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公开(公告)号：JP6275240B2
公开(公告)日：2018-02-07
申请号：JP2016504330
申请日：2014-03-18
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： チュワン ユン−ホ , アームストロング ジェイ ジョセフ , リオウ ジャスティン ディエンホワン , ドリビンスキ ウラジミール , フィールデン ジョン
CPC classification number: H01S3/2308 , G01N21/47 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G02F1/353 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , H01S3/0078 , H01S3/0092 , H01S3/0602 , H01S3/06708 , H01S3/06758 , H01S3/09415 , H01S3/1618 , H01S3/2375 , H01S3/302
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公开(公告)号：JP5852803B2
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：JP2011163803
申请日：2011-07-27
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： アームストロング ジェイ ジョセフ
CPC classification number: G02B6/243
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公开(公告)号：JP2018078293A
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：JP2017220025
申请日：2017-11-15
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： チュアン ユン−ホ アレックス , リオウ ジャスティン ダイアンフアン , アームストロング ジェイ ジョセフ , デン ユージン
CPC classification number: H01S3/005 , C23C16/00 , G02B17/00 , G02B17/0848 , G02B27/00 , G02B27/108 , H01S3/00 , H01S3/10
Abstract: 【課題】レーザーの出力で動作するUVレーザーの反復率を向上させるための実用的かつ低コストな技術を提供する。 【解決手段】半導体の検査または計測に用いるパルスマルチプライヤは、レーザーパルスを受け取るビームスプリッター103と、ビームスプリッター103を含むリングキャビティを形成する1つ以上のミラー106,107を備える。ビームスプリッターは、レーザーパルスのエネルギーの第1の割合をパルスマルチプライヤの出力として向け、レーザーパルスのエネルギーの第2の割合をリングキャビティに向け、リングキャビティは、波長板を含んでおらず、連続する出力パルスは同一の偏光状態を有する。 【選択図】図1A
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公开(公告)号：JP2017040947A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2016234729
申请日：2016-12-02
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： アームストロング ジェイ ジョセフ
IPC: G02F1/37
CPC classification number: G02F1/353 , G02F1/3525
Abstract: 【課題】結晶位置寿命を監視する能力を備えた周波数変換システムを提供する。 【解決手段】基本波長レーザ光を生成するように構成された基本レーザ光源と、基本レーザ光源から基本レーザ光を受けるように構成された光学結晶であって、光学結晶は、受けた基本レーザ光の一部を別の波長光へと周波数変換することにより、別の波長光を生成するように構成される、光学結晶と、補助波長光を生成するように構成された補助光源であって、補助波長光の波長は、基本波長レーザ光および別の波長光と異なり、基本レーザ光源および補助光源は、基本レーザ光が上記補助光と共に光学結晶の表面を通じて共伝搬するように配置される、補助光源と、光学結晶によって散乱された基本波長レーザ光、光学結晶によって散乱された別の波長光、または光学結晶によって散乱された補助光のうち少なくとも1つを検出するように構成された検出器とを含む。 【選択図】図1
Abstract translation: 本发明提供了一种变频系统，以监测晶体生命的位置的能力。 和基本激光光源被配置成产生一个基本波长的激光束，被布置成接收从基波激光光源，光学晶体的基本激光束的光学晶体，接收基本激光 通过一些频率转换和到另一个波长的光，被配置成生成不同波长的光，配置的辅助光源以产生光学晶体，辅助波长的光， 波长辅助波长是从基波长激光束和另一波长的光，基本激光光源和辅助光源，基波激光被布置为通过所述光学晶体的表面一起与辅助光，辅助同向传播不同 一光源，由光学晶体散射的基波波长的激光，通过另一波长检测散射辅助光中的至少一个，或光学晶体散射光学晶体 和检测器构成。 点域1
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公开(公告)号：JP6049628B2
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：JP2013538961
申请日：2011-11-13
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： アームストロング ジェイ ジョセフ
IPC: G02F1/37
CPC classification number: G02F1/37 , G02B27/28 , H01S3/0092 , H01S3/109 , G02F1/3532
