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    現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置
    2.
    发明专利
    現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び現像液管理装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018120896A

    公开(公告)日：2018-08-02

    申请号：JP2017009833

    申请日：2017-01-23

    Applicant: 株式会社平間理化研究所

    Inventor： 中川 俊元

    IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】アルカリ性を示す現像液に吸収された二酸化炭素の濃度を測定する二酸化炭素濃度表示装置、及び、アルカリ性を示す現像液の吸収二酸化炭素の濃度を管理する現像液管理装置、を提供する。 【解決手段】現像液の二酸化炭素濃度表示装置、及び、現像液管理装置は、密度計を備え、現像液の密度を測定する。現像液の密度と吸収二酸化炭素濃度との間には、良好な対応関係がある。二酸化炭素濃度表示装置は、前記対応関係を用いて、密度の測定値に基づいて、吸収二酸化炭素濃度を算出し、表示手段により吸収二酸化炭素濃度を表示する。現像液管理装置は、前記対応関係を用いて、現像液の測定された密度値又は算出された吸収二酸化炭素濃度値に基づいて、現像液の吸収二酸化炭素濃度が所定の管理値又は管理値以下となるように、現像液に補充液を補給することにより、現像液の吸収二酸化炭素濃度を管理し、表示手段により吸収二酸化炭素濃度を表示する。 【選択図】図7

    薬液調製供給装置、薬液の販売方法及び薬液販売システム、並びに、電解液調製供給装置、電解液の販売方法及び電解液販売システム
    3.
    发明专利
    薬液調製供給装置、薬液の販売方法及び薬液販売システム、並びに、電解液調製供給装置、電解液の販売方法及び電解液販売システム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017097634A

    公开(公告)日：2017-06-01

    申请号：JP2015229407

    申请日：2015-11-25

    Applicant: 株式会社平間理化研究所

    Inventor： 中川 俊元

    IPC: G06Q50/04 ,  G06Q30/04 ,  G01F1/00 ,  G01F15/075 ,  G06Q30/06

    CPC classification number: Y02P90/30

    Abstract: 【課題】半導体、液晶ディスプレイ、又は電池の製造に使用される薬液又は電解液において、薬液使用者が薬液調製供給装置を購入運用したり薬液やその原料を調達したりせずに必要な濃度の薬液を必要な量だけ常時供給を受けられる薬液の販売方法、及び、これに必要な薬液調製供給装置を提供する。 【解決手段】薬液調製供給装置は薬液を供給する配管に積算流量計を備える。薬液販売者所有の薬液調製供給装置を薬液使用設備に接続し、これを用いて薬液販売者の調達した薬液原料から供給すべき薬液を調製する。調製された薬液は、供給リクエストに応じて、供給量を積算流量計で計測しながら薬液使用設備に供給される。薬液販売者は、所定期間ごとに計測された積算流量から薬液の使用料金を計算し、これを薬液使用者に請求する。積算流量計に通信機能を持ったものを採用すれば、ネットワークを介して、遠隔で積算流量を監視し、薬液の販売を行うことができる。 【選択図】 図3

    固体粒子回収除去装置、液体管理装置及びエッチング液管理装置
    4.
    发明专利
    固体粒子回収除去装置、液体管理装置及びエッチング液管理装置 有权
    固体颗粒恢复/去除装置，液体管理装置和蚀刻液体管理装置

    公开(公告)号：JP2016028807A

    公开(公告)日：2016-03-03

    申请号：JP2015118236

    申请日：2015-06-11

    Applicant: 株式会社平間理化研究所

    Inventor： 中川 俊元 ,  白井 浩之

    IPC: H01L21/306 ,  C23F1/46 ,  B01D9/02 ,  B01D43/00

    Abstract: 【課題】省スペースであり、処理時間を短縮することができる固体粒子回収除去装置、この装置を備える液体管理装置及びエッチング液管理装置を提供する。 【解決手段】筒状に形成されたケーシング35と、ケーシング35内に設けられた中心軸36a、中心軸36aの周囲にケーシング35の内壁に近接してスパイラル状に設けられたスクリュー羽根36bと、固体粒子を含む液体を供供給する流入口及び排出する排出口と、固体粒子をケーシングから排出する固体粒子排出管と、を備え、固体粒子排出管は、流入口及び流出口より上方側に設けられており、ケーシング35は、所定の角度を有して配置され、モーター37がスクリュー羽根36bを回転させることにより、液体中の固体粒子をケーシング35内の液体中から固体粒子排出管に搬送して排出する。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供实现空间节约和缩短处理时间的固体颗粒回收/去除装置，并提供包括固体颗粒回收/去除装置和蚀刻液管理装置的液体管理装置。解决方案：固体 颗粒回收/除去装置包括：形成为圆筒形状的壳体35：设置在壳体35中的中心轴36a; 螺旋叶片36b，其围绕中心轴36a以螺旋形的方式设置并且靠近壳体35的内壁定位; 用于供给含有固体颗粒的液体的流入口和用于排出液体的排出口; 以及从壳体35排出固体颗粒的固体颗粒排出管。固体颗粒排出管设置在流入口和排出口的上方。 壳体35设置成预定角度。 马达37旋转螺旋叶片36b以将液体中的固体颗粒从壳体35中的液体输送到固体颗粒排出管。选择的图：图1

