公开(公告)号：JP2004134382A

公开(公告)日：2004-04-30

申请号：JP2003285166

申请日：2003-08-01

Applicant: Leo Elektronenmikroskopie Gmbh ,  エルエーオー エレクトローネンミクロスコピー ゲーエムベーハー

Inventor： CLAUSS WILFRIED

IPC: H01J37/147 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/1475

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron microscope system or a lithography system which achieves relatively good imaging properties by reducing the influence on charged particle beams by a change in temperature of a magnetic flux transmission body in a particle optical apparatus equipped with the magnetic flux transmission body such as ferrite.
SOLUTION: The particle optical apparatus 2 for supplying a magnetic field for operating charged particles includes the magnetic flux transmission body 45 formed of a material having a high permeability, and a current conductor 47 which is partially engaged with the magnetic flux transmission body 45 around the same. A temperature adjustment section 49 adjusts the temperature of the magnetic flux transmission body 45 to a nearly nominal temperature in a range which satisfies the formula c -3 K
-1 , where (μmax-μmin)/(μmax×ΔT)=c, ΔT is a margin of the temperature range, μmax is the maximum value of the permeability, and μmin is the minimum value of the permeability.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种电子显微镜系统或光刻系统，其通过在装备有粒子光学装置的粒子光学装置中通过磁通透射体的温度变化来减小对带电粒子束的影响而实现相对良好的成像性能 磁通传递体如铁氧体。 解决方案：用于提供用于操作带电粒子的磁场的粒子光学装置2包括由具有高磁导率的材料形成的磁通量透射体45和与磁通量传递体部分接合的电流导体47 45左右相同。 温度调节部分49将满足公式c <3×10 -3 K -1 ，其中（μmax-μmin）/（μmax×ΔT）= c，ΔT是温度范围的余量，μmax是磁导率的最大值，μmin是磁导率的最小值。 版权所有（C）2004，JPO

公开(公告)号：JP2004103555A

公开(公告)日：2004-04-02

申请号：JP2003157200

申请日：2003-06-02

Applicant: Nissin Electric Co Ltd ,  日新電機株式会社

Inventor： GLAVISH HILTON F

IPC: C23C14/48 ,  G21K1/093 ,  H01F3/02 ,  H01F7/20 ,  H01J3/32 ,  H01J29/76 ,  H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317 ,  H01L21/02 ,  H01L21/265 ,  H01L27/12

CPC classification number: H01J37/147 ,  G21K1/093 ,  H01F3/02 ,  H01F7/202 ,  H01J3/32 ,  H01J29/76 ,  H01J37/1475 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/31701

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a deflection by a required high-perveance beam by limiting an eddy current induced at a beam line to a restrictive value. SOLUTION: A deflection device for a high-perveance ion beam is made to have a magnetic structure acting at a fundamental frequency of 20 Hz and a harmonic in a higher order than this and formed by a lamination layer (72) of a thickness in the range of 0.2 to 1 mm. In addition, it is a compensator of a similar lamination structure having a resonance excitation circuit acting at a frequency of 20 Hz or higher and made to have a constitution in a phase locked relation with a beam frequency deflected beforehand. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

公开(公告)号：JP2004508680A

公开(公告)日：2004-03-18

申请号：JP2002525890

申请日：2001-09-07

Applicant: ダイアモンド セミコンダクタ グループ エルエルシー

Inventor： エドワード　ベル ,  ニコラス　ホワイト ,  フィリップ　ハービー

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/317 ,  H01J49/30 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/1475 ,  H01J37/147 ,  H01J2237/31701

Abstract: １次元磁場走査または荷電粒子ビームの切換のために提供される装置である。 この装置は、追加部分のコストで２次元まで拡張できる。

公开(公告)号：JPS5944744B2

公开(公告)日：1984-10-31

申请号：JP8150380

申请日：1980-06-18

Applicant: Intaanashonaru Bijinesu Mashiinzu Corp

Inventor： HANSU KURISUCHAN FUAIFUAA ,  MARISU ANDORISU SUCHUURANZU

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/147 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/09 ,  H01J37/1475

公开(公告)号：JP6429407B2

公开(公告)日：2018-11-28

申请号：JP2016519682

申请日：2014-06-13

Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

Inventor： バラクロウ、スコット ,  バフ、ジェームス エス.

IPC: H01L43/12 ,  H01J37/141

CPC classification number: H01J37/3007 ,  H01F7/20 ,  H01F27/10 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/1475 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/1526 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/31701 ,  H05K7/20

公开(公告)号：JP2018530865A

公开(公告)日：2018-10-18

申请号：JP2018512278

申请日：2016-08-25

Applicant: ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド

Inventor： ジェイムズ エス バフ ,  ヴィクター ベンヴェニスト ,  フランク シンクレア

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30

CPC classification number: H01J37/1475 ,  H01J37/14 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/31701

Abstract: 方法は、イオン源から、最初の伝搬方向を有するイオンビームを生成する、ステップと、該イオンビームを、前記最初の伝搬方向に対して、最初の傾斜角で偏向する、ステップと、前記イオンビームを、磁気アセンブリのアパーチャーから通す、ステップと、前記イオンビームの前記最初の伝搬方向に垂直な第1の方向に沿って伸びる四重極磁界、並びに、前記第1の方向及び前記最初の伝搬方向に垂直な第2の方向に沿って伸びる双極子磁界を、前記アパーチャーにおいて、生成する、ステップと、を含んでもよい。

公开(公告)号：JP6165444B2

公开(公告)日：2017-07-19

申请号：JP2013003054

申请日：2013-01-11

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 大橋 健良 ,  早田 康成 ,  高橋 範次 ,  川野 源 ,  小室 修

IPC: H01J37/147 ,  G01B15/00 ,  H01L21/66 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/222 ,  H01J37/1475 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1536 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/2809 ,  H01J2237/2817 ,  H01J37/1472

公开(公告)号：JP5947128B2

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：JP2012150279

申请日：2012-07-04

Applicant: インテグレイテッド ダイナミクス エンジニアリング ゲーエムベーハー

Inventor： ドクター.ペーター アー.クロップ

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/28 ,  H01J37/09

CPC classification number: H01J37/1475 ,  H01J37/09 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/26

公开(公告)号：JP5899205B2

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：JP2013507948

申请日：2011-04-27

Applicant: アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド

Inventor： ヴァンダーバーグ,ボー

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/1475 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/1523 ,  H01J2237/1526

公开(公告)号：JP5856276B2

公开(公告)日：2016-02-09

申请号：JP2014233776

申请日：2014-11-18

Applicant: カール ツァイス マイクロスコーピー ゲーエムベーハー ,  Carl Zeiss Microscopy GmbH

Inventor： ディルク プライクスツァーズ ,  ミヒャエル シュタイガーヴァルト ,  ダニエル トビアス ,  アンドレアス アイゼル ,  モメ モムゼン ,  ディートマー ドエニッツ ,  クリスティアン ヘンドリヒ

IPC: H01J37/147

CPC classification number: H01J37/147 ,  H01J37/05 ,  H01J37/1475 ,  H01J2237/1523 ,  H01J2237/26