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公开(公告)号：JP2017008014A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2015128335
申请日：2015-06-26
Applicant: サンアプロ株式会社 , 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C381/12
Abstract: 【課題】短波長の光や電子線及びX線等の電離性放射線に対して高い分解効率を有する新たな光酸発生剤の提供。 【解決手段】式(1)で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩。 〔R 1 〜R 4 はC1〜4のパーフルオロアルキル、ニトロ等;R 5 はアルキル等〕 【選択図】なし
Abstract translation: 以提供具有用于电离光或电子束和X射线的短波长的辐射具有高分解效率新光酸产生剂。 锍盐和由A表示的锍盐（1）。 [C1 -4，硝基等的R1〜R4全氟烷基; R 5是烷基或等]装置技术领域
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公开(公告)号：JP6442370B2
公开(公告)日：2018-12-19
申请号：JP2015128335
申请日：2015-06-26
Applicant: サンアプロ株式会社 , 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C381/12
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公开(公告)号：JP2021096384A
公开(公告)日：2021-06-24
申请号：JP2019228281
申请日：2019-12-18
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/039
Abstract: 【課題】高感度化が図れ、かつ、リソグラフィー特性に優れ、矩形性の高いレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】一般式(a01−1)で表される化合物から誘導される構成単位と、一般式(a02−1)で表される化合物から誘導される構成単位とを有する樹脂成分、及び、アニオン部とカチオン部とを有する化合物からなる酸発生剤成分を含有する、レジスト組成物。[式(a01−1)中、W 1 は重合性基含有基である。C t は第3級炭素原子である。R 11 は、置換基を有してもよい不飽和炭化水素基である。C t のα位は、炭素−炭素不飽和結合を構成する炭素原子である。式(a02−1)中、W 2 は重合性基含有基である。Wa 2 は芳香族炭化水素基である。] 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2021033026A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019152373
申请日：2019-08-22
Applicant: 東京応化工業株式会社
Abstract: 【課題】感度が良好で、かつ、ラフネスが改善されたレジスト組成物、レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物の樹脂成分として有用な高分子化合物、及び高分子化合物を製造するために有用な化合物の提供。 【解決手段】一般式(a0)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含む、レジスト組成物(式中、Ya 0 は炭素原子である。Xa 0 は、Ya 0 と共に単環式の炭化水素基を形成する基である。Ra 00 は炭化水素基である。ただし、Xa 0 及びRa 00 の少なくとも一つは、Ya 0 のα位に、炭素−炭素不飽和結合を構成する炭素原子を有している)。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6768370B2
公开(公告)日：2020-10-14
申请号：JP2016123080
申请日：2016-06-21
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/20 , C07C381/12 , C07C309/12 , C09K3/00 , C07D327/04 , G03F7/004
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6715375B2
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：JP2019094831
申请日：2019-05-20
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F212/14 , C08F220/56 , C08F220/30 , G03F7/20 , G03F7/004
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公开(公告)号：JP6670555B2
公开(公告)日：2020-03-25
申请号：JP2015120482
申请日：2015-06-15
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C08F220/28 , C08F220/58 , G03F7/20 , G03F7/039
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公开(公告)号：JP6646990B2
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：JP2015192666
申请日：2015-09-30
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/16 , G03F7/20 , G03F7/038
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公开(公告)号：JP2018092159A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2017225206
申请日：2017-11-22
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D327/04 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0046 , C07C25/18 , C07C307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/86 , C07C2603/88 , C08F10/00 , G03F7/0045 , G03F7/0125 , G03F7/0397
Abstract: 【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物と、を含有するレジスト組成物。式(b1)中、R 01 〜R 014 は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は2個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも2個は相互に結合して環構造を形成する。また、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも1個はアニオン基を有し、アニオン部全体でn価のアニオンとなる。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6307250B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2013236868
申请日：2013-11-15
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F220/10 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/28 , C08F220/36 , C08F220/38 , C08F2220/387 , C08F2220/1858 , C08F2220/283
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