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公开(公告)号：JP2016508544A
公开(公告)日：2016-03-22
申请号：JP2015553142
申请日：2013-01-23
IPC分类号： C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/4412 , C23C16/4417 , C23C16/45555 , C23C16/458
摘要： 縦型の原子層堆積(ALD)カートリッジの中央部で上から下まで続く縦方向の通路に沿って、前記カートリッジを通る前駆体蒸気の流れを形成することと:回転させるとき、前記縦方向の通路から前記カートリッジの側壁へと拡がるように設けられる螺旋状の領域によって、ALD処理される粒子材料を前記カートリッジ内で上方に移動させること、及び、ALD処理の最中に前記粒子材料を循環させるべく、前記縦方向の通路に沿って前記粒子材料を下方に移動させることと;を含む、装置及び方法。【選択図】図7
摘要翻译： 沿着在垂直原子层沉积（ALD）盒的中心部分运行从上到下，通过盒形成前驱体蒸汽的流动和通道的纵向方向上：在旋转时，纵向 设置成从通道延伸到盒的侧壁，向上方移动的颗粒材料是ALD在盒处理，并且，在ALD工艺期间中循环的颗粒材料的螺旋区域 沿着路径的颗粒材料的长度方向，它向下移动;包括，设备和方法。 点域7
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公开(公告)号：JP2016503462A
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：JP2015543487
申请日：2012-11-23
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45546 , C23C16/4582 , C23C16/4584 , H01L21/67742 , H01L21/67757 , H01L21/67781 , H01L21/68707
摘要： 水平に向けられた基板群の鉛直方向の積み重ねを堆積反応炉の装填室内の基板ホルダの内部に形成するために、複数の基板を基板ホルダに装填し、鉛直に向けられた基板群の水平方向の積み重ねを形成するために基板ホルダを転回し、堆積のために基板ホルダを堆積反応炉の反応室内に下降させるための装置および方法。達成される技術的効果は、複数の基板を水平に向けた状態で装填できる鉛直流堆積反応炉のための上部装填システムと、基板ホルダ全体をフリップすることによって各基板を個別にフリップする必要をなくしたことと、反応炉クラスタにおける装填距離を最小化したことである。【選択図】図1
摘要翻译： 为了形成在层叠基板是水平定向基团的沉积反应器中，装入多个在衬底支架的衬底的垂直方向上的衬底保持器的装载室的内部，在基板组的水平方向竖直定向 用于所述装置和方法把衬底保持器，以形成叠层，以降低衬底支架在用于沉积的沉积反应器的反应室中。 要达到的技术效果，用于垂直流动沉积反应器上部装系统，它可以在一个状态与它的多个基板水平地被装载，需要通过翻转整个衬底支架单独地翻转各基板 和丢失的是最大限度地减少反应器群集在加载距离。 点域1
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公开(公告)号：JP2016535685A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016522674
申请日：2013-06-27
IPC分类号： B41M3/14 , B42D25/318 , B42D25/36 , B42D25/378 , B42D25/405 , B82Y40/00 , C23C16/455 , G06K19/06
CPC分类号： G06Q30/0185 , C23C16/455 , C23C16/45555 , D21H21/44 , G09F3/00
摘要： 製品に偽造防止用署名を塗布する方法、及び偽造防止用署名が提供される。前記方法は、基板及び署名の種類を選択することと、原子層堆積(ALD)で前記基板に前記選択された種類の署名を形成することとを含み、前記署名を形成することは、原子層堆積(ALD)で前記基板に少なくとも1つの層を塗布することを含み、前記少なくとも1つの層は、特定の解析方法で検出されるように構成される所定の特性を有する。【選択図】図1a
摘要翻译： 为防止产品，并提供防伪标志采用伪造签名的方法。 该方法包括选择一种类型的衬底和签名的，并形成所选择的类型的签名，以通过原子层沉积（ALD）的基板，其中，形成所述签名，原子层 在沉积（ALD）包括将所述衬底，其中至少一个层具有配置在特定的分析方法来进行检测的预定特性上施加至少一个层。 点域1A
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公开(公告)号：JP2015519479A
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：JP2015516653
