公开(公告)号：JP2013064979A

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：JP2012114292

申请日：2012-05-18

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： ODA KAZUYA

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08G73/04 ,  G02B5/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031

CPC分类号： G02B1/04 ,  C08F2/50 ,  G02B5/23 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive composition used for forming pixels for solid-state image sensors is highly transparent with a high refraction index, resistant to coloring caused by migration of colorant from adjacent colored pixels by thermal diffusion even under a heated environment, and highly stable during storage, and to provide a method for forming a pattern using the radiation-sensitive composition, a color filter and a method of producing the same, and a solid-state image sensor.SOLUTION: A radiation-sensitive composition comprises: (A) titanium dioxide particles; (B) an oligoimine dispersant including a nitrogen atom in at least one of a main chain or a side chain; (C) a polymerizable compound; (D) a photopolymerization initiator; and (F) a solvent. There are provided a method for forming a pattern using the radiation-sensitive composition, a color filter and a method of producing the same, and a solid-state image sensor.

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供用于形成固态图像传感器的像素的辐射敏感性组合物，具有高折射率的高度透明度，耐着色剂通过热扩散甚至延伸着色剂从相邻着色像素迁移引起的着色 在加热的环境下，在保存期间高度稳定，并且提供使用该辐射敏感性组合物形成图案的方法，滤色器及其制造方法以及固态图像传感器。 解决方案：辐射敏感组合物包含：（A）二氧化钛颗粒; （B）在主链或侧链中的至少一个中包含氮原子的低聚亚胺分散剂; （C）可聚合化合物; （D）光聚合引发剂; 和（F）溶剂。 提供了使用该辐射敏感性组合物形成图案的方法，滤色器及其制造方法以及固态图像传感器。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP5036890B2

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2011085062

申请日：2011-04-07

申请人： ニチゴー・モートン株式会社

发明人： 剛 寺田 ,  大貴 豊田

IPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18

CPC分类号： G03F7/031 ,  G03F7/029 ,  H05K3/064 ,  H05K3/243

公开(公告)号：JP2012181502A

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：JP2011289469

申请日：2011-12-28

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： ARAYAMA KYOHEI ,  DEI HIROAKI ,  KANEKO YUJI ,  ITO JUNICHI ,  MURAKAMI YOSUKE

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F12/00 ,  C08F20/02 ,  C08F22/40 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0007 ,  C09B23/04 ,  C09B57/10 ,  G02B5/223 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored radiation-sensitive composition capable of forming a colored pattern that shows excellent developability, is excellent in heat resistance and solvent resistance, and reduces color migration and color unevenness.SOLUTION: A colored radiation-sensitive composition contains (A) dye multimer, (B) polymerizable compound, (C) photoinitiator, and (D) organic solvent, in which a content of (X) inorganic metal salt without dye skeleton to a dye solid portion is equal to or less than 0.1 mass%.

摘要翻译： 要解决的问题：为了提供能够形成显示出优异显影性的着色图案的着色辐射敏感组合物，耐热性和耐溶剂性优异，并且减少颜色偏移和颜色不均匀。 （A）染料多聚体，（B）可聚合化合物，（C）光引发剂和（D）有机溶剂，其中不含染料骨架的（X）无机金属盐的含量 相对于染料固体部分为0.1质量％以下。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012068418A

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：JP2010212886

申请日：2010-09-22

申请人： Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

发明人： IKEDA TAKAMI ,  TAMADA YOSHINORI ,  KUBOTA MAKOTO

IPC分类号： G03F7/029 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  H01L21/027 ,  H05K3/28

CPC分类号： G03F7/0387 ,  G02B13/006 ,  G02B13/0085 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/038 ,  H01L27/14618 ,  H01L2224/13 ,  Y10T428/24802

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable composition having a high light-shielding property in an infrared region and high translucency in a visible light region, having a rectangular cross-sectional shape by alkali development, and capable of forming a pattern with superior durability (durability to a high temperature and a high humidity, and adhesion to a substrate); and to provide a polymerizable composition capable of suppressing development residue in a pattern formation on a copper surface.SOLUTION: This polymerizable composition includes (A) a polymerization initiator that is an acetophenone-based compound or an acylphosphine oxide compound, (B) a polymerizable compound, (C) at least either a tungsten compound and a metal boride, and (D) an alkali-soluble binder.

