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公开(公告)号：JP2019155221A
公开(公告)日：2019-09-19
申请号：JP2018040928
申请日：2018-03-07
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B01F3/04 , B01F15/04 , H01L21/304 , B01F1/00
Abstract: 【課題】 ガス溶解液の濃度の安定化を実現することのできる循環式ガス溶解液供給装置を提供する。 【解決手段】 循環式ガス溶解液供給装置1は、ガス溶解液の原料となるガスを供給するガス供給部2と、ガス溶解液の原料となる液体を供給する液体供給部3と、液体供給部3から供給された液体にガス供給部2から供給されたガスを溶解させてガス溶解液を生成するガス溶解部4と、ガス溶解部4で生成されたガス溶解液が溜められるガス溶解液槽5と、ガス溶解液槽5からユースポイントUにガス溶解液を供給するための供給配管13と、ユースポイントUに供給したガス溶解液を循環させてガス溶解液槽5に戻すための戻り配管14と、ガス溶解液槽5に戻されるガス溶解液に補充されるガスを供給する補充ガス供給部18と、ガス溶解液槽5に戻されるガス溶解液に補充ガス供給部18から供給されたガスを溶解させる補充ガス溶解部19を備える。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2021061389A
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：JP2020139153
申请日：2020-08-20
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 中川 洋一
Abstract: 【課題】微小気泡を含む液を基板へ吹きかける場合の均一性を向上できるノズル及び基板洗浄装置を提供する。 【解決手段】微小気泡を発生させるノズルにおいて、中空の筐体17と、当該筐体内に設けられ、前記中空を複数の空間に区画する複数の板材21〜23と、を備える。当該筐体の上面または側面には、ガス溶解液が流入し、且つ、当該板材によって区画された空間のうち最も上の空間に連通する流入口15が設けられている。当該板材それぞれには、複数の貫通孔が設けられている。当該筐体の下面には、前記板材によって区画された空間のうち最も下の空間に連通するスリット16が設けられている。 【選択図】図2C
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2021016819A
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2019133217
申请日：2019-07-19
Applicant: 株式会社荏原製作所
Abstract: 【課題】ガス溶解度を向上させるさせることを可能とするガス溶解液製造装置の提供。 【解決手段】液体(超純水DIW)を昇圧するポンプ11と、ポンプ11に連通している配管P3と、供給される気体(オゾンガス)を用いて微小気泡を発生させる、配管P3に設けられたノズル13,15,16と、ノズル13,15,16によって生成された気液混合液を、気体と液体に分離する気液分離タンク17と、を有するガス溶解液製造装置。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2020195967A
公开(公告)日：2020-12-10
申请号：JP2019104150
申请日：2019-06-04
Applicant: 株式会社荏原製作所
Abstract: 【課題】 ガス溶解液の原料となる液体を節約するとともに、生成されるガス溶解液の濃度を安定化することのできるガス溶解液供給装置を提供する。 【解決手段】 ガス溶解液供給装置は、液体供給部から供給された液体にガス供給部から供給されたガスをガス溶解部で溶解させてガス溶解液を生成し、ガス溶解部で生成されたガス溶解液をガス溶解液タンクに溜め、ガス溶解液タンクからユースポイントに供給し、ユースポイントに供給されるガス溶解液のうちガス溶解部に戻されるガス溶解液の流量を測定し、測定結果に応じて、液体供給部からガス溶解部に供給される液体の流量を調整する。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2016089253A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：JP2014228273
申请日：2014-11-10
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: C23C18/32 , H01L21/677 , C23C18/31
CPC classification number: C23C18/32 , C23C18/1628 , C23C18/1632 , C23C18/1675 , C23C18/163
Abstract: 【課題】めっき槽を含む複数の処理槽のいずれかが故障した場合、不良品となる基板の数を減らすことができる無電解めっき装置の運転方法を提供する。 【解決手段】本方法は、処理された基板Wの純水に対する安定性に基づいて予め定められた処理の優先順位を無電解めっき装置に記憶させ、複数の処理槽のいずれかに故障が発生したときに、ホルダ保管槽14内に純水を供給し、優先順位のより高い処理を基板Wに対して実行する救済工程を行うことができるか否かを決定する。救済工程を行うことができる場合には、救済工程を行った後に、基板Wを保持した基板ホルダ42をホルダ保管槽14内の純水中に浸漬させ、救済工程を行うことができない場合には、救済工程を行わずに、基板Wを保持した基板ホルダ42をホルダ保管槽14内の純水中に浸漬させる。 【選択図】図7
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种非电解电镀装置的操作方法，其能够在包括电镀槽的多个处理槽中的任何一个不能正常工作的情况下减少不良基板的数量。解决方案：非电解电镀装置的操作方法 ：使非电解电镀装置基于经处理的基板W对纯水的稳定性而存储预定处理的优先顺序; 确定当多个处理罐中的任何一个处理罐不能正常工作时，是否可以执行补偿处理，以便在供应到保持器储存箱14的纯水中对基板W施加较高优先级处理; 当确定可以执行补救处理时，在执行补救处理之后，将保持衬底W的衬底保持器42浸入保持器存储罐14中的纯水中; 并且当确定不能执行补救处理时，将没有执行补救处理的将基板W保持在纯水中的基板保持件42浸没在保持器储存箱14中。图7
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公开(公告)号：JP2020175338A
公开(公告)日：2020-10-29
申请号：JP2019080067
申请日：2019-04-19
Applicant: 株式会社荏原製作所
Abstract: 【課題】機能水製造装置とは別の、処理装置にて使用する機能水の濃度を制御する。 【解決手段】本発明のシステムにおいては、機能水製造装置で生成され、処理装置で使用される機能水の濃度を制御する。機能水製造装置側の濃度計で測定した機能水の濃度が目標濃度に達した場合に、目標濃度に達した機能水を処理装置に供給する、機能水製造装置と、処理装置に供給された機能水の濃度を測定する、処理装置側濃度計と、処理装置側濃度計で測定した機能水の濃度を目標濃度と比較して、機能水の濃度と目標濃度との間に差がある場合に、処理装置で使用される機能水の濃度を制御するよう指示をする制御装置と、を備える機能水濃度制御システム。 【選択図】図1
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