公开(公告)号：JP6167588B2

公开(公告)日：2017-07-26

申请号：JP2013058928

申请日：2013-03-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 田中 博允 ,  鈴木 準也 ,  元成 正之 ,  木村 徹

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/094 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/0752

公开(公告)号：JP6079263B2

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：JP2013010011

申请日：2013-01-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 瀬古 智昭 ,  豊川 郁宏 ,  松村 裕史 ,  木村 徹

IPC: G03F7/26 ,  C08K5/101 ,  C08L83/06 ,  C08G77/18 ,  H01L21/027 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

公开(公告)号：JP2016167047A

公开(公告)日：2016-09-15

申请号：JP2015207573

申请日：2015-10-21

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 若松 剛史 ,  野坂 直矢 ,  松村 裕史 ,  滝本 嘉夫 ,  阿部 翼 ,  木村 徹

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/11

Abstract: 【課題】溶媒としてPGMEA等を用いることができ、溶媒耐性、エッチング耐性、耐熱性及び埋め込み性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物の提供する。 【解決手段】炭素−炭素三重結合を含む基を有し、かつ芳香環を含む部分構造を有し、芳香環を構成するベンゼン核の部分構造中の合計数が4以上である化合物、及び溶媒を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供可以使用PGMEA等作为溶剂的抗蚀底膜形成用组合物，耐溶剂性，耐蚀性，耐热性和嵌入性优异的抗蚀剂底衬层可以由其形成 形成抗蚀剂底层膜的组合物包括：具有碳 - 碳三键基团和包含芳环的部分结构的化合物，其中构成芳环的苯核总数在 部分结构为4以上; 和溶剂。选择图：无

公开(公告)号：JP5835319B2

公开(公告)日：2015-12-24

申请号：JP2013507703

申请日：2012-03-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中島 浩光 ,  木村 徹 ,  浅野 裕介 ,  堀 雅史 ,  木村 礼子 ,  笠原 一樹 ,  宮田 拡 ,  吉田 昌史

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  C08F220/22 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0041 ,  C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0274 ,  C08F2220/283