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公开(公告)号：JP2021190637A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020096652
申请日：2020-06-03
IPC分类号： C11D7/22 , C11D7/50 , C11D7/34 , C11D7/26 , H01L21/304
摘要： 【課題】基板を洗浄し、パーティクルを除去し得る基板洗浄液を得ること。 【解決手段】不溶または難溶の溶質(A)、可溶の溶質(B)、および溶媒(C)を含んでなり、ここで溶媒(C)は水(C−1)を含んでなり;水(C−1)を基準として、可溶の溶質(B)の含有量は、0.1〜500質量%である、基板洗浄液の提供。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021529869A
公开(公告)日：2021-11-04
申请号：JP2021500210
申请日：2018-07-09
摘要： 香料含有粒子は、洗濯プロセス中及び洗濯プロセス後に強化された嗅覚経験で消費者を楽しませるために提供される。このような粒子のそれぞれは、香料、ポリエチレングリコール、及び水溶性又は水分散性フィラー粒子を含有し、水溶性又は水分散性フィラー粒子は、5マイクロメートル〜150マイクロメートルの粒径を特徴とする。
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公开(公告)号：JP2021158352A
公开(公告)日：2021-10-07
申请号：JP2021041403
申请日：2021-03-15
IPC分类号： H01L21/308 , C11D7/28 , C11D7/50 , C11D7/32 , H01L21/304
摘要： 【課題】半導体製造工程においてウエハの回路面に残存する接着ポリマーを金属の腐食なく効率的かつ迅速に除去できる高分子除去用組成物を提供する。 【解決手段】接着ポリマーとしてシリコーン系高分子を除去するための高分子洗浄用組成物であって、フッ化アルキル化合物、極性非プロトン性溶媒および非環状2級アミン化合物または非環状3級アミン化合物を含む洗浄用組成物とする。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JPWO2020080060A1
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：JP2019037993
申请日：2019-09-26
申请人： 昭和電工株式会社
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/50 , H01L21/304
摘要： 接着剤表面との親和性が高く、長期の保存安定性に優れた組成物の提供。第四級フッ化アルキルアンモニウム又は第四級フッ化アルキルアンモニウムの水和物と、非プロトン性溶媒とを含む組成物であって、非プロトン性溶媒が、(A)窒素原子上に活性水素を有さない炭素原子数4以上のN−置換アミド化合物、及び(B)エーテル化合物を含む、組成物。
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公开(公告)号：JP2021121678A
公开(公告)日：2021-08-26
申请号：JP2021086250
申请日：2021-05-21
申请人： 株式会社カネコ化学
摘要： 【課題】様々な油に対する洗浄性又は溶解性に優れる、溶剤組成物及びそれを含む洗浄用エアゾール組成物を提供する。 【解決手段】本発明は、(A)(a1)塩素原子及び臭素原子からなる群より選択される1種以上の原子を含んでいてもよいハイドロフルオロオレフィン類、(a2)クロロフルオロオレフィン類、並びに(a3)ブロモフルオロオレフィン類からなる群より選択される1種以上の溶剤と、(B)ノルマルオクタン、イソオクタン、イソノナン、メチルシクロヘキサン及びエチルシクロヘキサンからなる群より選択される1種以上の溶剤とを含み、任意として(C)(c1)ハイドロフルオロカーボン類、(c2)ハイドロフルオロエーテル類及び(c3)1−メトキシ−2−プロパノールからなる群より選択される1種以上の溶剤を含む溶剤組成物であって、(A)、(B)及び(C)が特定の含有量である溶剤組成物及びそれを含む洗浄用エアゾール組成物に関する。 【選択図】なし
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