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公开(公告)号：JPWO2013129623A1
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：JP2014502395
申请日：2013-02-28
Inventor： 壮祐 大澤 , 壮祐 大澤 , 一英 森野 , 一英 森野 , 須藤 篤 , 篤 須藤 , 遠藤 剛 , 剛 遠藤 , 光央 佐藤 , 光央 佐藤 , 恭彦 松田 , 恭彦 松田 , 永井 智樹 , 智樹 永井 , 下川 努 , 努 下川
IPC: G03F7/039 , C08F20/28 , H01L21/027
CPC classification number: C08F20/28 , C08F20/38 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、ビスラクトン構造を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。上記ビスラクトン構造は、下記式(a)で表されることが好ましい。下記式(a)中、R2〜R6は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基である。上記構造単位は、下記式(1)で表されることが好ましい。下記式(1)中、R1は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基である。Yは、単結合又は2価の連結基である。
Abstract translation: 本发明是一种聚合物，以及包含具有含bislactones结构的结构单元的光酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。 该双内酯结构优选由下述式（a）表示。 在下面的式（a）中，R 2至R 6各自独立地为氢原子或1〜10个碳原子的一价烃基。 上述结构单元优选由下式（1）表示。 在下面的式（1）中，R 1表示氢原子，甲基，三氟甲基或羟甲基。 Y是单键或二价连接基团。
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公开(公告)号：JPWO2008149701A1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：JP2009517795
申请日：2008-05-26
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F2220/1808 , G03F7/0045 , G03F7/0392
Abstract: 感度に優れると共に、MEEFを良好に維持することができる。下記式(1−1)で示される繰り返し単位および下記式(1−2)で示される繰り返し単位からなる樹脂(A1)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有するマスクエラーファクターを小さくできる感放射線性樹脂組成物。R1、R2、R3はそれぞれ炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、R4は、水素原子、炭素数2〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のフッ素化アルキル基、または、炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、qは0〜3の整数を表す。
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公开(公告)号：JPWO2008143301A1
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：JP2009515265
申请日：2008-05-21
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L21/0273 , Y10S430/106
Abstract: (1)第一のレジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、(2)第一のパターン上に、ベークすることで現像液に対して不溶化又は難溶化する水酸基を有する樹脂、及び溶媒を含有する所定の樹脂組成物を塗布し、ベーク後、洗浄して第二のパターンを形成する工程と、(3)第二のパターンを、全面露光又は選択的に露光することによって部分的に現像液に可溶にした後、現像して、穴及び溝の少なくともいずれかが第二のパターンに形成された第三のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。
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公开(公告)号：JPWO2008056796A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：JP2008543150
申请日：2007-11-09
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂を含有し、かつ、高い解像性能及び良好なレジストパターンを得ることができるレジスト被膜を形成可能であり、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂及び溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物。(前記一般式(1)中、R1は水素原子等を表し、M+は所定のカチオンを表し、nは1〜5の整数を表す)
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公开(公告)号：JPWO2006121096A1
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：JP2007528308
申请日：2006-05-11
Inventor： 永井 智樹 , 智樹 永井 , 米田 英司 , 英司 米田 , 琢磨 江畑 , 琢磨 江畑 , 峰規 川上 , 峰規 川上 , 誠 杉浦 , 誠 杉浦 , 下川 努 , 努 下川 , 誠 志水 , 誠 志水
IPC: C08F28/02 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C08F20/38 , G03F7/039
CPC classification number: C09D133/14 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/19 , C07C309/20 , C07C381/12 , C07D209/76 , C08F20/38 , C08F28/00 , C08F28/02 , C08F214/18 , C08F220/12 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F228/02 , C09D141/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に高解像度でDOFが広くLERに優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。新規化合物は、下記式(2)で表される。式(2)において、R4はメチル基、トリフルオロメチル基、または水素原子を表し、Rfの少なくとも1つはフッ素原子または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Aは2価の有機基または単結合を表し、Gはフッ素原子を含有する2価の有機基または単結合を表し、Mm+は金属イオンもしくはオニウム陽イオンを表し、mは1〜3の自然数を、pは1〜8の自然数をそれぞれ示す。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2016140057A1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2017503402
