公开(公告)号：JP5555977B2

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：JP2008040537

申请日：2008-02-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 陽介 星 ,  芳伊 森下 ,  重昭 舟生

IPC: C08G61/00 ,  C08G65/18 ,  H01L51/50

公开(公告)号：JP5446705B2

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：JP2009234203

申请日：2009-10-08

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 健一 石塚 ,  重昭 舟生 ,  陽介 星

IPC: H05B33/10 ,  B32B7/02 ,  C08G65/18 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50

公开(公告)号：JPWO2011048889A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：JP2011537179

申请日：2010-09-14

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 龍崎　大介 ,  大介 龍崎 ,  成田　武憲 ,  武憲 成田 ,  陽介 星 ,  陽介 星 ,  友洋 岩野 ,  友洋 岩野

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  B24B37/04 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B1/00 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/31053

Abstract: 本発明の研磨剤は、4価の金属水酸化物粒子と、カチオン化ポリビニルアルコールと、アミノ糖、当該アミノ糖の誘導体、アミノ糖を持つ多糖類及び当該多糖類の誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種の糖類と、水と、を含有する。本発明の基板の研磨方法は、酸化シリコン膜(被研磨膜)1が形成されたシリコン基板2の該酸化シリコン膜1を研磨定盤の研磨パッドに押圧した状態で、本発明の研磨剤を酸化シリコン膜1と研磨パッドとの間に供給しながら、基板2と研磨定盤とを相対的に動かして酸化シリコン膜1を研磨する工程を備える。

公开(公告)号：JPWO2011040531A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：JP2011534309

申请日：2010-09-30

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 重昭 舟生 ,  重昭 舟生 ,  石塚　健一 ,  健一 石塚 ,  陽介 星 ,  陽介 星

IPC: H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/0043 ,  C08G61/12 ,  C08G61/123 ,  C08G65/18 ,  C08G73/026 ,  C08G2261/1644 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3162 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/342 ,  C08L63/00 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1433 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0039 ,  H01L51/5056 ,  H01L51/5088 ,  H05B33/14

Abstract: 駆動電圧の低減や安定した長時間駆動が可能な有機エレクトロニクス素子を作製しうる有機エレクトロニクス用材料を提供する。少なくとも、イオン化合物と、電荷輸送性ユニットを有する化合物(以下、電荷輸送性化合物と呼ぶ)とを含有する有機エレクトロニクス用材料であって、前記イオン化合物が、対カチオンと対アニオンからなり、前記対カチオンが、H+、炭素カチオン、窒素カチオン、酸素カチオン、遷移金属を有するカチオンのいずれか1種または2種以上である、有機エレクトロニクス用材料である。

公开(公告)号：JPWO2013141314A1

公开(公告)日：2015-08-03

申请号：JP2014506279

申请日：2013-03-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 吉田　明弘 ,  明弘 吉田 ,  健男 富山 ,  健男 富山 ,  陽介 星 ,  陽介 星 ,  哲也 岡崎 ,  哲也 岡崎 ,  木村　陽一 ,  陽一 木村

IPC: C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  C09J4/00 ,  C09J5/00 ,  C09J11/06

CPC classification number: C08K5/20 ,  C08K5/09 ,  C08K5/1575 ,  C09J4/00 ,  C09J5/00 ,  C09J11/06 ,  G02F1/13338 ,  G02F1/133528 ,  G02F2201/50 ,  H05K1/0298 ,  H05K2201/10128 ,  Y10T428/31938

Abstract: 光重合性官能基を有する化合物(A)及びオイルゲル化剤(B)を含有する光硬化性樹脂組成物に関する。また、画像表示部を有する画像表示ユニットと、透明保護板と、前記画像表示ユニットと前記透明保護板との間に存在する樹脂層とを含む積層構造を有する画像表示装置であって、前記樹脂層は、上記の光硬化性樹脂組成物の硬化物である画像表示装置に関する。

Abstract translation: 具有光聚合性官能团（A）和油胶凝剂（B）含有约的光固化性树脂组合物的化合物。 此外，具有具有图像显示单元的图像显示单元和透明保护板，其特征在于其中所述图像显示单元和透明保护板，该树脂之间存在的树脂层的层叠结构的图像显示装置 层，图像显示装置是光固化性树脂组合物的固化产物。

公开(公告)号：JP5545383B2

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：JP2013027912

申请日：2013-02-15

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 重昭 舟生 ,  陽介 星 ,  芳伊 森下

IPC: C08G61/10 ,  C08G61/12 ,  H01L51/50

公开(公告)号：JP5510526B2

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：JP2012240285

申请日：2012-10-31

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 陽介 星 ,  芳伊 森下 ,  重昭 舟生 ,  義博 津田

IPC: H01L51/50 ,  C08G59/02 ,  C08K5/56 ,  C08L63/00 ,  C08L65/00 ,  H05B33/10

公开(公告)号：JP5423669B2

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：JP2010509192

申请日：2009-04-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 陽介 星 ,  大介 龍崎 ,  直之 小山 ,  茂 野部

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  B24B37/04 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/76224

公开(公告)号：JP5418590B2

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：JP2011518489

申请日：2010-06-03

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 大介 龍崎 ,  陽介 星 ,  茂 野部 ,  和宏 榎本

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  B24B37/11

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/31053

公开(公告)号：JP5412973B2

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：JP2009141060

申请日：2009-06-12

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 陽介 星 ,  重昭 舟生 ,  健一 石塚

IPC: H01L51/42

CPC classification number: Y02E10/549 ,  Y02P70/521