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公开(公告)号:JP5713011B2
公开(公告)日:2015-05-07
申请号:JP2012515932
申请日:2011-05-19
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/004 , C07C69/653 , C07C69/753 , C07D307/93 , C08F22/18 , C08F220/26 , C08F24/00 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041 , C08F220/24
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6.酸拡散制御剤、フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び化合物の製造方法 有权
Title translation: 酸扩散控制剂,光致抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法中,化合物和化合物的制造方法 -
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