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公开(公告)号：JP2018533755A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2018516460
申请日：2016-10-20
发明人： アガーウォル,タヌジ
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70041 , G03F7/70558
摘要： リソグラフィシステムは、パルス状光ビームを発するように構成された光学源と、光学システムであって、光学源からのパルス状光ビームを第1の側で受光するように、かつパルス状光ビームを第2の側で出射するように位置決めされた光学システムを含むリソグラフィ装置と、光学源及び光学リソグラフィ装置に結合された制御システムであって、光学システムの第2の側におけるパルス状光ビームのエネルギ量の指示を受信し、エネルギ誤差を決定し、光学源に関連付けられた初期制御シーケンスにアクセスし、決定したエネルギ誤差及び初期制御シーケンスに基づいて第2の制御シーケンスを決定し、第2の制御シーケンスを光学源に適用する、ように構成された制御システムと、を含む。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP6410723B2
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：JP2015538350
申请日：2013-09-23
发明人： ニキペロフ,アンドレイ , バニエ,バディム , ヤクニン,アンドレイ
CPC分类号： G03F7/70033 , G02B17/0657 , G02B17/0808 , G03F7/70041 , G03F7/7005 , H05G2/006 , H05G2/008
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公开(公告)号：JP2018528456A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018502067
申请日：2016-06-03
发明人： オプ ト ロート、ヴィルヘルムス、パトリック、エリザベス、マリア , ゴートフリート、ヘルマン、フィリップ , ファン バッセル、ヒューベルトゥス、ペトルス、レオナルドゥス、ヘンリカ , レイケ、アレイ、ヨナタン , ファン デル ウェイスト、マルク、ウィルヘルムス、マリア , フェルヘース、マテイス、レオナルドゥス、ヨハン
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70041 , G03F7/70133 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , G03F7/709
摘要： 【解決手段】照明システムを用いてパルス放射ビームを基準フレームの面の領域に投影し、スキャン機構を用いて、較正センサがスキャン軌跡に沿って面内で放射ビームを通過するように、基準フレームに対して較正センサを移動し、基準フレームに対する照明システムの速度を示す量を決定し、(a)較正センサの出力、(b)較正センサのスキャン軌跡、及び(c)基準フレームに対する照明システムの速度を示す量に基づいて、面内の放射ビームの空間強度分布に関する情報を決定する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018517278A
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：JP2017550719
申请日：2016-03-18
发明人： アラワット,ラーフル
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70041 , H01S3/0971 , H01S3/1305 , H01S3/137
摘要： 特定のパルスの波長と目標波長の差である、光源から放射されたパルスの第1のサブセット中の各パルスの波長誤差が決定され、決定された波長誤差に基づいて、パルスの第1のサブセット中の各パルスに関連付けられた補正信号を含む毎パルス補正信号が決定され、決定された毎パルス補正信号に基づく補正が、光源から放射されたパルスの第2のサブセット中の各パルスに適用され、パルスの第2のサブセット中のパルスに補正を適用することによって、パルスの第2のサブセット中のパルスの波長誤差を低減する。 【選択図】 図6
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公开(公告)号：JP6305426B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2015548313
申请日：2013-11-26
发明人： ファン スホート、ヤン , ユルリングス、マルクス , クルウェル、ヘルマヌス
CPC分类号： H05G2/006 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B27/0983 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70041 , G03F7/70183 , G03F7/702 , H05G2/008
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公开(公告)号：JP6304365B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2016504138
申请日：2015-02-18
申请人： 株式会社ニコン
CPC分类号： H01S3/0085 , G03F7/70025 , G03F7/70041
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公开(公告)号：JPWO2016051518A1