    Etching solution management device
    5.
    发明专利
    Etching solution management device 有权

    公开(公告)号：JP5058560B2

    公开(公告)日：2012-10-24

    申请号：JP2006291649

    申请日：2006-10-26

    Applicant: 株式会社平間理化研究所

    Inventor： 俊元 中川 ,  寿邦 佐藤

    IPC: C23F1/08 ,  C23F1/20 ,  G01N9/36 ,  G01N21/35 ,  G01N21/3554 ,  G01N21/3577 ,  G01N21/359 ,  G01N27/10

    Abstract: The etching liquid is automatically controlled in the specified nitrate acid consistency, acetic acid consistency and phosphoric acid consistency, and the liquid supply of the etching liquid processing tank is given proper management, the using liquid amount is reduced and the lie time is greatly shortened at the same time of certain ordinary etching performance, thereby making possible to reducethe integrate production cost. The invention provides an etching liquid which is provided with an etching liquid processing tank with nitrate acid, to make the etching liquid storing in the etching liquid processing tank carry on circular etching liquid circular mechanism and transmit the etching liquid management device in the etching processing device of etching processing mechanism of substrate with aluminum film by using the etching liquid circular mechanism. The invention is characterized in that the device comprises an etching liquid sampling mechanism to have sampling of the etching liquid, a dilution mechanism of etching liquid diluting with purified water and adopting etching liquid sampling mechanism, a conductivity meter which obtains the electrical conductivity value related to the nitrate acid consistency of etching liquid through testing and adopting the electrical conductivity of the etching liquid diluted by the dilution mechanism, and a replenishing solution supply mechanism which supplies replenishing solution to the etching liquid processing tank based on the electrical conductivity value with the conductivity meter.

    Apparatus and method for managing aqueous resist release solution
    8.
    发明专利
    Apparatus and method for managing aqueous resist release solution 有权
    用于管理水溶性释放溶液的装置和方法

    公开(公告)号：JP2003005387A

    公开(公告)日：2003-01-08

    申请号：JP2001191703

    申请日：2001-06-25

    Applicant: Hirama Rika Kenkyusho:Kk ,  Nagase & Co Ltd ,  Nagase Cms Technology Co Ltd ,  ナガセシィエムエステクノロジー株式会社 ,  株式会社平間理化研究所 ,  長瀬産業株式会社

    Inventor： NAKAGAWA TOSHIMOTO ,  KATAGIRI YUKO ,  OGAWA OSAMU ,  MORITA SATORU ,  KIKUKAWA MAKOTO

    IPC: G03F7/42 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

    CPC classification number: H01L21/67253 ,  G03F7/422 ,  Y10T436/12

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To always fix the resist release performance by automatically controlling a resist release solution so that the moisture concentration and the degraded component concentration become prescribed values and properly managing solution replenishment of a resist release processing tank, and to reduce the overall manufacturing cost by reducing the use quantity of the resist release solution and shortening the operation halt time. SOLUTION: The aqueous resist release solution management apparatus which manages the aqueous resist release solution used for a resist releasing apparatus in an adjustment tank (1) is provided with a degraded component concentration measuring means (16) which measures the concentration of degraded components derived from the aqueous resist release solution in the adjustment tank (1), solution supply means (24, 25, 26, and 27) which supply at least one of undiluted aqueous resist release solution, a recycled aqueous release solution, pure water and a preliminarily prepared fresh aqueous resist release solution to the adjustment tank, and a solution supply quantity control means (31) which controls the quantity of the solution to be supplied to the adjustment tank on the basis of the measured concentration of degraded components.

    Abstract translation: 要解决的问题：为了始终通过自动控制抗蚀剂释放溶液来固定抗蚀剂释放性能，使得水分浓度和降解的组分浓度成为规定值并适当地控制抗蚀剂释放处理槽的溶液补充，并且减少整体制造 通过减少抗蚀剂释放溶液的使用量并缩短操作停止时间来降低成本。 解决方案：控制在调节槽（1）中用于抗蚀剂释放装置的抗蚀剂防水溶液的水性抗蚀剂溶液管理装置设置有劣化成分浓度测量装置（16），其测量源于 调节罐（1）中的抗蚀剂水溶液，溶液供给装置（24,25,26,27），其供给未稀释的水性抗剥离剂溶液，再循环的水性释放溶液，纯水中的至少一种和预先制备 将新鲜的水性抗蚀剂释放溶液输送到调节罐，以及溶液供给量控制装置（31），其基于测量的劣化成分的浓度来控制供给到调节罐的溶液的量。

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