申请日：2012-06-15
发明人： スヴェン リンドフォース , スヴェン リンドフォース
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/403 , C23C16/54 , C23C16/545
摘要： 本発明の一実施例によれば、基板ウェブを原子層堆積反応器の反応空間に搬送する工程と、反応空間を時間的に分断された前駆体パルスに暴露し、材料を逐次的な自己飽和性表面反応によって前記基板ウェブに堆積させる工程とを含む方法が提供される。【選択図】図13
摘要翻译： 根据本发明的一个实施例中，在原子层沉积反应器的反应空间输送衬底腹板，露出反应空间时间上划分的前体脉冲的步骤，顺序的自饱和的材料 方法包括：在沉积基底幅材上按性别表面反应提供。 .The 13
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公开(公告)号：JP2015505899A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014541718
申请日：2011-11-22
发明人： スヴェン リンドフォース , スヴェン リンドフォース , ペッカ ジェイ ソイニネン , ペッカ ジェイ ソイニネン
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/31 , H01L21/316 , H01L21/365 , H01L31/18
CPC分类号： C23C30/00 , C23C16/45546 , H01L31/1876 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： 本発明は、原子層堆積プロセスにより複数の基板を処理するための原子層堆積反応炉の反応チャンバモジュールを用意すること、および処理前にひとまとまりの基板群を、処理後にひとまとまりの基板群が取り出されるのと異なる経路を通じて、反応チャンバモジュールに装入することを含む方法に関する。本発明はさらに、対応する機器に関する。【選択図】図1A
摘要翻译： 本发明包括一种用于处理多个通过原子层沉积工艺的基底提供反应腔室模块的原子层沉积反应器中，预处理衬底组批次，处理后分组的基板组的人 通过从被取出的不同的路径，所述方法包括充电反应室模块。 本发明还涉及一种相应的装置。 点域1A
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公开(公告)号：JP2016520717A
公开(公告)日：2016-07-14
申请号：JP2016507016
申请日：2013-04-10
IPC分类号： C23C16/455 , F04B37/16 , F04B39/00
CPC分类号： C23C16/45525 , C23C16/045 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , C23C16/45555 , C30B25/00 , C30B25/02 , C30B25/025 , C30B25/08 , C30B25/14 , C30B35/00 , F04C2230/91 , F05C2253/12
摘要： ターゲットポンプを保護する装置及び方法であって、該ターゲットポンプ(10)の吸入口には吸入マニホールド(20)が提供され、該ターゲットポンプの排出口には排出マニホールド(30)が提供される。前記ターゲットポンプが動作していない間に、ALD法で前記吸入マニホールドを通じて前記ターゲットポンプ内部に反応ガスを順次吸入し、前記排出マニホールドを通じて該反応ガスを順次排出することによって、前記ターゲットポンプ内部は順次自己飽和表面反応に曝される。本発明のある技術的効果は、コンフォーマル保護コーティングによってポンプ内部を保護することである。このポンプ内部は組立ポンプの内部でもよい。【選択図】図1
摘要翻译： 用于保护目标泵，目标泵（10）的吸入口的装置和方法被提供进气歧管（20），被设置在目标泵排出歧管（30）的出口处。 而目标泵不工作时，则反应气体的顺序吸入至通过ALD进气歧管的目标泵，通过依次排出通过排气歧管所述反应气体，目标泵依次的内部 他们暴露于自饱和表面反应。 本发明的技术效果是通过保护保形保护涂层内部泵。 该泵的内部可能会在组装的泵的内部。 点域1
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公开(公告)号：JP2015520297A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：JP2015512090
申请日：2012-05-14
发明人： スヴェン リンドフォース , スヴェン リンドフォース , ペッカ ジェイ ソイニネン , ペッカ ジェイ ソイニネン
IPC分类号： C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C16/4412 , C23C16/4417 , C23C16/442 , C23C16/45502 , C23C16/45555
