公开(公告)号：JPWO2009028256A1

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：JP2009530015

申请日：2008-06-24

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 剛史 矢野 ,  剛史 矢野 ,  裕貴 仕田 ,  裕貴 仕田 ,  和一 内倉 ,  和一 内倉

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

Abstract: 本発明に係る化学機械研磨用水系分散体調製用セットは、コロイダルシリカおよび塩基性化合物を含み、pHが8以上10以下である、第1の組成物と、ポリ(メタ)アクリル酸塩および塩基性化合物を含み、pHが11以上13.5以下である、第2の組成物と、を備えている。さらに、酸化剤を含む、第3の組成物を備えることもできる。

公开(公告)号：JPWO2009020035A1

公开(公告)日：2010-11-04

申请号：JP2009526413

申请日：2008-07-31

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 清水　大輔 ,  大輔 清水 ,  研 丸山 ,  研 丸山 ,  甲斐　敏之 ,  敏之 甲斐 ,  下川　努 ,  努 下川

IPC: C07C39/17 ,  C07C69/712 ,  C07C69/96 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C39/17 ,  C07C69/96 ,  G03F7/0392

Abstract: 本発明は、次の感放射線性組成物を提供する。(a)下記一般式(1)で表される化合物と、(b)放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性組成物。(Rは水素等、R1はメチレン基等、Yはアルキル基等、qは0または1である。)

公开(公告)号：JPWO2008149701A1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：JP2009517795

申请日：2008-05-26

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 宏和 榊原 ,  宏和 榊原 ,  誠 志水 ,  誠 志水 ,  岳彦 成岡 ,  岳彦 成岡 ,  永井　智樹 ,  智樹 永井 ,  芳史 大泉 ,  芳史 大泉

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1808 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

Abstract: 感度に優れると共に、MEEFを良好に維持することができる。下記式(1−1)で示される繰り返し単位および下記式(1−2)で示される繰り返し単位からなる樹脂(A1)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有するマスクエラーファクターを小さくできる感放射線性樹脂組成物。R1、R2、R3はそれぞれ炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、R4は、水素原子、炭素数2〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のフッ素化アルキル基、または、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、qは0〜3の整数を表す。

公开(公告)号：JPWO2008143301A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：JP2009515265

申请日：2008-05-21

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 中村　敦 ,  敦 中村 ,  下川　努 ,  努 下川 ,  高橋　純一 ,  純一 高橋 ,  毅由 安陪 ,  毅由 安陪 ,  永井　智樹 ,  智樹 永井 ,  友洋 柿澤 ,  友洋 柿澤

IPC: G03F7/40 ,  C08F12/02 ,  C08F20/18 ,  C08F20/56 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273 ,  Y10S430/106

Abstract: (1)第一のレジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、(2)第一のパターン上に、ベークすることで現像液に対して不溶化又は難溶化する水酸基を有する樹脂、及び溶媒を含有する所定の樹脂組成物を塗布し、ベーク後、洗浄して第二のパターンを形成する工程と、(3)第二のパターンを、全面露光又は選択的に露光することによって部分的に現像液に可溶にした後、現像して、穴及び溝の少なくともいずれかが第二のパターンに形成された第三のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。

公开(公告)号：JPWO2008120654A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：JP2009507491

申请日：2008-03-27

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 直井　雅也 ,  雅也 直井 ,  等 藤山 ,  等 藤山 ,  一裕 三浦 ,  一裕 三浦

IPC: H01R11/01 ,  G01R1/073 ,  G01R31/28 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01R1/0491 ,  G01R1/0735 ,  H01R13/2414

Abstract: 検査対象のウエハが大面積のもので、集積回路の被検査電極の総数が10000以上のものでも、加圧されたときに、全ての導電部において均一な導通性が得られる異方導電性コネクター、プローブ部材およびこれを具えたウエハ検査装置を提供する。本発明の異方導電性コネクターは、複数の異方導電膜配置用孔が形成されたフレーム板と、フレーム板の異方導電膜配置用孔内に配置され、異方導電膜配置用孔の周辺部に支持された複数の弾性異方導電膜とよりなり、弾性異方導電膜の各々は、弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子が密に含有されてなる厚み方向に伸びる複数の接続用導電部、およびこれらの接続用導電部を相互に絶縁する絶縁部を有し、フレーム板における周辺領域に配置された弾性異方導電膜の接続用導電部は、その厚みが当該フレーム板における中央領域に配置された弾性異方導電膜の接続用導電部の厚みより小さいものである。

