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公开(公告)号：JP2017538963A
公开(公告)日：2017-12-28
申请号：JP2017526683
申请日：2015-12-03
发明人： アラワット，ラーフル
CPC分类号： H01S3/104 , H01S3/036 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/10069 , H01S3/1055 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308 , H01S2301/02
摘要： 光源から放出される、時間繰り返し率に関連付けられたパルス光ビームが受信され、パルス光ビームの時間繰り返し率に伴って変動するエイリアシングされた周波数である、光源内の外乱の周波数が決定され、エイリアシングされた周波数に基づいて補正波形が生成され、生成された補正波形に基づいてパルス光ビームの特性を修正することで光源内の外乱が補償される。【選択図】図4
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公开(公告)号：JP5680403B2
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：JP2010504036
申请日：2008-03-25
发明人： サンドストロム リチャード エル , リチャード エル サンドストロム , テ エイチ チュン , テ エイチ チュン , リチャード シー ウジャズドースキー , リチャード シー ウジャズドースキー
IPC分类号： H01S3/038
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0381 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2366
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公开(公告)号：JP2016526697A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2016519552
申请日：2014-06-05
发明人： ビー． ラロヴィック，アイヴァン , ビー． ラロヴィック，アイヴァン , ズリタ，オマール , アレン レヒトシュタイナー，グレゴリー , アレン レヒトシュタイナー，グレゴリー , アラーニャ，パオロ , シェイ，ウェイ−アン , ロキツキー，ロスティスラフ , ジアン，ルイ , ジン リー，ジェイソン , ジン リー，ジェイソン
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70041
摘要： 【課題】ウェーハベースの光源パラメータ制御を提供する。【解決手段】フォトリソグラフィ方法は、光学源に命令してパルス光ビームを発生させることと;リソグラフィ露光装置のウェーハを横断してパルス光ビームをスキャンし、パルス光ビームでウェーハを露光することと;ウェーハを横断するパルス光ビームのスキャンの際にウェーハにおけるパルス光ビームの特性を受信することと;特定のパルス光ビーム特性についてウェーハの物性の決定値を受信することと;スキャンの際に受信したパルス光ビーム特性と物性の受信した決定値とに基づいて、ウェーハを横断するスキャンの際のパルス光ビームの性能パラメータを変更することと;を含む。【選択図】図1
摘要翻译： 为了提供基于晶片的光源参数控制。 光刻法是产生所述脉冲光束的命令到光源和;以及以扫描整个晶片光刻曝光装置中的脉冲光束曝光用脉冲光束在晶片 ;接收穿过晶片和，在接收到晶片的物理特性的特定脉冲光束特性的判决值的脉冲光束的扫描过程中，在晶片上的脉冲光光束的特性;扫描期间接收到的 包括;在基于所述脉冲光束的特性和性能所接收的判决值，并在整个晶片上扫描期间改变脉冲光束的性能参数。 点域1
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公开(公告)号：JP2015527726A
公开(公告)日：2015-09-17
申请号：JP2015516048
申请日：2013-05-23
发明人： トーマス ピー ダフィー , トーマス ピー ダフィー , ジャニーヌ カルドクス , ジャニーヌ カルドクス , パートロ ウィリアム エヌ , ウィリアム エヌ パートロ
CPC分类号： H01S3/0388 , C22C9/04 , H01S3/0971 , H01S3/225
摘要： 耐食電極は、燐でドープされた黄銅で形成される。電極は、約100ppmから約1,000ppmの燐を含有する黄銅で形成され、黄銅は、400Xの倍率で可視の微孔隙を持たない。黄銅は、約30重量パーセントの亜鉛と残りの量の銅とを含有するカートリッジ黄銅とすることができる。耐食電極はまた、プラズマ腐食に対する黄銅の抵抗を増大させるために黄銅に厳しい塑性変形を受けさせることによって形成することができる。耐食電極は、レーザ光を発生させるためにレーザシステムに使用することができる。【選択図】図2
摘要翻译： 腐蚀电极被掺杂黄铜磷形成。 电极由约100ppm的含磷黄铜形成至约1,000ppm，黄铜，无细孔在400X的放大倍数下可见。 黄铜可以是含有铜锌一个弹壳黄铜和的约30％（重量）的剩余量。 腐蚀电极也可以通过使以增加对等离子体腐蚀，铜的电阻黄铜中严重的塑性变形而形成。 腐蚀电极可以在激光系统被用于产生激光。 .The
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公开(公告)号：JP5647700B2
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：JP2013011451
申请日：2013-01-24
发明人： ウェイン ジェイ ダンスタン , ウェイン ジェイ ダンスタン , ロバート エヌ ジャック , ロバート エヌ ジャック , ラジャセッカー エム ラオ , ラジャセッカー エム ラオ , フェドー ビー トリントチョーク , フェドー ビー トリントチョーク
CPC分类号： H01S3/13 , G03F7/70575 , H01S3/134 , H01S3/136
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公开(公告)号：JP5633898B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2009514316
申请日：2007-05-31
