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    透明導電フィルムの製造方法
    2.
    发明专利
    透明導電フィルムの製造方法 审中-公开
    生产透明导电薄膜的方法

    公开(公告)号：JP2015153680A

    公开(公告)日：2015-08-24

    申请号：JP2014028220

    申请日：2014-02-18

    Applicant: 大倉工業株式会社 ,  昭和電工株式会社

    Inventor： 飯西 健治 ,  中村 朋弥 ,  内田 博 ,  岡▲崎▼ 恵理

    IPC: B05D3/06 ,  B05D5/12 ,  B05D7/24 ,  G06F3/041 ,  H01B13/00

    Abstract: 【課題】基材の変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、導電性を有する透明導電フィルムを製造することができる透明導電フィルムの製造方法を提供する。 【解決手段】基材B表面に導電性を有する層が設けられたフィルムを製造する方法であって、繊維状の導電部材NWを含有させた分散液を調製する分散液調製工程S1と、分散液を基材B表面上に塗工する塗工工程S2と、塗工工程S2によって形成された塗工膜に対して光を照射する光焼成工程S4と、を順に行い、光焼成工程S4において、1回あたりの照射時間が0.01msec以上、50msec以下、1回あたりの照射エネルギーが0.5〜3J/cm 2 、となるように光を照射する。PET等の熱に弱い材質の基材Bを用いた場合であっても、基材Bの変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、適切な導電性を有するフィルムを製造することができる。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制造透明导电膜的方法，该透明导电膜可以在抑制由基板的劣化等引起的雾度值的增加的同时产生具有导电性的透明导电膜。解决方案：制造膜的方法 具有形成在基板B的表面上的具有导电性的层包括：分散制备步骤S1，制备其中结合有纤维状导电部件NW的分散体; 将该分散体涂布在基板B的表面上的涂布工序S2; 以及照射由涂布步骤S2形成的涂膜的光固化步骤S4，其顺序进行。 在光子固化步骤S4中，照射光，使得每次照射的照射时间为0.01毫秒以上且50毫秒以下，每次照射的照射能量为0.5〜3J / cm。 即使使用由容易受热影响的材料构成的基板B（例如PET），也可以抑制基板B的劣化等引起的雾度值的增加而产生具有足够导电性的膜。

    透明電極及び透明電極形成用透明導電性インク
    8.
    发明专利
    透明電極及び透明電極形成用透明導電性インク 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020013792A

    公开(公告)日：2020-01-23

    申请号：JP2019137239

    申请日：2019-07-25

    Applicant: 昭和電工株式会社

    Inventor： 内田 博 ,  宮村 泰直 ,  岡▲崎▼ 恵理 ,  大籏 英樹

    IPC: H01B1/22 ,  C08L101/00 ,  C08K7/06 ,  G02F1/1343 ,  H01B5/14

    Abstract: 【課題】金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを導電成分として用い、表面平滑性、導電性および光透過性を兼ね備えるとともに、生産性の高い透明電極及び透明電極形成用透明導電性インクを提供する。 【解決手段】5〜40℃の範囲で流動性を有さない熱硬化性または熱可塑性のバインダー樹脂を溶媒に溶解させた溶液中に金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブを分散させ、金属ナノワイヤ及び/または金属ナノチューブ100質量部に対してバインダー樹脂100〜200質量部を含む透明導電性インクにより基板上に所望の形状の電極パターンを印刷することにより、表面抵抗が0.1〜500Ω/□であり、表面の算術平均粗さRa≦5nmであり、単一の導電層より構成されている透明電極を得る。 【選択図】なし

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