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公开(公告)号：JP2020176842A
公开(公告)日：2020-10-29
申请号：JP2019077199
申请日：2019-04-15
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】可視域以外を波長範囲に含む測定光の照射位置(測定位置)をより正確に可視化することが可能な光学ユニット、光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学ユニットは、可視域以外を波長範囲に含む測定光を第1の光軸に沿ってサンプルに照射するとともに、サンプルにおいて生じる測定光の反射光を受光するプローブと、第1の光軸上に配置された第1のビームスプリッタと、可視域を波長範囲に含む観察光が第1の光軸に沿ってサンプルに照射されるように、観察光を第1のビームスプリッタに導く第2のビームスプリッタと、サンプルにおいて生じる測定光の反射光およびサンプルにおいて生じる観察光の反射光のうち、第1のビームスプリッタによって第2の光軸に光路が変化した光を受光し、受光した光の像を示す撮像画像を出力する撮像部とを含む。撮像部は、観察光の波長範囲の少なくとも一部、および、測定光の波長範囲の少なくとも一部のいずれにも感度を有している。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018205295A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2018012204
申请日：2018-01-29
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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公开(公告)号：JP6402273B1
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：JP2018096422
申请日：2018-05-18
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 【課題】試料における一方の表面に対して光を照射する光学測定装置において、プローブと試料との間の距離と、試料の膜厚と、を測定する。 【解決手段】本開示の厚み測定装置は、参照面を有する透過光学部材を含み、前記参照面を介して試料に光を照射し、前記参照面からの第1の反射光、前記試料の表面からの第2の反射光、及び前記試料の裏面からの第3の反射光を受光するプローブと、前記第1の反射光と前記第2の反射光により生じる第1の反射干渉光を用いて、前記参照面から前記試料の表面までの第1の距離を算出し、前記第2の反射光と前記第3の反射光により生じる第2の反射干渉光を用いて、前記試料の厚みを算出する演算部と、を含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021067611A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：JP2019194654
申请日：2019-10-25
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】測定波長範囲が狭く、測定波長範囲に十分な数の基準輝線を含めることができない場合でも波長校正が可能な新たな手法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定光を発生する光源と回折格子により波長分離された光を受光する、整列配置された複数の受光素子からなる受光器と標準試料の既知の厚み、屈折率および消衰係数に基づいて数学的に算出される、標準試料の反射率または透過率の理論干渉スペクトル取得手段と、測定光を標準試料に照射して生じる反射光または透過光を回折格子を介して受光器で受光することで生成される反射率または透過率の実測干渉スペクトル取得手段と、理論干渉スペクトルと実測干渉スペクトルとの波長の対応付け情報取得手段と、複数の受光素子の波長値を規定する波長校正式を実測干渉スペクトルに適用した結果が理論干渉スペクトルと一致するように対応付け情報を参照して、波長校正式を決定する波長校正手段とを含む。 【選択図】図6
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2019200185A
公开(公告)日：2019-11-21
申请号：JP2018096422
申请日：2018-05-18
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 【課題】試料における一方の表面に対して光を照射する光学測定装置において、プローブと試料との間の距離と、試料の膜厚と、を測定する。 【解決手段】本開示の厚み測定装置は、参照面を有する透過光学部材を含み、前記参照面を介して試料に光を照射し、前記参照面からの第1の反射光、前記試料の表面からの第2の反射光、及び前記試料の裏面からの第3の反射光を受光するプローブと、前記第1の反射光と前記第2の反射光により生じる第1の反射干渉光を用いて、前記参照面から前記試料の表面までの第1の距離を算出し、前記第2の反射光と前記第3の反射光により生じる第2の反射干渉光を用いて、前記試料の厚みを算出する演算部と、を含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018205132A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2017111043
申请日：2017-06-05
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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公开(公告)号：JP6371926B1
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2018012204
申请日：2018-01-29
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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公开(公告)号：JP2018040764A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016176777
申请日：2016-09-09
Applicant: 大塚電子株式会社
CPC classification number: G01J3/027 , G01J3/0218 , G01J3/0221 , G01J3/0264 , G01J3/28 , G01J3/2803 , G01J2003/2876 , G01N21/274 , G01N21/359
Abstract: 【課題】測定時に要する校正の手間を低減しつつ、出力直線性の精度を高めた光学測定方法および光学測定装置を提供する。 【解決手段】少なくとも近赤外領域に検出感度を有する検出器120を用いた光学測定方法が提供される。光学測定方法は、任意のサンプル光を任意の露光時間xで検出器120により測定したときの出力値Sig−Darkを取得するステップと、出力値を取得したときの露光時間が第2の範囲x>ts内にあれば、出力値に応じた補正量で出力値を補正するステップとを含む。補正量は、第2の範囲内の露光時間で検出器により測定したときに得られる出力値が第1の範囲x≦ts内の露光時間で検出器により測定したときに得られる出力直線性に対してどの程度ずれているのかを示す係数と、露光時間の2乗との積を含む。 【選択図】図8
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公开(公告)号：JP6285597B1
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：JP2017111043
申请日：2017-06-05
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/06 , G01B9/02024 , G01B9/02041 , G01B9/02043
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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