申请日：2016-02-16
IPC: G03F7/004 , C08F212/04 , C08F220/10 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32
CPC classification number: C08F212/08 , C07F7/00 , C07F7/22 , C07F7/28 , C07F9/00 , C07F11/00 , C07F17/00 , C07F19/00 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体、感放射線性酸発生体、及び下記式(1)で表される化合物を含有する感放射線性組成物である。下記式(1)中、Mは、金属原子である。Lは、OR1以外の配位子である。R1は、炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。xは、0〜5の整数である。yは、1〜6の整数である。但し、x+yは6以下である。xが2以上の場合、複数のLは同一でも異なっていてもよい。yが2以上の場合、複数のR1は同一でも異なっていてもよい。
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公开(公告)号：JPWO2014046097A1
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：JP2014536861
申请日：2013-09-17
IPC: G03F7/004 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07C381/12 , C08F20/16 , G03F7/039
CPC classification number: C07C309/65 , C07C309/66 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07D307/79 , C07D307/91 , C07D333/76 , C08F20/16 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び下記式(1)で表される化合物を含む酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物である。下記式(1)中、R1は、置換若しくは非置換の炭素数1〜30の1価の炭化水素基又は置換若しくは非置換の環原子数3〜30の1価の複素環基である。R2は、炭素数1〜30のアルカンジイル基又はフッ素数が炭素数よりも小さい炭素数2〜30のフッ素化アルカンジイル基である。Q+は、1価の光分解性有機カチオンである。
Abstract translation: 本发明是一种聚合物，和含有包含具有含有酸解离性基团的结构单元由下式（1）表示的化合物的酸产生光致抗蚀剂组合物。 在下面的式（1）中，R 1是一价烃基或3〜30的取代或未取代的C 1-30取代或未取代的一价的杂环基原子。 R2是烷二基或氟原C1-30为碳原子数2〜30的氟代链烷二基是除了碳原子的数量少。 Q +为一价可光降解的有机阳离子。
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公开(公告)号：JPWO2013073505A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2013544262
申请日：2012-11-12
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F7/0002 , C08L25/06 , C08L83/04
Abstract: 本発明は、[A]ヘテロ原子を含む基(α)を主鎖の少なくとも一方の末端に有する重合体、及び[B]ポリシロキサンを含有するパターン形成用自己組織化組成物である。上記ヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、スズ原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。上記基(α)は下記式(1)で表されることが好ましい。[A]重合体は、スチレン系重合体であることが好ましい。
Abstract translation: 本发明是[A]的聚合物，和[B]图案形成含有具有基团（阿尔法）的主链的至少一个末端含有杂原子的聚硅氧烷自组装组合物。 杂原子，氧原子，氮原子，硫原子，磷原子，优选为至少一种选自锡原子和硅原子组成的组中。 基团（阿尔法）优选由下述式（1）表示。 [A]所述的聚合物优选为苯乙烯类聚合物。
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公开(公告)号：JPWO2009078335A1
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：JP2009546234
申请日：2008-12-11
IPC: C07C309/06 , C07C381/12 , C07D333/46 , C08F220/28
CPC classification number: C07C309/06 , C07C25/18 , C07C43/225 , C07C69/712 , C07C69/76 , C07C69/96 , C07C205/12 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D333/78 , C07D335/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 下記一般式(1)であらわされるスルホン酸塩である。(Rfはそれぞれ独立にフッ素原子または炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、R1は炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、R2はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、またはフッ素原子で置換されても良い炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基を示す。mは0〜3の整数、nは1〜3の整数を示す。Mk+はk価の陽イオンを示し、kは1〜4の整数を示す。)
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公开(公告)号：JPWO2009051088A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：JP2009538082
申请日：2008-10-14
IPC: C07C309/19 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C381/12 , C07C309/19 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 一般式(1)で表される部分構造を有する化合物である。(一般式(1)中、R1はそれぞれ独立に水素原子または炭化水素基、R2は炭化水素基、Rfはフッ素原子またはパーフルオロアルキル基、Lは0〜4の整数、nは0〜10の整数、mは1〜4の整数を示す。)
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