摘要： 小さい粒子のバルク特性を維持しながら粒子の表面特性を変えるために、薄いコーティングで粒子をコーティングすることが望ましい。ALD技術は、このための興味深いアプリケーションである。本発明は、クイックカップリング法によって原子層堆積(ALD)カートリッジ(110)をALD反応器(121)の受け器に受け入れることを含む方法を提供する。この特徴により、反応器およびカートリッジの内部の導管は互いと一直線になることが可能になる。前記ALDカートリッジはALD反応室として役立つように構成され、そしてこの方法は、逐次自己飽和表面反応によって前記ALDカートリッジ内で粒状材料の表面を処理することを含む。本発明はまた、ALD反応器、ALDカートリッジ、ならびに反応器およびカートリッジを含む装置にも関連する。【選択図】図1
摘要翻译： 以改变颗粒的表面特性，同时保持小颗粒的整体性质，理想的是涂层有薄涂层的颗粒。 ALD技术是一个有趣的应用程序。 本发明提供一种方法，包括：接收通过快速联接器的方法（ALD）盒（110）沉积原子层的ALD反应器（121）的接收器。 此功能的反应器的内部管道和所述筒由可彼此对齐。 该ALD盒被配置为用作ALD反应室中，并且所述方法包括通过顺序自饱和表面反应的ALD盒内处理颗粒材料的表面上。 本发明也可以，ALD反应器，ALD盒，并且还涉及一种反应器和装置，其包括药筒。 点域1
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公开(公告)号：JP2017508883A
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：JP2016549415
申请日：2014-03-04
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/316
CPC分类号： H01L21/02532 , C23C16/08 , C23C16/18 , C23C16/407 , C23C16/45527 , C23C16/45536 , C23C16/4554 , H01L21/02112 , H01L21/02205 , H01L21/02274 , H01L21/0228 , H01L21/02381 , H01L21/02387 , H01L21/02422 , H01L21/0262
摘要： ゲルマニウムを基板に堆積させるプロセスであって、少なくとも1つの堆積サイクルにおいて、室内の基板を、Ge含有前駆体および還元前駆体または酸化前駆体に順次暴露することを含む。【選択図】なし
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公开(公告)号：JP5635974B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2011505541
申请日：2009-04-15
发明人： スヴェン リンドフォース , スヴェン リンドフォース , ペッカ ジェイ ソイニネン , ペッカ ジェイ ソイニネン
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/448 , H01L21/31
CPC分类号： F16L53/00 , C23C16/4485 , C23C16/45544 , C23C16/45553 , C23C16/45561 , Y10T137/6416
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公开(公告)号：JP2017514009A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：JP2016549422
申请日：2014-03-03
发明人： ヴァイノ サンメルセルク , ヴァイノ サンメルセルク , ユハナ コスタモ , ユハナ コスタモ , ウィリ バイエル , ウィリ バイエル , ヤーン アーリク , ヤーン アーリク , ラウリ アーリク , ラウリ アーリク , スヴェン リンドフォース , スヴェン リンドフォース , ピーター アダム , ピーター アダム , ユホ ポウティアイネン , ユホ ポウティアイネン
IPC分类号： C23C16/455 , F17C3/12
CPC分类号： C23C16/45525 , C23C16/045 , C23C16/4412 , C23C16/45555
摘要： ガスコンテナ内部を保護する装置および方法であって、ガスコンテナのポートに取り付け可能なポートアセンブリを備える吸排気マニホールドを設け、反応ガスを、ポートアセンブリおよびポートを介してガスコンテナ内部へと順次供給することで、ガスコンテナ内部を順次自己飽和表面反応に暴露し、反応残渣を、ポートおよびポートアセンブリを介してガスコンテナからポンプによって送り出す。【選択図】図4A
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