公开(公告)号：JP6442370B2

公开(公告)日：2018-12-19

申请号：JP2015128335

申请日：2015-06-26

Applicant: サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  安井 誠治 ,  小室 嘉崇 ,  山崎 広人 ,  新井 雅俊

IPC: G03F7/004 ,  C07C381/12

公开(公告)号：JP2017008014A

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：JP2015128335

申请日：2015-06-26

Applicant: サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  安井 誠治 ,  小室 嘉崇 ,  山崎 広人 ,  新井 雅俊

IPC: G03F7/004 ,  C07C381/12

Abstract: 【課題】短波長の光や電子線及びX線等の電離性放射線に対して高い分解効率を有する新たな光酸発生剤の提供。 【解決手段】式(1)で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩。 〔R 1 〜R 4 はC1〜4のパーフルオロアルキル、ニトロ等;R 5 はアルキル等〕 【選択図】なし

Abstract translation: 以提供具有用于电离光或电子束和X射线的短波长的辐射具有高分解效率新光酸产生剂。 锍盐和由A表示的锍盐（1）。 [C1 -4，硝基等的R1〜R4全氟烷基; R 5是烷基或等]装置技术领域

公开(公告)号：JP6240409B2

公开(公告)日：2017-11-29

申请号：JP2013114827

申请日：2013-05-31

Applicant: サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社

Inventor： 鈴木 一生 ,  池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  古田 剛志 ,  小室 嘉崇 ,  内海 義之 ,  海保 貴昭 ,  波戸 利明

IPC: C09K3/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07C309/06 ,  C07C309/19 ,  C07C311/48 ,  C07C317/04 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42

公开(公告)号：JP2021033026A

公开(公告)日：2021-03-01

申请号：JP2019152373

申请日：2019-08-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 大西 行志 ,  新井 雅俊 ,  小室 嘉崇

IPC: C08F20/26 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

Abstract: 【課題】感度が良好で、かつ、ラフネスが改善されたレジスト組成物、レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物の樹脂成分として有用な高分子化合物、及び高分子化合物を製造するために有用な化合物の提供。 【解決手段】一般式(a0)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含む、レジスト組成物(式中、Ya 0 は炭素原子である。Xa 0 は、Ya 0 と共に単環式の炭化水素基を形成する基である。Ra 00 は炭化水素基である。ただし、Xa 0 及びRa 00 の少なくとも一つは、Ya 0 のα位に、炭素−炭素不飽和結合を構成する炭素原子を有している)。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020132694A

公开(公告)日：2020-08-31

申请号：JP2019024619

申请日：2019-02-14

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学

Inventor： 早川 晃鏡 ,  山崎 星奈 ,  山崎 晃義 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  前橋 貴哉 ,  小田島 凛

IPC: B05D1/36 ,  B05D7/24 ,  H01L21/312 ,  C08G77/442

Abstract: 【課題】自己組織化リソグラフィにより複雑な構造が形成できるブロック共重合体、相分離構造を含む構造体の製造方法の提供。 【解決手段】ケイ素原子を含まない構成単位(u1)の繰り返し構造を有する重合体からなる第1ブロック、及び、ケイ素原子を含む構成単位(u2)の繰り返し構造を有する重合体からなる第2ブロックを備え、第2ブロックは、一般式(u2−1)で表される構成単位(u21)の繰り返し構造を有する重合体からなるブロック(b21)を含み、ブロック共重合体を構成する全ブロックに対する第1ブロックの体積比は、42〜44体積%である、ブロック共重合体(R P211 は、極性基を有する有機基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はHであり、R P21 2 は、SHR t1 で表される化合物から誘導される基である。R t1 は、置換基を有してもよい炭素数1〜5の炭化水素基である)。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6715375B2

公开(公告)日：2020-07-01

申请号：JP2019094831

申请日：2019-05-20

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 山崎 広人 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  川名 大助 ,  鈴木 健太 ,  藤井 達也

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/56 ,  C08F220/30 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP6670555B2

公开(公告)日：2020-03-25

申请号：JP2015120482

申请日：2015-06-15

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 平山 拓 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  松丸 省吾 ,  鈴木 健太 ,  神園 喬 ,  藤井 達也

IPC: C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JP6646990B2

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：JP2015192666

申请日：2015-09-30

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 新井 雅俊 ,  小室 嘉崇 ,  高木 大地

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F220/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

公开(公告)号：JP6317095B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2013248662

申请日：2013-11-29

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 小室 嘉崇

IPC: G03F7/038 ,  C08F22/20 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JP6317012B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2017103131

申请日：2017-05-24

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 小室 嘉崇 ,  海保 貴昭 ,  波戸 利明 ,  川上 晃也 ,  土屋 純一 ,  内海 義之

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C69/14 ,  C07C69/753 ,  C07C59/125 ,  C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/00 ,  C07D493/18 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004