分散樹脂組成物及びその用途
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021181584A

    公开(公告)日:2021-11-25

    申请号:JP2021130901

    申请日:2021-08-10

    摘要: 【課題】プライマーとして用いた際に、プレヒートを行わなくとも混層の発生を抑制できるチキソ性を有する、変性ポリオレフィン樹脂を含む分散樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】成分(A):不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸の誘導体、不飽和カルボン酸の無水物、及びラジカル重合性モノマーからなる群から選ばれる一種以上の極性付与剤を用いてポリオレフィン樹脂を変性した変性ポリオレフィン樹脂と、成分(B):カルボキシル化セルロースナノファイバーと、成分(C):分散媒と、を含有する分散樹脂組成物。 【選択図】なし

    ビニルアルコール系重合体含有水溶液、架橋体およびその製造方法

    公开(公告)号:JP2021167382A

    公开(公告)日:2021-10-21

    申请号:JP2020071006

    申请日:2020-04-10

    发明人: 福原 忠仁

    摘要: 【課題】ポットライフが長いビニルアルコール系重合体含有水溶液、及び耐水性に優れかつ伸びに優れた架橋体並びに該架橋体の製造方法を提供する。 【解決手段】ビニルアルコール系重合体を含有する水溶液であって、 水溶性の酸を前記ビニルアルコール系重合体に対して0.1モル%以上10モル%以下含み、 水溶性ポリアルコキシ架橋剤を前記ビニルアルコール系重合体に対して0.01モル%以上10モル%以下含有する、水溶液。 【選択図】なし

    架橋物、積層体および積層体の製造方法

    公开(公告)号:JP2021161142A

    公开(公告)日:2021-10-11

    申请号:JP2020060920

    申请日:2020-03-30

    摘要: 【課題】成形加工が容易で、他基材との層間接着性にも優れる架橋物、積層体および上記積層体の製造方法を提供する。 【解決手段】エチレン・不飽和カルボン酸系共重合体(C1)を有機過酸化物(C2)で架橋した架橋物(C3)であって、上記架橋物(C3)は、以下の測定方法(a)により測定される溶融張力が13mN以上140mN以下である架橋物。測定方法(a):上記架橋物(C3)を190℃に加熱した直径9.55mmのバレルに充填する。上記架橋物(C3)を、直径2.095mmのキャピラリーダイから、ピストン降下速度5mm/分にて、紐状に押し出す。紐状の上記架橋物(C3)を、上記キャピラリーダイの下方300mmの位置に設置したロードセル付きプーリーに通過させ、紐状の上記架橋物(C3)を巻取りロールで巻き取る。紐状の上記架橋物(C3)の巻き取り速度を初速度5.0m/分から4分後に200m/分となるように一定の割合で増加させるときに、紐状の上記架橋物(C3)が破断したときのロードセル付きプーリーにかかる荷重を溶融張力(mN)として求める。 【選択図】なし

    重合体、これを含有する組成物、その硬化方法、およびその硬化物、並びに重合体の製造方法

    公开(公告)号:JPWO2020040094A1

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:JP2019032299

    申请日:2019-08-19

    申请人: 株式会社ADEKA

    发明人: 原 憲司 宮田 渉

    IPC分类号: C08F8/00 C08F8/48 C08F16/38

    摘要: 耐薬品性、特に耐水性に優れ、高精細なパターンでかつ透明性に優れる硬化物を得ることができる組成物に用いる重合体、これを含有する組成物、その硬化方法、およびその硬化物、並びに重合体の製造方法を提供する。 下記一般式(I)、 で表される構造を有する重合体であり、一般式(I)中、R 1 、R 2 、R 3 およびR 4 は、それぞれ独立に、水素原子等を表し、X基は、下記(Iα)または(Iβ)、 で表される基を表し、nは0〜2の整数を表し、*は結合手を表し、一般式(Iα)、(Iβ)中、R 11 、R 12 、R 13 、R 14 、R 15 、R 16 およびR 17 は、それぞれ独立に、水素原子等を表し、*は、結合手を表す。

    塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

    公开(公告)号:JP2021107379A

    公开(公告)日:2021-07-29

    申请号:JP2020197036

    申请日:2020-11-27

    摘要: 【課題】CD均一性(CDU)が良好なレジストパターンを形成する塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。 [式中、Q 1 、Q 2 、R 1 及びR 2 はそれぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基等を表す。zは0〜6の整数を表す。X 1 は、*−CO−O−、*−O−CO−等を表す。L 1 は単結合又は * −L 4 −CO−O−を表し、L 4 は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。R 3 及びR 4 はそれぞれ飽和炭化水素基を表す。X a 及びX b はそれぞれ−O−又は−S−を表す。X 11 はフッ素原子を有してもよい飽和炭化水素基を表す。L 2 は、単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。R 5 は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。Z + は有機カチオンを表す。] 【選択図】なし