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公开(公告)号：JP4557279B2
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：JP2002575981
申请日：2002-03-20
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ , フェリス・ケネス・ピー
CPC classification number: H01J33/04
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公开(公告)号：JP2004532403A
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：JP2002574671
申请日：2002-03-12
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ
Abstract: 電子ビーム照射装置は、電子を照射ゾーンに照射する電子ビーム・システムを備える。 電子ビーム・システムおよび照射ゾーンは、電子ビーム・システムからの電子によって、照射ゾーンを通過する三次元製品の外側露出面を異なる方向から照射するように構成される。
【選択図】図１-
公开(公告)号：JP4248248B2
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：JP2002574689
申请日：2002-03-19
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ
CPC classification number: A61L2/082 , A61L2/08 , A61L2202/24 , G21K5/04 , H01J35/08 , H01J35/18 , H01J2235/186
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公开(公告)号：JP2004535655A
公开(公告)日：2004-11-25
申请号：JP2002575976
申请日：2002-03-12
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ
IPC: H01J37/065 , H01J1/16 , H01J9/04 , H01J33/00 , H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/301
CPC classification number: H01J9/04 , H01J1/16 , H01J33/00 , Y10T29/49002 , Y10T29/49117
Abstract: 電子ビーム放射器において電子を発生するフィラメントは断面および長さを有する。 フィラメントの断面はその長さに沿って変化しており、それにより、所望の電子発生プロファイルを生成する。
【選択図】図２-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2003504605A
公开(公告)日：2003-02-04
申请号：JP2001509058
申请日：2000-06-28
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ , フェリス・ケネス・ピー
CPC classification number: H01J33/00 , B65B55/02 , B65B55/103 , H01J5/06
Abstract: (57)【要約】 電子加速器１０は電子ビーム放射窓２４を有する真空チャンバ４６を含む。 放射窓２４は真空チャンバ１０４に金属接触して接合された金属箔から形成され、両者の間を気密密封している。 放射窓２４の厚さは約１２．５μｍ未満である。 真空チャンバ１０４は気密密封され、内部を恒久的に自己保持真空に維持している。 電子発生器３１は真空チャンバ内１０４に置かれ、電子を発生する。 ハウジング３０が電子発生器３１を取り囲んでいる。 ハウジング３０は、電子発生器３１と放射窓２４との間に形成された電子透過領域３４，３５を有しており、ハウジング３０と放射窓２４との間に電圧が印加されると、電子５６を電子発生器３１から放射窓２４の外へ電子ビーム５８として加速する。
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公开(公告)号：JP2006520259A
公开(公告)日：2006-09-07
申请号：JP2006503234
申请日：2004-02-02
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
IPC: B01D53/32 , B01D53/00 , B01D53/24 , B01J19/08 , B01J19/24 , C01B3/34 , G21K5/04 , G21K5/10 , H01M8/06 , H01M10/44
CPC classification number: B01J19/18 , B01D53/007 , B01D53/24 , B01D53/323 , B01D2259/812 , B01J19/085 , B01J19/2405 , B01J2219/0809 , B01J2219/0875 , C01B3/342 , H01M8/0662 , H01M10/44
Abstract: 気体を受け入れる照射室（１２）を備える気体分離装置（１０）であって、照射装置（６）が照射室（１２）内で気体を照射し、大質量構成成分と小質量構成成分に分解する。 分離機構（１）が大質量構成成分と小質量構成成分に、照射室内の相異なる領域に向かうよう力を作用させ、分離する。 排出口を介して小質量構成成分が照射室内から除去される。
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公开(公告)号：JP2004522574A
公开(公告)日：2004-07-29
申请号：JP2002559077
申请日：2001-12-04
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2/08 , A61L2202/122 , C02F1/30 , C02F2303/04 , G21K5/10
Abstract: 内部にキャビティを持つ滅菌室と、加圧された流体を受け取り、その流体のスプレーをキャビティ内に噴射するノズルとを含む流体滅菌装置。 放射窓を持つ電子ビーム発生器が滅菌室に取り付けられ、電子ビームを放射窓を通して滅菌室のキャビティ内に放射して、流体のスプレーを照射する。 ノズルは、流体のスプレーを、放射窓に対して近接させて、かつほぼ平行に噴射するように構成されている。
【選択図】図２-
公开(公告)号：JP2003535681A
公开(公告)日：2003-12-02
申请号：JP2002503428
申请日：2001-06-19
Applicant: アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
Inventor： アブネリー・ツビ
IPC: B01D53/32 , A61L9/18 , B01D49/00 , B01D53/00 , B01D53/50 , B01D53/56 , B01D53/60 , B01D53/62 , B01J19/12
CPC classification number: B01D53/50 , A61L9/18 , B01D49/00 , B01D53/007 , B01D53/56 , B01D53/60 , B01D53/62 , B01D2259/812 , F24F2003/1664 , Y02A50/2342 , Y02C10/04 , Y02E20/326 , Y02P70/34
Abstract: (57)【要約】 ガスから二酸化炭素を除去するガス変換システムは、ガスが循環するダクトを含む。 このダクトは、反応剤をダクト内に導入してガスにまで導くポートを有している。 電子ビーム放射器をダクトに対し、所定の位置に配置して、電子ビームをダクト内に放射することにより、二酸化炭素および反応剤の成分を反応させて、ガスから二酸化炭素を除去し、酸素を放出させる。
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