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/268 , H01L21/336 , H01L29/786
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/034 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/0853 , B23K26/40 , B23K2201/34 , B23K2201/40 , B23K2203/50 , C30B13/24 , C30B29/06
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公开(公告)号：JP2017522582A
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：JP2016566250
申请日：2015-06-03
申请人： サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー , サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー , エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. , エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
CPC分类号： G01J3/28 , G01J3/027 , G01J3/14 , G01J3/26 , G01J9/00 , G01J11/00 , G01J2003/2853 , G03F7/70041 , G03F7/70058 , G03F7/70575
摘要： 【課題】光源によって生成され、リソグラフィ装置のウェーハに案内されるパルス光ビームのスペクトル特徴を推定する方法を説明する。【解決手段】本方法は、光ビームのパルスのN個の光学スペクトルのセットを受け取ることと、受け取られたN個の光学スペクトルを保存セットに保存することと、保存セット中の光学スペクトルを変換し、変換された光学スペクトルのセットを形成することと、変換された光学スペクトルを平均化し、平均化スペクトルを形成することと、平均化スペクトルに基づき、パルス光ビームのスペクトル特徴を推定することと、を備える。【選択図】図9
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公开(公告)号：JP2015506581A
公开(公告)日：2015-03-02
申请号：JP2014550298
申请日：2012-11-27
发明人： ダニエル ジェイ リッグス , ダニエル ジェイ リッグス
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/104 , H01S3/225 , H01S3/2308
摘要： 満足できるパラメータ内のレーザの作動を可能にし、かつリフィルを行う必要なく経年変化の影響を補償するためにMOPAエキシマレーザのような2チャンバガス放電レーザのチャンバ内へのハロゲンガスの注入を実行する方法及びシステムを記述する。レーザの効率を反映するパラメータが測定され、レーザの作動の長さに対するパラメータの変化が推定される。チャンバの一方の圧力に対するパラメータの変化も測定される。所定の時間にパラメータの値の全体的変化が推定され、これからパラメータの値の変化を逆にするのに必要である圧力の変化の量が計算される。【選択図】図7
摘要翻译： 使激光在令人满意的在参数操作，并且在腔室中进行2个卤素气体的注入到腔室的气体放电激光器，如为了无需进行老化填充以补偿该效应的MOPA受激准分子激光 方法和描述系统。 反射激光的效率测量的参数，在参数的激光操作的长度的变化进行估计。 为的压力室中的一个变化参数也被测量。 在给定的时间参数的值总变化估计和计算的压力变化的需要在未来以扭转的参数的值的变化量。 点域7
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9.发明专利
公开(公告)号：JP5613211B2
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：JP2012209642
申请日：2012-09-24
发明人： パラッシュ ピー ダス , パラッシュ ピー ダス , トーマス ホフマン , トーマス ホフマン , ジョセ ディー デイヴィス , ジョセ ディー デイヴィス , スコット ティー スミス , スコット ティー スミス , パートロ ウィリアム エヌ , ウィリアム エヌ パートロ
IPC分类号： H01L21/268 , B23K26/064 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786
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公开(公告)号：JP2017527994A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2017508678
申请日：2015-08-14
发明人： オブライエン，ケビン , ソーンズ，ジョシュア , ボレロ，マイケル
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/0014 , H01S3/104 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308
摘要： 2チャンバガス放電レーザのチャンバ内での再充填後、ガスの最適化を自動的に実行するためのシステム及び方法が開示される。レーザは低電力で発射され、増幅器レーザチャンバ内のガスは、必要であれば、圧力が最小値より下に降下することなく、放電電圧が最小値に合致するか又は最小値を超えるまで、ブリードされる。電力出力は、レーザの予測される動作を近似するバーストパターンに増加され、増幅器チャンバガスは、必要であれば、電圧及び出力エネルギーが最小値に合致するか又は最小値を超えるまで、或いは、圧力が最小値より小さくなるまで、再度ブリードされる。その後、マスタ発振器チャンバ内のガスは、必要であれば、マスタ発振器の出力エネルギーが最大値に合致するか又は最大値より下に下がるまで、ここでもチャンバ内の圧力が最小値より下に降下することなく、ブリードされる。圧力が調整される間、帯域幅も測定され、所望の範囲内にとどまるように調整される。ターゲット値が提供されると、プロセスは手動対話なしに迅速に実行される。【選択図】図2
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