公开(公告)号：JP6442370B2

公开(公告)日：2018-12-19

申请号：JP2015128335

申请日：2015-06-26

Applicant: サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  安井 誠治 ,  小室 嘉崇 ,  山崎 広人 ,  新井 雅俊

IPC: G03F7/004 ,  C07C381/12

公开(公告)号：JP2017008014A

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：JP2015128335

申请日：2015-06-26

Applicant: サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  安井 誠治 ,  小室 嘉崇 ,  山崎 広人 ,  新井 雅俊

IPC: G03F7/004 ,  C07C381/12

Abstract: 【課題】短波長の光や電子線及びX線等の電離性放射線に対して高い分解効率を有する新たな光酸発生剤の提供。 【解決手段】式(1)で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩。 〔R 1 〜R 4 はC1〜4のパーフルオロアルキル、ニトロ等;R 5 はアルキル等〕 【選択図】なし

Abstract translation: 以提供具有用于电离光或电子束和X射线的短波长的辐射具有高分解效率新光酸产生剂。 锍盐和由A表示的锍盐（1）。 [C1 -4，硝基等的R1〜R4全氟烷基; R 5是烷基或等]装置技术领域

公开(公告)号：JP6046540B2

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：JP2013079183

申请日：2013-04-05

Applicant: サンアプロ株式会社

Inventor： 池田 卓也 ,  鈴木 一生 ,  安井 誠治 ,  古田 剛志

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07F9/535 ,  C07F5/02 ,  C07C311/09 ,  C07C309/06 ,  C07C381/12

公开(公告)号：JP2018112670A

公开(公告)日：2018-07-19

申请号：JP2017003209

申请日：2017-01-12

Applicant: サンアプロ株式会社

Inventor： 安井 誠治 ,  福長 祝也 ,  柴垣 智幸

IPC: C09K3/00 ,  C07D221/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

Abstract: 【課題】i線に高い感度を有し、熱安定性に優れ、疎水性材料への溶解性及び透明性に優れる非イオン系光酸発生剤を提供する。 【解決手段】ナフタルイミド骨格上にR1SO3−基を持つ光酸発生剤(A);及び該非イオン系光酸発生剤(A)を含むフォトリソグラフィー用樹脂組成物(Q)。[式(1)中、R1は炭素数1〜18であるアルキル基または炭素数6〜14のアリール基であり、R2はフッ素原子または炭素数1〜18の炭化水素基(R1およびR2の水素は一部又は全部がフッ素で置換されていてもよい)である。] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6747990B2

公开(公告)日：2020-08-26

申请号：JP2017003209

申请日：2017-01-12

Applicant: サンアプロ株式会社

Inventor： 安井 誠治 ,  福長 祝也 ,  柴垣 智幸

IPC: C09K3/00 ,  C07D221/14 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004