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2019082716A
公开(公告)日：2019-05-30
申请号：JP2019006089
申请日：2019-01-17
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： チュワーン ユイン−ホ アレックス , アームストロング ジェイ ジョセフ , ドゥオン ユイジュイン , リオウ ジャスティン ディエンホワン , ドリヴィンスキイ ヴラディミル , フィールデン ジョン
IPC: G02F1/35 , G02F1/39 , G01N21/956 , G02F1/37
Abstract: 【課題】200nm未満の光を発生させるレーザー及び検査システムを提供する。 【解決手段】約1109nmの波長にある光を約234nmの波長にある光と混ぜ合わせて190nm〜200nmの波長にある光を発生させる周波数混合ステージを含む光源と、フォトマスク等の表面に入射光線を向ける光学系と、フォトマスク等から反射された光の少なくとも2つの経路を選択し、センサーに光を中継する光学素子と、センサーを備える。周波数混合ステージは、約1109nmの波長にある光を約234nmの波長にある光と混ぜ合わせて190nm〜200nmの波長にある光を発生させる周波数混合器と、周波数混合器からの光の一部から約1171nmの波長にある光を発生させる1171nm発生器と、1171nm発生器からの光から約234nmの波長にある光を発生させて周波数混合器に向ける第5高調波発生器を備える。 【選択図】図1B
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公开(公告)号：JP6490042B2
公开(公告)日：2019-03-27
申请号：JP2016234729
申请日：2016-12-02
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： アームストロング ジェイ ジョセフ
IPC: G02F1/37
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公开(公告)号：JP5905430B2
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：JP2013207679
申请日：2013-10-02
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： シェーファー デービッド アール , チャン ユン−ホ , アームストロング ジェイ ジョセフ
CPC classification number: G02B21/04 , G02B17/0808 , G02B17/0812 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G02B21/02 , G03F7/70225 , G03F7/70341
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公开(公告)号：JP2018152603A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018107518
申请日：2018-06-05
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： アームストロング ジェイ ジョセフ
CPC classification number: H01S3/06754 , G01N21/00 , G01N21/9501 , G01N21/956 , H01S3/0057 , H01S3/0092 , H01S3/02 , H01S3/06758 , H01S3/10 , H01S3/30 , H01S3/302 , H01S2301/08
Abstract: 【課題】ファイバベースのレーザの高いピークパワー及び周波数調整機能と、固体レーザと関連する簡易な光学システムとを併用する基本波光源を提供する。 【解決手段】半導体検査のためのレーザシステムは、UV−DUVレーザ光を生成するために周波数変換モジュールによって後に変換/混合される基本波光を生成するためのファイバベースの基本波光源100を含む。基本波光源100は、ファイバ増幅器による増幅の前にシード光レーザシステムに非線形チャープを追加する非線形チャープ要素150を含む。非線形チャープは、x 2 又は更に高い非直線性を含み、シード光の帯域幅の5倍以内のスペクトルE95帯域幅を有する基本波光が生成されるように、ファイバベースの増幅器の自己位相変調(SPM)特性を補償するように構成される。複数の直列接続された増幅器が用いられる場合、各増幅器の前にチャープ要素が含まれる。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2017191324A
公开(公告)日：2017-10-19
申请号：JP2017109074
申请日：2017-06-01
Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
Inventor： チュアン ユン−ホ アレックス , アームストロング ジェイ ジョセフ , ドリビンスキイ ヴラディミル , フィールデン ジョン
CPC classification number: H01S3/0092 , G01N21/8806 , G01N21/956 , G02F1/353 , H01S3/1611 , H01S3/2308 , H01S3/2383 , G01N2021/95676 , G02F2001/3507 , G02F2001/354
Abstract: 【課題】改良されたレーザーシステムおよび関連する技術を提供する。 【解決手段】1064nmに近い基本真空波長から、約193.368nmの紫外線(UV)波長を発生させる。好適な実施形態は、入力波長の未消費の部分を少なくとも一段階に分割し(102, 102′)、別の段階での使用のためにその未消費の部分を向け直す(104)。改良されたレーザーシステムおよび関連する技術は、産業において現在使用されているそれよりも、より安価で、より長寿命のレーザーをもたらす。 【選択図】図1A
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