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    重合体
    7.
    发明专利
    重合体 有权
    聚合物

    公开(公告)号：JP2015078385A

    公开(公告)日：2015-04-23

    申请号：JP2015005395

    申请日：2015-01-14

    Applicant: JSR株式会社

    Inventor： 中原 一雄 ,  中島 浩光 ,  木村 礼子

    IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C08F220/28

    CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/0382

    Abstract: 【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物の成分として好適な重合体の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、下記式(i)で表される基を含む構造単位(I)を有し、上記構造単位(I)の全構造単位に対する含有割合が10モル%以上100モル%以下である重合体である。 (式(i)中、R a は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、−R a1 、−O−R a1 、−CO−R a1 又は−CO−O−R a1 である。R b は、少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜10の1価の鎖状炭化水素基又は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数3〜20の1価の脂肪族環状炭化水素基である。) 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供适合作为辐射敏感性树脂组合物的组分的聚合物，其能够提供具有这样的性质的抗蚀剂涂层，使得抗蚀剂涂层的表面在浸没时暴露时具有高的动态接触角 因此，具有优异的排水性能，而抗蚀剂涂层与碱性显影剂和漂洗溶液呈现高溶解度并抑制显影缺陷的产生。溶液：该聚合物具有包含由式 （i）中，结构单元（I）的含有率相对于整个结构单元为10摩尔％以上且100摩尔％以下。 在式（ⅰ）中，R表示氢原子，卤原子，硝基，R，-O-R，-CO-R或-CO-O-R; 并且表示具有至少一个氟原子的1-10C直链烃基或具有至少一个氟原子的3-20C一价脂族环烃基。

    レジストパターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物
    8.
    发明专利
    レジストパターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物 有权
    形成电阻图案和辐射敏感性树脂组合物的方法

    公开(公告)号：JP2015143867A

    公开(公告)日：2015-08-06

    申请号：JP2015035925

    申请日：2015-02-25

    Applicant: JSR株式会社

    Inventor： 榊原 宏和 ,  古川 泰一 ,  木村 礼子 ,  堀 雅史

    IPC: G03F7/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/038

    CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

    Abstract: 【課題】有機溶媒を含有する現像液を用いるレジストパターン形成方法において、レジスト膜のパターン形成後の膜減りを抑制することができると共に、CDU、MEEFに優れるレジストパターンを形成することができ、解像性も十分満足する感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】(1)感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布するレジスト膜形成工程、(2)露光工程、及び(3)有機溶媒を80質量%以上含有する現像液を用いる現像工程を有するレジストパターン形成方法であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]ポリスチレン換算重量平均分子量が6,000を超え、酸解離性基を含む構造単位を有し、水酸基を含む構造単位の含有割合が5モル%未満である重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够抑制图案化后的抗蚀剂膜的膜还原的辐射敏感性树脂组合物，能够形成CDU（临界尺寸均匀性）和MEEF（掩模误差增强因子）优异的抗蚀剂图案 使用包含有机溶剂的显影剂形成抗蚀剂图案，并且显示出足够的分辨率，以及使用上述组成形成抗蚀剂图案的方法。溶胶：形成抗蚀剂图案的方法包括以下步骤：（1）形成 通过在基材上施加辐射敏感性树脂组合物来形成抗蚀剂膜; （2）曝光抗蚀膜; 和（3）通过使用含有80质量％以上的有机溶剂的显影剂显影抗蚀剂膜。 辐射敏感性树脂组合物包含：[A]以聚苯乙烯换算的重均分子量大于6000的聚合物，具有包含酸解离基团的结构单元，其中含有羟基的结构单元的含量百分数 组小于5mol％; 和[B]辐射敏感酸产生剂。

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