成膜装置
    1.
    发明专利
    成膜装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2020045517A

    公开(公告)日:2020-03-26

    申请号:JP2018174115

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 【課題】コイルに流す電流値を低減させるとともに、磁束密度を調整する。 【解決手段】成膜装置1は、減圧チャンバー内においてワーク11と対面するように配置された蒸発源となるターゲット12と、ターゲット12を着火するための着火装置15と、ターゲット12の外周側に配置された磁場発生用のコイル14と、コイル14に電力を供給するコイル用電源17と、コイル用電源17からコイル14に流れる電流を制御する電流制御器18と、ワーク11とターゲット12の間に電圧を印加する印加用電源16と、ターゲット12の外周側に配置され、所定の磁力を発生させる永久磁石13と、を備え、コイル14は、永久磁石13の外周側に配置されているとともに、永久磁石13により発生する磁場と合わせることで、所定の磁束密度となるように磁場を発生させる。 【選択図】図1

    成膜装置
    2.
    发明专利
    成膜装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2020056068A

    公开(公告)日:2020-04-09

    申请号:JP2018187127

    申请日:2018-10-02

    Abstract: 【課題】コイルが高温となることを抑制しつつ放電位置の調整を行う。 【解決手段】成膜装置1は、減圧チャンバー内においてワーク11と対面するように配置された蒸発源となるターゲット12と、ターゲット12を着火するためのストライカ(着火装置)14と、ターゲット12の外周側に配置された磁場発生用のコイル21と、ワーク11とターゲット12の間に電圧を印加する電源15と、ターゲット12の外周側に配置され、コイル21を内部に収納するとともに、ターゲット12側にスリット13dが形成されているヨーク13と、ターゲット12と、スリット13dとの相対位置を変更するヨーク位置変更機構31と、を備える。 【選択図】図1

    成膜装置
    3.
    发明专利
    成膜装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2018024917A

    公开(公告)日:2018-02-15

    申请号:JP2016158011

    申请日:2016-08-10

    Abstract: 【課題】ガス通路の端部に生成される金属膜の脱落を促進できる成膜装置を提供する。 【解決手段】成膜装置は、ワーク100を収容する内部空間10Aを有する筒状の蒸発源10と、電極15と、蒸発源10の内部空間10Aへガスを供給するガス通路18とを備えている。成膜装置は、蒸発源10と電極15との間で発生するアーク放電によって蒸発源10から放出された金属イオンIをワーク100に堆積させて成膜する。ガス通路18は、蒸発源10の内部空間10A側に配置されている端部である導出路18Cが、第1素材によって構成されている第1部位としての電極15と、第2素材によって構成されている第2部位としての防着材14とを有し、第1素材及び第2素材は、互いに熱膨張係数の異なる素材である。 【選択図】図1

    アーク放電発生装置
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018021245A

    公开(公告)日:2018-02-08

    申请号:JP2016154800

    申请日:2016-08-05

    Abstract: 【課題】蒸発源の交換頻度を少なくすることができるアーク放電発生装置を提供する。 【解決手段】蒸発源21にストライカチップ41を接触させてから、該ストライカチップ41を蒸発源21から離間させることによって、蒸発源21の放電面22からアーク放電を発生させるアーク放電発生装置であって、アーク放電発生装置は、蒸発源21における放電面22に対する裏面23と放電面22とを接続する端面25にストライカチップ41を接触させるように該ストライカチップ41を移動させる駆動機構を備えている。そして、蒸発源21におけるストライカチップ41の移動方向D1の寸法L1が、蒸発源21における放電面22と裏面23との間の寸法L2よりも大きい。 【選択図】図4

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