公开(公告)号：JPWO2008117868A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：JP2009506384

申请日：2008-03-28

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 樋口　元治 ,  元治 樋口 ,  鈴木　貴久 ,  貴久 鈴木 ,  研二 長谷川 ,  研二 長谷川 ,  直矢 野坂 ,  直矢 野坂

IPC: C08L53/02 ,  C08K3/36 ,  C08L9/00

CPC classification number: C08L15/00 ,  C08C19/02 ,  C08K3/04 ,  C08K3/36 ,  C08L21/00 ,  C08L2666/08

Abstract: 防振性、耐熱性に優れたゴム成形品を作製可能な、加工性に優れた水添ジエン系重合体組成物を提供する。(A)ビニル結合含量が20〜70%のジエン系重合体を水素添加して得られた、重量平均分子量(Mw)が10万〜170万、分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜3.0、及び水素添加率が72〜96%であり、かつ、官能基を有する変性水添ジエン系重合体と、(B)ジエン系ゴムを含有し、前記(A)変性水添ジエン系重合体60〜95質量部、(B)ジエン系ゴム5〜40質量部の比率で、合計100質量部を含有する変性水添ジエン系重合体組成物である。

公开(公告)号：JPWO2008108493A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：JP2009502642

申请日：2008-03-05

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 謙一 泉 ,  謙一 泉 ,  中田　正一 ,  正一 中田 ,  西川　通則 ,  通則 西川

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133723 ,  C08G73/1032 ,  G02F1/133784 ,  G02F1/134363

Abstract: 溶剤として、第1溶剤、第2溶剤および第3溶剤の組合せを用いた、ポリアミック酸またはポリイミドの液晶配向剤。上記組合せは、例えばγ−ブチロラクトン、ブチルセロソルブおよびイソブチルケトンからなる。基板上の配向剤の塗布性に優れ、横電界方式液晶表示素子における櫛歯電極上での印刷不良を生じにくい液晶配向剤を提供する。

公开(公告)号：JPWO2008105564A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：JP2009501334

申请日：2008-02-29

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 佳和 宮本 ,  佳和 宮本 ,  翼 阿部 ,  翼 阿部 ,  林　英治 ,  英治 林 ,  西川　通則 ,  通則 西川

IPC: G02F1/1337 ,  C08G73/10

CPC classification number: G02F1/133723 ,  C08G73/10

Abstract: 本発明は、下記式(1)で表わされる脂肪族テトラカルボン酸二無水物とp−フェニレンジアミンとを用いて得られたポリアミック酸およびそのイミド化重合体を含有する液晶配向剤に関する。(式中、R1〜R6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜20のアルキル基であり、mおよびnは、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。)上記液晶配向剤は、良好な塗布性、高い初期電圧保持率を示し、かつ液晶表示素子に光や熱ストレスを印加したり、長時間液晶表示素子を駆動させても電圧保持率の低下が小さい液晶配向膜を与えることができる。

公开(公告)号：JPWO2008090789A1

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：JP2008555023

申请日：2008-01-09

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 真嗣 綾部 ,  真嗣 綾部 ,  優嗣 新美 ,  優嗣 新美

IPC: C09D11/00 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00

CPC classification number: G02B5/201 ,  C09D11/322 ,  G02B5/223 ,  G02F1/133512

Abstract: 本発明は、(A)顔料、(B)バインダー樹脂、(C)多官能性単量体および(D)溶剤を含有する樹脂組成物であって、前記(A)顔料が窒化チタンを含有し、そしてインクジェット方式により黒色層を形成するために用いられる樹脂組成物に関する。上記樹脂組成物は、硬度が高く耐溶剤性に優れ且つ高い光学濃度(OD値)を示す黒色層を簡便なインクジェット方式により形成することができ、しかも保存安定性に優れる。

公开(公告)号：JPWO2008084786A1

公开(公告)日：2010-05-06

申请号：JP2008553094

申请日：2008-01-08

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 清水　大輔 ,  大輔 清水 ,  研 丸山 ,  研 丸山 ,  甲斐　敏之 ,  敏之 甲斐 ,  下川　努 ,  努 下川

IPC: C07C43/21 ,  C07C43/23 ,  C07C69/734 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C39/17 ,  C07C43/23 ,  C07C69/712 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

Abstract: 電子線等に有効に感応し、低ラフネス等に優れ、微細パターンを高精度かつ安定して形成可能なレジスト膜を成膜できる感放射線性組成物の材料である化合物であり、下記一般式(1)で表される化合物。