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    膜形成組成物及びパターン形成方法
    1.
    发明专利
    膜形成組成物及びパターン形成方法 审中-公开
    膜形成用组合物及图案形成方法

    公开(公告)号：JP2017008239A

    公开(公告)日：2017-01-12

    申请号：JP2015126561

    申请日：2015-06-24

    Applicant: 日産化学工業株式会社

    Inventor： 加藤 拓 ,  小林 淳平 ,  首藤 圭介 ,  鈴木 正睦

    IPC: C08K3/22 ,  C08K5/5415 ,  G03F7/11 ,  G02B5/02 ,  C08L83/04

    Abstract: 【課題】高屈折率、高透明性、高耐熱性、高耐光性及び高硬度を有する表示デバイス用膜作製に好適な膜形成組成物、及びパターン形成方法を提供する。 【解決手段】加水分解性シランを非アルコール有機溶剤中で加水分解し縮合して得られる、ケイ素原子と結合したヒドロキシ基を有する重量平均分子量700〜4000のケイ素化合物(A)、1〜100nmの平均粒子径と1.50〜2.70の屈折率を有する無機粒子(B)、硬化触媒(C)、溶剤(D)及び両末端にヒドロキシ基を有するシリコーン化合物(E)を含み、前記無機粒子(B)を100質量部としたとき0.1〜1.0質量部添加されている、膜形成組成物。 【選択図】なし

    Abstract translation: 高折射率，提供高透明性，高耐热性，适合的膜形成用组合物的显示装置用于薄膜生产具有高耐光性和高硬度，和图案形成方法。 在非醇性有机溶剂的水解性硅烷水解和缩合而获得，具有的重均分子量的硅化合物在700〜具有键合到硅原子上（A），1〜100nm的羟基4000 具有平均颗粒直径和1.50-2.70（B）的折射率，固化催化剂（C），溶剂（D）和在两端具有包括（E），无机粒子羟基（B）有机硅化合物的无机粒子 的是按重量计添加0.1至1.0重量份为100重量份时，膜形成组合物。 系统技术领域

    高耐擦傷性インプリント材料
    5.
    发明专利
    高耐擦傷性インプリント材料 有权
    高抗磨损性材料

    公开(公告)号：JP2016195268A

    公开(公告)日：2016-11-17

    申请号：JP2016127039

    申请日：2016-06-27

    Applicant: 日産化学工業株式会社

    Inventor： 小林 淳平 ,  加藤 拓 ,  首藤 圭介 ,  鈴木 正睦

    IPC: B29C59/04 ,  C08F2/44 ,  C08F220/26 ,  C08F290/06 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C08F222/1006 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/027

    Abstract: 【課題】高耐擦傷性インプリント材料を提供する。 【解決手段】(A)成分:炭素原子数2または3のアルキレンオキサイドユニットを有し且つ重合性基を少なくとも2つ有する化合物、(A’)成分:重合性基を少なくとも2つ有し且つ炭素原子数2または3のアルキレンオキサイドユニットを有さない化合物、(B)成分:光重合開始剤、及び(C)成分:界面活性剤を含み、前記重合性基はアクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基及びメタアクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、そして前記(A)成分及び前記(B)成分の総質量に対し、前記(C)成分の割合は0.01phr乃至10phrである、インプリント材料。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供高耐磨损的压印材料。解决方案：压印材料包括：作为组分（A）的具有C2-3环氧烷单元和至少两个可聚合基团的化合物; 具有至少两个可聚合基团但不具有C2-3环氧烷单元的化合物作为组分（A'）; 作为（B）成分的光聚合引发剂; 和作为（C）成分的表面活性剂。 可聚合基团是选自丙烯酰氧基，丙烯酰基，甲基丙烯酰氧基和甲基丙烯酰基中的至少一种。 组分（C）与组分（A）和组分（B）的总质量的比例为0.01-10ph。选择图：无

    インプリント材料
    8.
    发明专利
    インプリント材料 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017002506A1

    公开(公告)日：2018-04-26

    申请号：JP2017526226

    申请日：2016-05-31

    Applicant: 日産化学工業株式会社

    Inventor： 小林 淳平 ,  加藤 拓 ,  首藤 圭介 ,  鈴木 正睦

    IPC: C08F220/28 ,  B29C59/02 ,  C08F2/48 ,  C08F220/54 ,  H01L21/027

    CPC classification number: B29C59/02 ,  C08F2/44 ,  C08F220/26 ,  C08F283/12 ,  C08F290/06 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】新規なインプリント材料を提供すること。【解決手段】下記(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含有するインプリント材料。(A)下記式(1)で表される化合物(B)下記式(2)で表される化合物(C)下記式(3)で表される化合物(D)光重合開始剤【化1】(式中、R1はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R2は置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数1乃至5の炭化水素基を表し、mは2又は3を表し、Xはエチレンオキサイドユニット及び/又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、R3は水素原子又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表し、nは1又は2を表し、nが1を表す場合、R4は、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキル基を表し、nが2を表す場合、R4は、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキレン基を表す。)【選択図】なし

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