Patent search aee:"信越化学工業株式会社" Page 8

71.

发明专利
付加硬化型シリコーンゴム組成物有权

公开(公告)号：JP6928647B2

公开(公告)日：2021-09-01

申请号：JP2019514391

申请日：2018-04-13

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 原立栄 , 芦田諒 , 水嶋英典 , 生方茂 , 加藤野歩

IPC: C08L83/05 , C08L83/04 , C08K3/013 , C08K3/36 , C08L83/07

72.

发明专利
硬化性パーフルオロポリエーテル粘着剤組成物、その硬化物を用いた粘着剤並びに粘着テープ有权

公开(公告)号：JP6927798B2

公开(公告)日：2021-09-01

申请号：JP2017160518

申请日：2017-08-23

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 山口浩一

IPC: C09J129/10 , C09J11/06 , C09J7/38 , C09J171/00

73.

发明专利
酸素硬化性シリコーン組成物およびその硬化物有权

公开(公告)号：JP6927166B2

公开(公告)日：2021-08-25

申请号：JP2018133318

申请日：2018-07-13

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 北川太一 , 池野正行 , 松本展明

IPC: C08F4/52 , C08F290/06 , C08F299/08

74.

发明专利
シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びにパワーモジュール审中-公开

公开(公告)号：JPWO2020026760A1

公开(公告)日：2021-08-19

申请号：JP2019027647

申请日：2019-07-12

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 松田剛

IPC: C08L83/05 , C08K5/544 , C08K5/5425 , H01L25/07 , H01L25/18 , C08L83/07

Abstract: (A)1分子中に1個以上のケイ素原子結合アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、 (B)1分子中に2個以上のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、 (C)白金族金属系硬化触媒、 (D)トリアルコキシシリル基2個と架橋性のビニル基1個を有するイソシアヌル酸誘導体及び/又はトリアルコキシシリル基3個を有するイソシアヌル酸誘導体、 (E)ケテンシリルアセタール型化合物を含有してなり、特定針入度の硬化物を与えるシリコーンゲル組成物が、高温での耐熱性や金属との接着性に優れ、また針入度の大きなシリコーンゲルでありながら、高温での長期使用によっても低弾性率及び低応力を維持することができるだけでなく、気泡の発生、基材からの剥離及び電気絶縁性の低下が抑制されるシリコーンゲル硬化物となり得る。

75.

发明专利
脱アルコール型室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び該組成物の硬化物でシールされた物品有权

公开(公告)号：JP6922917B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2018535480

申请日：2017-06-16

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 打它晃 , 坂本隆文

IPC: C08K5/5425 , C08K5/544 , C09D183/06 , C09J183/06 , C09K3/10 , C08L83/06

76.

发明专利
単量体、ポリマー、ネガ型レジスト組成物、フォトマスクブランク、及びレジストパターン形成方法有权

公开(公告)号：JP6922849B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2018100615

申请日：2018-05-25

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 土門大将 , 提箸正義 , 小竹正晃 , 井上直也 , 増永恵一 , 渡邉聡

IPC: C08F20/20 , G03F7/038 , G03F1/56 , G03F7/20 , C08F12/24

77.

发明专利
レジスト材料及びパターン形成方法有权

公开(公告)号：JP6922841B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2018097934

申请日：2018-05-22

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 畠山潤 , 大橋正樹

IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/38 , C08F212/14 , G03F7/004

78.

发明专利
パターン形成方法有权

公开(公告)号：JP6922770B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2018023118

申请日：2018-02-13

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 平野禎典 , 柳澤秀好

IPC: G03F7/039 , G03F7/40 , G03F7/38 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F7/26

79.

发明专利
生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法有权

公开(公告)号：JP6920000B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2018154698

申请日：2018-08-21

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 畠山潤 , 渡邊修 , 岩淵元亮 , 野中汐里

IPC: C08G18/38 , C08G18/66 , C08K3/04 , C08L75/04 , H01B1/20 , A61B5/268

80.

发明专利
生体電極組成物、生体電極及び生体電極の製造方法有权

公开(公告)号：JP6919993B2

公开(公告)日：2021-08-18

申请号：JP2017235554

申请日：2017-12-07

Applicant: 信越化学工業株式会社

Inventor： 畠山潤 , 藤原敬之 , 渡邊修 , 岩淵元亮

IPC: C08F220/38 , A61B5/268

Patent Agency Ranking