摘要翻译： 解决的问题：提供一种在红外区域具有高遮光性的可聚合组合物，并且在可见光区域具有高半透明度，通过碱显影具有矩形横截面形状，并且能够形成图案 具有优异的耐久性（对高温和高湿度的耐久性以及对基材的粘附性）; 并且提供能够抑制铜表面上的图案形成中的显影残渣的聚合性组合物。 该聚合性组合物包含（A）作为苯乙酮类化合物或酰基氧化膦化合物的聚合引发剂，（B）可聚合化合物，（C）至少钨化合物和金属硼化物中的至少一种，以及 （D）碱溶性粘合剂。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012068357A

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：JP2010211946

申请日：2010-09-22

申请人： Eastman Kodak Co ,  イーストマン コダック カンパニー

发明人： HAYASHI KOJI

IPC分类号： G03F7/004 ,  B41N1/14 ,  C08F22/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

CPC分类号： G03F7/0046 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/3035

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate precursor capable of preventing blooming without using any specific polymerization initiator or infrared absorber.SOLUTION: The present invention relates to a lithographic printing plate precursor including a support and an image forming layer containing a radical polymerizable component and a radiation sensible composition including an infrared absorber and a radical polymerization initiator. The radiation sensible composition contains a fluorinated copolymer that does not have a hydrophilic portion substantially.

摘要翻译： 要解决的问题：提供能够防止起霜而不使用任何特定聚合引发剂或红外吸收剂的平版印刷版原版。 解决方案：本发明涉及一种包含载体的平版印刷版原版和含有自由基聚合性成分的成像层和包含红外线吸收剂和自由基聚合引发剂的辐射敏感性组合物。 辐射敏感组合物含有基本上不具有亲水部分的氟化共聚物。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4879158B2

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：JP2007336114

申请日：2007-12-27

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 悟 山田 ,  博幸 鈴木

IPC分类号： G03H1/02 ,  G03F7/004 ,  G11B7/24 ,  G11B7/244

CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/001 ,  G03F7/029 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/00772 ,  G11B7/083 ,  G11B7/24 ,  G11B7/245 ,  G11B7/246 ,  G11B7/2531

公开(公告)号：JP4879157B2

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：JP2007336110

申请日：2007-12-27

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 悟 山田 ,  博幸 鈴木

IPC分类号： G03H1/02

CPC分类号： C07C255/38 ,  C07C69/73 ,  C07C69/734 ,  C07C225/22 ,  C07C233/20 ,  C07C233/55 ,  C07C255/40 ,  C07C255/41 ,  C07C255/44 ,  C07C255/55 ,  C07C255/56 ,  C07C309/66 ,  C07C311/08 ,  C07C317/18 ,  C07C317/24 ,  C07C317/46 ,  C07C317/50 ,  C07D303/48 ,  C07D305/08 ,  C07D307/33 ,  C07D317/36 ,  C07F9/3252 ,  C07F9/582 ,  C07F9/585 ,  G03F7/001 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G11B7/0065 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/245 ,  G11B7/246

公开(公告)号：JP4767840B2

公开(公告)日：2011-09-07

申请号：JP2006508308

申请日：2004-05-28

申请人： チバ ホールディング インコーポレーテッドCiba Holding Inc.

发明人： エールライン，ラインホルト ,  バイシュ，ガブリエル ,  ボーダン，ジゼル ,  ユング，トゥニヤ ,  ロジャース，ジョナサン

IPC分类号： C08F2/50 ,  C08G77/38 ,  C09D4/00 ,  C09D5/03 ,  C09D11/00 ,  C09D183/06 ,  C12P9/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/029 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/029 ,  C08F2/50 ,  C08G77/38 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/0757

公开(公告)号：JP2011524436A

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：JP2011512068

申请日：2009-05-27

申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

发明人： ステュデ カティア ,  ヴィルヌーブ セバスティアン ,  久稔 倉 ,  啓 松本

IPC分类号： C08F2/50 ,  B05D7/24 ,  C09D4/00 ,  C09D7/12 ,  C09D11/02 ,  G02B5/20

CPC分类号： C07D209/86 ,  C07C251/66 ,  C07D333/38 ,  C08F2/50 ,  C09D11/101 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105

摘要： 少なくとも１つのアルファ−アミノケトン化合物および式（Ｉ）または（Ｉ'）［式中、Ｒ
1 およびＲ'
1 は、例えば、水素、Ｃ
3 −Ｃ
8 シクロアルキルまたはＣ
1 −Ｃ
12 アルキルであり、Ｒ
2 およびＲ
2 'は、例えば、水素、非置換Ｃ
1 −Ｃ
20 アルキルまたは置換Ｃ
1 −Ｃ
20 アルキルであり、Ｒ
8 およびＲ
9 は、例えば、水素、場合により置換されたＣ
1 −Ｃ
12 アルキル、または場合により置換されたフェニルである］の少なくとも１つの化合物を含む光開始剤混合物は、光重合反応において予想外に良好な性能を発揮する。

公开(公告)号：JP4668111B2

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：JP2006096011

申请日：2006-03-30

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 和人 嶋田 ,  啓佑 有村

IPC分类号： G03F7/029 ,  C08F4/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033

CPC分类号： G03F7/0045 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/10 ,  B41C2201/12 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/029 ,  Y10S430/114