by the light emitter or emitters is focused in the individual microshutters. According to the invention it is possible to achieve an illumination over very large areas with an unprecedentedly high and homogeneous illumination intensity on an illumination face.

公开(公告)号：EP0421645B1

公开(公告)日：1997-01-22

申请号：EP90310375.2

申请日：1990-09-21

申请人： HOLTRONIC TECHNOLOGIES LIMITED

发明人： Dandliker, René ,  Brook, John Edward ,  Hamidi, Massoud

IPC分类号： G03H1/00 ,  G03H1/20 ,  G03F7/207

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F7/70358 ,  G03H1/00

公开(公告)号：EP0578562A1

公开(公告)日：1994-01-12

申请号：EP93401751.8

申请日：1993-07-06

申请人： FRANCE TELECOM

发明人： Minghetti, Blandine ,  Tissier, Annie ,  Prola, Alain ,  Schwartz, Eric

IPC分类号： G03F7/207 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F9/7026

摘要： L'invention concerne un procédé de réglage d'une machine d'exposition photolithographique.
A partir d'une plaquette témoin munie de motifs de test identiques, le procédé consiste à illuminer (1000) successivement les motifs de test en lumière blanche, à mesurer (2000) le coefficient de réflectivité de chaque motif de test, et à établir (3000) la loi de correspondance de ce coefficient en fonction, pour chaque emplacement, du paramètre de défocalisation du faisceau d'illumination. La valeur de mise au point optimale est déterminée (4000) par critère de seuil de la valeur du coefficient de réflectivité).
Application à la fabrication des circuits intégrés.

摘要翻译： 本发明涉及一种调整光刻曝光装置的方法。 基于具有相同测试图案的参考卡，该过程包括在测量（2000）每个测试图案的反射系数时，以白光连续照亮（1000）测试图案，并且在确定（3000） 对于每个位置，该系数的函数对照明光束的散焦参数的函数。 通过反射系数值的阈值标准确定最佳聚焦值（4000）（4000）。 应用于集成电路的制造。

公开(公告)号：EP3615226B1

公开(公告)日：2024-07-17

申请号：EP18747311.1

申请日：2018-02-02

IPC分类号： B05D1/18 ,  B05D1/26 ,  G03F7/031 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F7/213 ,  G03F7/22 ,  G03F9/00 ,  G03F7/00 ,  G01Q70/06

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G01Q70/06 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7061 ,  G03F9/7042 ,  G03F9/7046

公开(公告)号：EP3685230A1

公开(公告)日：2020-07-29

申请号：EP18871950.4

申请日：2018-11-02

申请人： Jabil Inc.

发明人： KLIMCZAK, Scott ,  DIACO, Nicholas

IPC分类号： G03F1/68 ,  G03F1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  B29C64/10 ,  B29C64/20 ,  B29C64/25 ,  B29C64/264 ,  B29C64/277

公开(公告)号：EP3060961A4

公开(公告)日：2017-06-28

申请号：EP14856312

申请日：2014-09-25

申请人： APPLIED MATERIALS INC

发明人： BENCHER CHRISTOPHER

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F7/24 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/2051 ,  G03F7/24 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7084

摘要： The present disclosure generally relates to a method and apparatus for processing a web-based substrate. As the substrate travels between rollers, the substrate may be stretched and thus distorted. Once the substrate reaches the roller, the substrate distortion is fixed. By adjusting the processing parameters, the distorted substrate is processed without correcting the distortion.

摘要翻译： 本公开总体上涉及用于处理基于卷筒纸的基板的方法和装置。 当基材在辊之间行进时，基材可能被拉伸并因此变形。 一旦基材到达滚筒，基材变形就会固定。 通过调整处理参数，处理失真的衬底而不校正失真。

公开(公告)号：EP2003680B1

公开(公告)日：2013-05-29

申请号：EP07714730.4

申请日：2007-02-21

申请人： NIKON CORPORATION

发明人： SHIBAZAKI, Yuichi

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70666 ,  G03F7/70675 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70975 ,  G03F9/7026 ,  G03F9/7084 ,  Y10T29/49826

摘要： A partial section of an aerial image measuring unit is arranged at a wafer stage (WST) and part of the remaining section is arranged at a measurement stage (MST), and the aerial image measuring unit measures an aerial image of a mark formed by a projection optical system (PL). Therefore, for example, when the aerial image measuring unit measures a best focus position of the projection optical system (PL), the measurement can be performed using the position of the wafer stage, at which a partial section.of the aerial image measuring unit is arranged, in a direction parallel to an optical axis (AX) of the projection optical system as a datum for the best focus position. Accordingly, when exposing an object (W) with illumination light (IL), the position of the wafer stage (WST) in the direction parallel to the optical axis (AX) is adjusted with high accuracy based on the measurement result of the best focus position.