专利检索 ap:("アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ") AND inv:"關藤高志" 第 1 页

1.

发明专利
微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法有权

公开(公告)号：JP6239833B2

公开(公告)日：2017-11-29

申请号：JP2013036029

申请日：2013-02-26

申请人： アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

发明人： 山本和磨 , 宮本義大 , 關藤高志

IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/40

CPC分类号： G03F7/40 , C09D139/02 , C09D139/04 , G03F7/0392 , G03F7/20 , G03F7/325 , G03F7/405

2.

发明专利
微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法有权

公开(公告)号：JP6157151B2

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：JP2013043177

申请日：2013-03-05

申请人： アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

发明人： 長原達郎 , 關藤高志 , 山本和磨 , 小林政一 , 佐竹昇 , 石井雅弘

IPC分类号： C08L39/00 , C08K5/42 , C08K5/09 , C08K3/28 , C08K3/30 , G03F7/40

CPC分类号： G03F7/11 , C08L33/14 , C09D139/04 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/094 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , H01L21/76816

3.

发明专利
微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法有权
标题翻译：细使用相同的抗蚀剂图案形成用组合物及图案形成方法

公开(公告)号：JP6075724B2

公开(公告)日：2017-02-08

申请号：JP2012219657

申请日：2012-10-01

申请人： アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

发明人： 山本和磨 , 石井雅弘 , 關藤高志 , 柳田浩志 , 中杉茂正 , 能谷剛

IPC分类号： C08F12/22 , C08F20/10 , G03F7/40

CPC分类号： G03F7/168 , C08F12/24 , C08F20/30 , C08F220/26 , C08F220/30 , C09D129/02 , C09D133/14 , C09D137/00 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/32 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , H01L21/0338