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：JP2016551391
申请日：2014-09-30
申请人： ギガフォトン株式会社
CPC分类号： H01S3/08009 , G02B17/0621 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70158 , G03F7/70558 , H01L21/027 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/08059 , H01S3/0903 , H01S3/11
摘要： 本開示による光源システムは、露光装置に向けてパルスレーザ光を出力する自由電子レーザ装置と、自由電子レーザ装置と露光装置との間の光路上に配置され、パルスレーザ光をビーム断面内の位置に応じて遅延量が変化するように遅延させる遅延光学系とを備えてもよい。
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公开(公告)号：JP2017507359A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2016553429
申请日：2015-02-05
发明人： マルクス デギュンター , マルクス デギュンター , ウラディミール ダヴィデンコ , ウラディミール ダヴィデンコ , トーマス コルブ , トーマス コルブ , ヨハネス アイゼンメンガー , ヨハネス アイゼンメンガー
CPC分类号： G03F7/702 , G02B26/0833 , G03F7/70041 , G03F7/70116 , G03F7/70475
摘要： 本発明は、光パルスのシーケンスを生成するように設計された光源(LS)を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系に関する。2つの切換位置の間でデジタル式に切り換えることができる光学要素(30)のアレイ(28)が、光源(LS)とターゲット面(38)の間の光路に配置される。アレイ(28)とターゲット面(38)の間の光路に配置された調節可能光偏向光学ユニット(32)は、異なる偏向角で入射光を偏向するように設計される。制御デバイス(52)は、偏向角の変化が2つの連続光パルス間で発生するように光偏向光学ユニット(32)を制御する。【選択図】図2d
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公开(公告)号：JP2017507355A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2016553306
申请日：2015-02-10
发明人： マルクス デギュンター , マルクス デギュンター , ウラディミール ダヴィデンコ , ウラディミール ダヴィデンコ , トーマス コルブ , トーマス コルブ , ヨハネス アイゼンメンガー , ヨハネス アイゼンメンガー
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70041 , G03F7/7005 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 本発明は、光パルス(42−1から42−3,42−1,42−2,52−1,52−2)のシーケンスを生成するように設計された光源(LS;LS1,LS2)を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系(12)に関する。更に、照明系は、2つの切換位置の間でデジタル式に切り換えることができる光学要素(32)のアレイ(28)を含む。制御デバイス(34)は、光学要素(32)を光学要素がその切換位置を2つの連続光パルス間でのみ変化させ、かつ光パルス中にその切換位置を維持するように制御する。【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2016526697A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2016519552
申请日：2014-06-05
发明人： ビー． ラロヴィック，アイヴァン , ビー． ラロヴィック，アイヴァン , ズリタ，オマール , アレン レヒトシュタイナー，グレゴリー , アレン レヒトシュタイナー，グレゴリー , アラーニャ，パオロ , シェイ，ウェイ−アン , ロキツキー，ロスティスラフ , ジアン，ルイ , ジン リー，ジェイソン , ジン リー，ジェイソン
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70041
摘要： 【課題】ウェーハベースの光源パラメータ制御を提供する。【解決手段】フォトリソグラフィ方法は、光学源に命令してパルス光ビームを発生させることと;リソグラフィ露光装置のウェーハを横断してパルス光ビームをスキャンし、パルス光ビームでウェーハを露光することと;ウェーハを横断するパルス光ビームのスキャンの際にウェーハにおけるパルス光ビームの特性を受信することと;特定のパルス光ビーム特性についてウェーハの物性の決定値を受信することと;スキャンの際に受信したパルス光ビーム特性と物性の受信した決定値とに基づいて、ウェーハを横断するスキャンの際のパルス光ビームの性能パラメータを変更することと;を含む。【選択図】図1
摘要翻译： 为了提供基于晶片的光源参数控制。 光刻法是产生所述脉冲光束的命令到光源和;以及以扫描整个晶片光刻曝光装置中的脉冲光束曝光用脉冲光束在晶片 ;接收穿过晶片和，在接收到晶片的物理特性的特定脉冲光束特性的判决值的脉冲光束的扫描过程中，在晶片上的脉冲光光束的特性;扫描期间接收到的 包括;在基于所述脉冲光束的特性和性能所接收的判决值，并在整个晶片上扫描期间改变脉冲光束的性能参数。 点域1
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